Electrical characteristics and thermal stability of Pt/HfO2Si metal-insulatror-semiconductror capacitors

Integrated Ferroelectrics

Volumn 48, Issue , 2002, Pages 13-21

  Choi, Kyu Jeong ^a   Shin, Woong Chul ^a   Park, Jong Bong ^a   Yoon, Soon Gil ^a  

^a Chungnam National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 14544301312     PISSN: 10584587     EISSN: 16078489     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/00268978300100021     Document Type: Article

References (12)

1. D. A. Buchanan, IBM J. Res. Develop. 43(3), 245 (1999)
2. B. H. Lee, L. Kang, W. J. Qi, R. Nieh, Y. Jeon, K. Onishi, and J. C. Lee, Tech. Dig. Int.Electron Devices Meet. 133 (1999).
3. B. H. Lee, R. Choi, L. Kang, S. Gopalan, R. Nieh, K. Onishi, Y Jeon, W. Qi, C. Kang, and J. C. Lee, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 39 (2000).
4. G. D. Wilk and R. M. Wallace, Appl. Phys. Lett. 74, 2854 (1999).
5. S. J. Lee, H. F. Luan, W. P. Bai, C. H. Lee, T. S. Jeon, Y. Senzaki, D. Roberts, and D. L. Kwong, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 31 (2000).
6. L. Kang, K. Onishi, Y. Jeon, B. H. Lee, C. Kang, W. Qi, R. Nieh, S. Gopalan, R. Choi, and J. C. Lee, Tech. Dig. Int. Electron Devices Meet. 35 (2000).
7. K. J. Choi, W. C. Shin, and S. G. Yoon, J. Electrochem. Soc. 149(3), F18 (2002)
8. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
9. K. Y. Lim, D. G. Park, H. J. Cho, J. J. Kim, J. M. Yang, I. S. Choi, I. S. Yeo, and J. W. Park, J. Appl. Phys. 91, 414 (2002).
10. B. Brar, G. D. Wilk and A. C. Seaburgh, Appl. Phys. Lett. 69, 2728 (1996).
11. S. J. Lee, H. F. Luan, C. H. Lee, T. A. Jeon, W. P. Bai, Y. Senzaki, D. Roberts. and D. L. Kwong, Symp. On VLSI Tech. 133 (2001)
12. C. H. Lee, J. J Lee, W. P. Bai, S. H. Bae, J. H. Sim, R. D. Clark, Y. Harada, M. Niwa, and D. L. Kwong, Symp. On VLSI Tech. 82 (2002)