Light-induced reactions of porous and single-crystal Si surfaces with carboxylic acids

Journal of the American Chemical Society

Volumn 118, Issue 23, 1996, Pages 5375-5382

  Lee, Eric J ^a   Bitner, Theodore W ^a   Ha, James S ^a   Shane, Michael J ^a   Sailor, Michael J ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ESTER; SILICON;

ARTICLE; INFRARED SPECTROPHOTOMETRY; PHOTOCHEMISTRY; REACTION ANALYSIS; X RAY ANALYSIS;

EID: 0029941832     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja960777l     Document Type: Article

References (73)

1. Waltenburg, H. N.; Yates, J. T. Chem. Rev. 1995, 95, 1589-1673.
2. Maoz, R.; Sagiv, J. J. Colloid Interface Sci. 1984, 100, 465-496.
3. Murray, R. W. Acc. Chem. Res. 1980, 13, 135-141.
4. Allara, D. L.; Parikh, A. N.; Rondelez, F. Langmuir 1995, 11, 2357-2360.
5. Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12631-12632.
6. Linford, M. R.; Fenter, P.; Eisenberger, P. M.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3145-3155.
7. Warntjes, M.; Vieillard, C.; Ozanam, F.; Chazalviel, J.-N. J. Electrochem. Soc. 1995, 42, 4138-4142.
8. Lee, E. J.; Ha, J. S.; Sailor, M. J. In Materials Research Society Symposium Proceedings: Microcrystallite and Nanocrystalline Semiconductors; Collins, R. W., Tsai, C. C., Hirose, M., Koch, F., Brus, L., Eds.; MRS: Pittsburgh, PA, 1995; Vol. 358; pp 387-392.
9. Pawlenko, S. Organosilicon Chemistry; Walter de Gruyter: Berlin, 1986.
10. Eaborn, C. Organosilicon Compounds; Academic Press: New York, 1960.
11. Lee, E. J.; Ha, J. S.; Sailor, M. J. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 8295-8296.
12. Tufts, B. J.; Kumar, A.; Bansal, A.; Lewis, N. S. J. Phys. Chem. 1992, 96, 4581-4592.
13. Bolts, J. M.; Bocarsly, A. B.; Palazzotto, M. C.; Walton, E. G.; Lewis, N. S.; Wrighton, M. S. J. Am. Chem. Soc. 1979, 101, 1378-1385.
14. Bard, A. J.; Abruna, H. D.; Chidsey, C. E.; Faulkner, L. R.; Feldberg, S. W.; Itaya, K.; Majda, M.; Melroy, O.; Murray, R. W.; Porter, M. D.; Soriaga, M. P.; White, H. S. J. Phys. Chem. 1993, 97, 7147-7173.
15. Inganas, O.; Skotheim. T.; Lundstrom, I. Phys. Scr. 1981, 25, 863-867.
16. Yoneyama, H.; Kitayama, M. Chem. Lett. 1986, 657-660.
17. Inganas, O.; Lundstrom, I. J. Electrochem. Sci. 1984, 131, 1129-1132.
18. O'Regan, B.; Gratzel, M. Nature 1991, 353, 737-740.
19. Moreau, W. M. Semiconductor Lithography; Principles, Practices, and Materials; Plenum Press: New York, 1988.
20. Snow, E. S.; Campbell, P. M. Science 1995, 270, 1639-1641.
21. Sohn, L. L.; Willett, R. L. Appl. Phys. Lett 1995, 67, 1552-1554.
22. Muller, W. T.; Klein, D. L.; Lee, T.; Clarke, J.; McEuen, P. L.; Schultz, P. G. Science 1995, 268, 272-273.
23. The Technology of Proximal Probe Lithography; Marrian, C. R. K., Ed.; SPIE: Bellingham, WA, 1993.
24. Quate, C. F. In Highlights in Condensed Matter Physics and Future Prospects; Esaski, L., Ed.; Plenum: New York, 1991.
25. Schoer, J. K.; Ross, C. B.; Crooks, R. M.; Corbitt, T. S.; Hampden-Smith, M. J. Langmuir 1994, 10, 615-618.
26. Perkins, F. K.; Dobisz, E. A.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Calvert, J. M.; Rhee, K. W.; Kosakowski, J. E.; Marrian, C. R. K. J. Vac. Sci. Technol. B 1994, 12, 3725-3730.
27. Dagata, J. A.; Schneir, J.; Haray, H. H.; Evans, C. J.; Postek, M. T.; Bennett, J. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 2001-2003.
28. Kobayashi, A.; Grey, F.; Williams, R. S.; Aono, M. Science 1993, 259, 1724-1726.
29. Perkins, F. K.; Dobisz, E. A.; Brandow, S. L.; Calvert, J. M.; Kosakowshi, J. E.; Marrian, C. R. K. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 550-552.
30. Marrian, C. R. K.; Perkins, F. K.; Brandow, S. L.; Koloski, T. S.; Dobisz, E. A.; Calvert, J. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 390-392.
31. Lercel, M. J.; Redinbo, G. F.; Rooks, M.; Tiberio, R. C.; Craighead, H. G.; Sheen, C. W.; Allara, D. L. Microelectron. Eng. 1995, 27, 43-46.
32. Kumar, A.; Biebuyck, H. A.; Whitesides, G. M. Langmuir 1994, 10, 1498-1511.
33. Jackman, R. J.; Wilbur, J. L.; Whitesides, G. M. Science 1995, 269, 664-666.
34. Bhatia, S. K.; Hickman, J. J.; Ligler, F. S. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 4432-4433.
35. Huang, J.; Dahlgren, D. A.; Hemminger, J. C. Langmuir 1994, 10, 626-628.
36. Wollman, E. W.; Kang, D.; Frisbie, C. D.; Lorkovic, I. M.; Wrighton, M. S. J. Am. Chem. Soc. 1994, 116, 4395-4404.
37. Kang, D.; Wrighton, M. S. Langmuir 1991, 7, 2169-2174.
38. Rozsnyai, L. F.; Benson, D. R.; Fodor, S. P. A.; Schultz, P. G. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1992, 31, 759-761.
39. Rozsnyai, L. F.; Wrighton. M. S. Langmuir 1995, 11, 3913-3920.
40. Wolf, M. O.; Fox, M. A. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 1845-1846.
41. Dulcey, C. S.; Georger, J. H., Jr.; Krauthamer, V.; Stenger, D. A.; Fare, T. L.; Calvert, J. M. Science 1991, 252, 551-554.
42. Calvert, J. M. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 2155-2163.
43. Dressick, W. J.; Calvert, J. M. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 5829-5839.
44. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H., Jr.; Calvert, J. M. Chem. Mater. 1993, 5, 148-150.
45. Ferraro, J. R.; Rein, A. J. In Fourier Transform Infrared Spectroscopy - Applications to Chemical Systems; Ferraro, J. R., Basile, L. J., Eds.; Academic Press: New York, 1985; Vol. 4, pp 243-282.
46. Shriver, D. F.; Drezdzon, M. A. The Manipulation of Air-Sensitive Compounds. 2nd ed.; John Wiley and Sons, Inc: New York, 1986.
47. Smith, R. L.; Collins, S. D. J. Appl. Phys. 1992, 71, R1-R18.
48. Bjorkman, C. H.; Alay, J. L.; Nishimura, H.; Fukuda, M.; Yamazaki, T.; Hirose, M. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2049-2051.
49. Canham, L. T. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 1046-1048.
50. Lehmann, V.; Gosele, U. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 856-858.
51. Chabal, Y. J. Physica B 1991, 170, 447-456.
52. Chabal, Y. J. J. Mol. Struct. 1993, 292, 65-80.
53. Gupta, P.; Dillon, A. C.; Bracker, A. S.; George, S. M. Surf. Sci. 1991, 245, 360-372.
54. Anderson, D. R. In Analysis of Silicones; Smith, A. L., Ed.; Wiley and Sons: New York, 1974; pp 247-286.
55. Glass, J. A.; Wovchko, E. A.; Yates, J. T. Surf. Sci. 1995, 338, 125-137.
56. Kato, Y.; Ito, T.; Hiraki, A. Appl. Surf. Sci. 1989, 41/42, 614-618.
57. O'Keeffe, P.; Aoyagi, Y.; Komura, S.; Kato, T.; Morikawa, T. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 836-838.
58. Yamada, M.; Kondo, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, L993-L996.
59. Crowell, J. E.; Chen, J. G.; Yates, J. T., Jr. J. Chem. Phys. 1986, 85, 3111-3122.
60. Allara, D. L.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1985, 1, 45-52.
61. Yurev, Y. K.; Belyakova, Z. V. Russian Chem. Rev. 1960, 29, 383-394.
62. Schafer, H.-J. In Electrochemistry IV; Steckhan, E., Ed.; Springer-Verlag; Berlin, 1990; Vol. 152, pp 91-144.
63. Bard, A. J. Science 1980, 207, 139-144.
64. Theiss, W.; Grosse, P.; Munder, H.; Luth, H.; Herino, R.; Ligeon, M. Appl. Surf. Sci. 1993, 63, 240-244.
65. Lee, E. J.; Bitner, T. W.; Hall, A. P.; Sailor, M. J. J. Vac. Sci. Technol. A In press.
66. Kallury, K. M. R.; Krull, U. J.; Thompson, M. Anal. Chem. 1988, 60, 169-172.
67. Lee, S.; Makan, S.; Holl, M. M. B.; McFeely, F. R. J. Am. Chem. Soc. 1994, 116, 11819-11826.
68. Raider, S. I.; Flitsch, R. IBM J. Res. Develop. 1978, 22, 294-303.
69. Wagner, C. D.; Riggs, W. M.; Davis, L. E.; Moulder, J. F.; Muilenberg, G. E. Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy; Perkin-Elmer Corporation: Eden Prairie, MN, 1978.
70. Gelius, U.; Heden, P. F.; Hedman, J.; Lindberg, B. J.; Manne, R.; Nordberg, R.; Nordling, C.; Siegbahn, K. Phys. Scr. 1970, 2, 70-80.
71. Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements; Pergamon Press: Oxford, 1984, pp 389.
72. Ito, T.; Yasumatsu, T.; Watabe, H.; Hiraki, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 201-204.
73. Doan, V. V.; Sailor, M. J. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 619-620.