Ordered block-copolymer assembly using nanoimprint lithography

Nano Letters

Volumn 4, Issue 9, 2004, Pages 1633-1636

  Li, Hong Wei ^a   Huck, Wilhelm T S ^a  

^a NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPOLYMER; POLY(METHYL METHACRYLATE); POLYSTYRENE; SILICON;

ARTICLE; NANOPARTICLE; SEPARATION TECHNIQUE; SURFACE PROPERTY;

EID: 4644288208     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl049209r     Document Type: Article

References (23)

1. Park, M.; Harrison, C. K.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. Science 1997, 276, 1401.
2. Hamley, I. W. Nanotechnology 2003, 14, R39.
3. Jeong, U.; Ryu, D. Y.; Kim, J. K.; Kim, D. H.; Wu, X.; Russell, T. P. Macromolecules 2003, 36, 10126.
4. Morkved, T. L.; Lu, M.; Urbas, A. M.; Ehrichs, E. E.; Jaeger, H. M.; Mansky, P.; Russell, T. P. Science 1996, 273, 931.
5. Thurn-Albrecht, T.; Steiner, R.; DeRouchey, J.; Stafford, C. M.; Huang, E.; Bal, M.; Tuominen, M.; Hawker, C. J.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2000, 12, 787.
6. Thurn-Albrecht, T.; Schotter, J.; Kästle, G. A.; Emley, N.; Shibauchi, T.; Krusin-Elbaum, L.; Guarini, K.; Black, C. T.; Tuominen, M. T.; Russell, T. P. Science 2000, 290, 2126.
7. Segalman, R. A.; Yokoyama, H.; Kramer, E. J. Adv. Mater. 2001, 13, 1152.
8. Guarini, K. W.; Black, C. T.; Yeung, S. H. I. Adv. Mater. 2002, 14, 1290.
9. Cheng, J. Y.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Smith, H. I.; Vancso, G. J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3657.
10. Sundrani, D.; Darling, S. B.; Sibener, S. J. Nano Lett. 2004, 4, 273.
11. Thurn-Albrecht, T.; DeRouchey, J.; Russell, T. P.; Kolb, R. Macromolecules 2002, 35, 8106.
12. Mansky, P.; Liu, Y.; Huang, E.; Russell, T. P.; Hawker, C. Science 1997, 275, 1458.
13. Kim, S. H.; Misner, M. J.; Xu, T.; Kimura, M.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2004, 16, 226.
14. Segalman, R. A.; Hexemer, A.; Kramer, E. J. Macromolecules 2003, 36, 6831.
15. Yang, X. M.; Peters, R. D.; Nealey, P. F.; Solak, H. H.; Cerrina, F. Macromolecules 2000, 33, 9575.
16. Kim, S. O.; Solak, H. H.; Stoykovich, M. P.; Ferrier, N. J.; de Pablo, J. J.; Nealey, P. F. Nature 2003, 424, 411.
17. Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Zhang, W.; Guo, L.; Zhuang, L. J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 2897.
18. Guarini, K. W.; Black, C. T.; Milkove, K. R.; Sandstrom, R. L. J. Vac. Sci. Technol. B 2001, 19, 2784.
19. Li, R. R.; Dapkus, P. D.; Thompson, M. E.; Jeong W. G.; Harrison, C.; Chaikin, P. M.; Register, R. A.; Adamson, D. H. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1689.
20. Shin, K.; Leach, K. A.; Goldbach, J. T.; Kim, D. H.; Jho, J. Y.; Tuominen, M.; Hawker, C. J.; Russell, T. P. Nano Lett. 2002, 2, 933.
21. Kindly provided by Dr. Craig J. Hawker, IBM Almaden Research Center.
22. Zhang, P.; Blum, F. D. Macromolecules 2003, 36, 8522.
23. Knoll, A.; Horvat, A.; Lyakhova, K. S.; Krausen, G.; Sevink, G. J. A.; Zvelindovsky, A. V.; Magerle, R. Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 35501.