Growth of IrO2 films and nanorods by means of CVD: An example of compositional and morphological control of nanostructures

Chemical Vapor Deposition

Volumn 9, Issue 6, 2003, Pages 301-305

  Chen, Reui San ^a   Chen, Yi Sin ^a   Huang, Ying Sheng ^a   Chen, Yao Lun ^b   Chi, Yun ^b   Liu, Chao Shiuan ^b   Tiong, Kwong Kau ^c   Carry, Arthur J ^d  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Taiwan)

^b NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^c NATIONAL TAIWAN OCEAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^d NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DYNAMIC RANDOM ACCESS STORAGE; ELECTRIC RESISTANCE; ELECTROCHROMIC DEVICES; IRIDIUM COMPOUNDS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; OXYGEN;

COMPOSITIONAL CONTROL; MORPHOLOGICAL CONTROL; NANORODS;

THIN FILMS;

EID: 1642609110     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200304153     Document Type: Article

References (37)

1. S. F. Cogan, T. D. Plante, R. S. McFadden, R. D. Rauh, Sol. Energy Mater. 1987, 16, 37l.
2. a) A. Osaka, T. Takatsuna, Y. Miura, J. Non-Crysl. Solids 1994, 178, 313.
3. b) G. Chen, X. Chen, P. L. Yue, J. Phys. Chem. 2002, 706, 4364.
4. C. U. Pinnow, I. Kasko, C. Dehm, B. Jobst, M. Seibt, U. Geyer, J. Vac. Sci. Technol. B 2001, 19, 1857.
5. a) T. Nakamura, Y. Nakao, A. Kamisawa, H. Takasu, Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 1522.
6. b) Y. J. Song, H. H. Kim, S. Y. Lee, D. J. Jung, B. J. Koo, J. K. Lee, Y. S. Park, H. J. Cho, S. O. Park, K. Kim. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 451.
7. a) H. S. Lee, W. S. Um, K. T. Hwang, H. G. Shin, Y. B. Kim, K. H. Auh, J. Vac. Sci. Technol. A 1999, 17, 2939.
8. b) J. C. Shin, C. S. Hwang, H. J. Kim, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1609.
9. c) K. Kushida-Abdelghafar, Y. Fujisaki, Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, L804.
10. B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, S. Aggarwal, B. E. Gnade, R. Ramesh, J. M. Bernhand, E. D. Sosa, D. E. Golden, Appl. Phys. Lett, 1999, 74, 1394.
11. a) P. C. Liao, W. S. Ho, Y. S. Huang, K. K. Tiong, J. Mater. Res. 1998, 13, 1318.
12. b) R. H. Horng, D. S. Wuu, L. H. Wu, M. K. Lee. Thin Solid Films 2000, 373, 231.
13. a) M. A. El Khakani, M. Chaker, E. Gat, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 2027.
14. b) A. M. Serventi, M. A. El Khakani, R. G. Saint-Jacques, D. G. Rickerby, J. Mater. Res. 2001, 16, 2336.
15. B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, S, Aggarwal, B. E. Gnade, R. Ramesh, J. M. Bernhard, E. D. Sosa, D. E. Golden. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 1394.
16. a) R. J. Puddephatt, Polyhedron 1994, 13, 1233.
17. b) F. Maury, Chem. Vap. Depositum 1996, 2, 113.
18. a) J. B. Hoke, E. W. Stern, H. H. Murray, J. Mater. Chem. 1991, 1, 551.
19. b) N. V. Gelfond, F. V. Tuzikov, I. K. Igumenov, Thin Solid Films 1993, 227, 144.
20. c) R. Vargas, T. Goto, W. Zhang, T. Hirai, Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 1094.
21. d) C. Xu, T. H. Baum, A. L. Rheingold, Chem. Maier. 1998, 10, 2329.
22. e) Y.-M. Sun, J. P. Endle, K. Smith, S. Whaley, R. Mahaffy, J. G. Ekerdt, J. M. White, R. L. Hance, Thin Solid Films 1999, 346, 100.
23. f) Y.-L. Chea, C.-S. Liu, Y. Chi, A. J. Carty, S.-M. Peng, G.-H. Lee, Chem. Vap. Depositum 2002, 8, 17.
24. F. Maury, F. Senocq, Surf. Coat. Technol. 2003, 163-164, 208.
25. M. Pueckert, Surf. Sci. 1984, 144, 451.
26. a) Y. M. Sun, X. M. Yan, N. Mettiach, J. P. Endle, P. D. Kirsch, J. G. Ekerdt, S. Madhukar, R. L. Hance, J. M. White. J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 10.
27. b) J. P. Endle, Y.-M. Sun, N. Nguyen, S. Madhukar, R. L. Hance, J. M. While, J. G. Ekerdt, Thin Solid Films 2001, 388, 126.
28. B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, S. Aggarwal, S. R. Perusse, B. E. Gnade, R. Ramesh, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 1919.
29. M. A. El Khakani, M. Chaker, Thin Solid Films 1998, 335, 6.
30. P. C. Liao, Y. S. Huang, K. K. Tiong, J. Alloys Compd. 2001, 317-318, 98.
31. J. Vetrone, C. M. Foster, G-R, Bai, A. Wang, J. Patel, X. Wu, J. Mater, Res. 1998, 13, 2281.
32. Y. S. Huang, S. S. Lin, C. R. Huang, M. C. Lee, T. E. Dann, F. Z. Chien, Solid Slate Commun. 1989, 70, 517.
33. P. C. Liao, C. S. Chen, W. S Ho, Y. S. Huang, K. K. Tiong. Thin Solid Films 1997, 301, 7.
34. a) J. Hu, T. W. Odom, C. M. Lieber, Acc. Chem. Res. 1999, 32, 435.
35. b) P. Yang, H. Yan, S, Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 323.
36. a) Y. Chi, H.-L. Yu, W.-L. Ching, C.-S. Liu, Y.-L. Chen, T.-Y. Chou, S.-M. Peng, G.-H. Lee, J. Mater, Chem. 2002, 12, 1363.
37. b) R.-S. Chen, Y-S. Huang, Y.-L. Chen, Y. Chi, Thin Solid Films 2002, 413, 85.