GaN MSM Ultraviolet Photodetectors with Transparent and Thermally Stable RuO2 and IrO2 Schottky Contacts

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 151, Issue 3, 2004, Pages

  Kim, Jong Kyu ^a   Lee, Jong Lam ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; CHEMICAL BONDS; CURRENT DENSITY; GALLIUM NITRIDE; IRIDIUM COMPOUNDS; LEAKAGE CURRENTS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MICROSTRUCTURE; OPACITY; PHOTOEMISSION; RUTHENIUM COMPOUNDS; SCHOTTKY BARRIER DIODES; SEMICONDUCTING FILMS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

HIGH RESOLUTION X-RAY DIFFRACTION (HRXRD); SYNCHROTRON RADIATION PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY (SRPES);

ULTRAVIOLET DETECTORS;

EID: 1842477926     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1644610     Document Type: Article

References (36)

1. J. I. Pankove, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 162, 515 (1990).
2. E. Munoz, E. Monroy, J. L. Pau, F. Calle, F. Omnes, and P. Gibart, J. Phys.: Condens. Matter, 13, 7115 (2001).
3. M. Razegi and A. Rogalski, J. Appl. Phys., 79, 7433 (1996).
4. G. M. Smith, J. M. Redwing, R. P. Vaudo, E. M. Ross, J. S. Flynn, and V. M. Phanse, Appl. Phys. Lett., 75, 25 (1999).
5. J. T. Torvik, J. I. Pankove, S. Nakamura, I. Grzegory, and S. Porowski, J. Appl. Phys., 86, 4588 (1999).
6. M. A. Khan, J. N. Kuznia, D. T. Olson, J. M. van Hove, M. Blasingame, and L. F. Reitz, Appl. Phys. Lett., 60, 2917 (1992).
7. J. C. Carrano, P. A. Grudowski, C. J. Eiting, R. D. Dupuis, and J. C. Campbell, Appl. Phys. Lett., 70, 1992 (1997).
8. Z. M. Zhao, R. L. Ziang, P. Chen, D. J. Xi, Z. Y. Luo, R. Zhang, B. Shen, Z. Z. Chen, and T. D. Zheng, Appl. Phys. Lett., 77, 444 (2000).
9. S. W. Seo, K. K. Lee, S. Kang, S. Huang, W. A. Doolittle, N. M. Jokerst, and A. S. Brown, Appl. Phys. Lett., 79, 1372 (2001).
10. C. H. Chen, S. J. Chang, Y. K. Su, G. C. Chi, J. Y. Chi, C. A. Chang, J. K. Sheu, and J. F. Chen, IEEE Photonics Technol Lett., 13, 848 (2001).
11. P. W. Deelman, R. N. Bicknell-Tassius, S. Nikishin, V. Kuryatkov, and H. Temkin, Appl. Phys. Lett., 78, 2172 (2001).
12. Q. Chen, J. W. Yang, A. Osinsky, S. Gangopadhyay, B. Lim, M. Z. Anwar, M. Asif Khan, D. Kuksenkov, and H. Temkin, Appl. Phys. Lett., 70, 2277 (1997).
13. V. Adivarahan, G. Simin, J. W. Yang, A. Lunev, M. Asif Khan, N. Pala, M. Shur, and R. Gaska, Appl. Phys. Lett., 77, 863 (2000).
14. J. L. Pau, E. Monroy, F. B. Naranjo, E. Munoz, F. Calle, M. A. Sanchez-Garcia, and E. Calleja, Appl. Phys. Lett., 76, 2785 (2000).
15. T. Li, A. L. Beck, C. Collins, R. D. Dupuis, J. C. Campbell, J. C. Carrano, M. J. Shurman, and I. A. Ferguson, Appl. Phys. Lett., 75, 2421 (1999).
16. G. Parish, S. Keller, P. Kozodoy, J. P. Ibbetson, H. Marchand, P. T. Fini, S. B. Fleischer, S. P. Denbaars, U. K. Mishra, and E. J. Tarsa, Appl. Phys. Lett., 75, 247 (1999).
17. E. J. Tarsa, P. Kozodoy, J. P. Ibbetson, B. P. Keller, G. Parish, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett., 77, 316 (2000).
18. K. A. McIntosh, R. J. Molnar, L. J. Mahoney, A. Lightfoot, M. W. Geis, K. M. Molvar, I. Melngailis, R. L. Aggarwal, W. D. Goodhue, S. S. Choi, D. L. Spears, and S. Verghese, Appl. Phys. Lett., 75, 3485 (1999).
19. J. C. Carrano, D. J. H. Lambert, C. J. Eiting, C. J. Collins, T. Li, S. Wang, B. Yang, A. L. Beck, R. D. Dupuis, and J. C. Campbell, Appl. Phys. Lett., 76, 924 (2000).
20. S. E. Mohney and X. Lin, J. Electron. Mater., 25, 811 (1996).
21. H. S. Venugopalan, S. E. Mohney, B. P. Luther, S. D. Weiter, and J. M. Redwing, J. Appl. Phys., 82, 650 (1997).
22. K. J. Duxstad, E. E. Haller, and K. M. Yu, J. Appl. Phys., 81, 3134 (1996).
23. A. C. Schmitz, A. T. Ping, M. A. Khan, Q. Chen, J. W. Yang, and I. Adesida, Electron. Lett., 32, 1832 (1996).
24. H. S. Venugopalan, S. E. Mohney, B. P. Luther, J. M. DeLucca, S. D. Wolter, J. M. Redwing, and G. E. Bulman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 497, 431 (1997).
25. L. F. Mattheiss, Phys. Rev. B, 13, 2433 (1976).
26. E. Kolawa, F. C. T. So, W. Flick, X.-A. Zhao, E. T. Pan, and M.-A. Nicolet, Thin Solid Films, 173, 217 (1989).
27. L. Krusin-Elbaum and M. Wittmer, J. Electrochem. Soc., 135, 2610 (1997).
28. H. Zhong, G. Heuss, V. Misra, H. Luan, C.-H. Lee, and D.-L. Kwong, Appl. Phys. Lett., 78, 1134 (2001).
29. L. Krusin-Elbaum and M. Wittmer, J. Electrochem. Soc., 135, 2610 (1988).
30. S.-H. Lee, J.-K. Chun, J.-J. Hur, J.-S. Lee, G.-H. Rue, Y.-H. Bae, S.-H. Hah, Y.-H. Lee, and J.-H. Lee, IEEE Electron Device Lett., 21, 261 (2000).
31. H. W. Jang, W. Urbanek, M. C. Yoo, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett., 80, 2937 (2002).
32. H. W. Jang and J.-L. Lee, J. Appl. Phys. Lett., Submitted.
33. E. H. Rhoderick and R. H. Williams, Metal-Semiconductor Contacts, p. 38, Clarendon, Oxford (1988).
34. D. Briggs, Handbook of X-Ray and Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, p. 131, Heyden & Sons, Ltd., London, (1978).
35. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer Corp. Eden Prairie, MN (1992).
36. B. E. A. Saleh and M. C. Teich, Fundamentals of Photonics, p. 644, John Wiley & Sons, Inc., New York, (1991).