Characteristics of constrained ferroelectricity in PbZrO 3/BaZrO 3 superlattice films

Journal of Applied Physics

Volumn 97, Issue 3, 2005, Pages

  Hung, Cheng Lung ^a   Chueh, Yu Lun ^a   Wu, Tai Bor ^a   Chou, Li Jen ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURIE TEMPERATURES; HETEROEPITAXIAL LAYERS; RADIO-FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING; SUPERLATTICE FILMS;

ELECTRON TRANSPORT PROPERTIES; FERROELECTRICITY; FERROMAGNETISM; LATTICE CONSTANTS; LEAD COMPOUNDS; MAGNETRON SPUTTERING; PERMITTIVITY; SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY; STOICHIOMETRY; SUPERLATTICES; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY DIFFRACTION;

THIN FILMS;

EID: 13644272292     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1846133     Document Type: Article

References (32)

1. M. Suzuki and T. Ami, Mater. Sci. Eng., B 41, 166 (1999).
2. Z. G. Zhang, J. S. Liu, Y. N. Wang, J. S. Zhu, F. Yan, X. B. Chen, and H. M. Shen, Appl. Phys. Lett. 73, 788 (1998).
3. J. Chen, M. P. Harmer, and D. M. Smith, J. Appl. Phys. 76, 5394 (1994).
4. W. L. Warren, D. Dimos, B. A. Tuttle, R. D. Nasby, and G. E. Pike, Appl. Phys. Lett. 65, 1018 (1994).
5. J. J. Lee, C. L. Thio, and S. B. Desu, J. Appl. Phys. 78, 5073 (1995).
6. C. A. Araujo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott, and J. F. Scott, Nature (London) 374, 627 (1995).
7. R. Dat, J. K. Lee, O. Auciello, and A. I. Kingon, Appl. Phys. Lett. 67, 572 (1995).
8. B. H. Park, S. J. Hyun, S. D. Bu, T. W. Noh, J. Lee, H.-D. Kim, T. H. Kim, and W. Jo, Appl. Phys. Lett. 74, 1907 (1999).
9. G. D. Hu, I. H. Wilson, J. B. Xu, C. P. Li, and S. P. Wong, Appl. Phys. Lett. 76, 1758 (2000).
10. K. Amanuma, T. Hase, and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. 66, 221 (1995).
11. G. Seirnet, Phys. Rev. 86, 219 (1952).
12. J. H. Tseng and T. B. Wu, Appl. Phys. Lett. 78, 1721 (2001).
13. T. B. Wu and J. H. Tseng, Key Eng. Mater. 214-215, 133 (2002).
14. H. Tabata, H. Tanaka, and T. Kawai, Appl. Phys. Lett. 65, 1970 (1994).
15. J. Kim, Y. Kim, Y. S. Kim, J. Lee, L. Kim, and D. Jung, Appl. Phys. Lett. 80, 3581 (2002).
16. L. Kim, D. Jung, J. Kim, Y. S. Kim, and J. Kee, Appl. Phys. Lett. 82, 2118 (2003).
17. T. Shimuta, O. Nakagawara, T. Makino, S. Arai, H. Tabata, and T. Kawai, J. Appl. Phys. 91, 2290 (2002).
18. J. Robertson, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1785 (2000).
19. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 68, 1430 (1996).
20. T. B. Wu, J. M. Wu, C. M. Wu, M. J. Shyu, M. S. Chen, J. S. Dong, and C. C. Yang, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 433, 169 (1996).
21. C. H. Lin, B. M. Yen, H. C. Kuo, H. Chen, T. B. Wu, and G. E. Stillman, J. Mater. Res. 15, 115 (2000).
22. S. L. Lung, C. L. Liu, S. S. Chen, S. C. Lia, C. W. Tsai, T. T. Sheng, T. Wang, S. Pan, T. B. Wu, and R. Liu, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet. 2001, 275.
23. Y. Ishibashi, N. Ohashi, and T. Tsusumi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 186 (2000).
24. F. Xu, S. T. Mckinstry, W. Ren, B. Xu, Z.-L. Xie, and K. J. Hemker, J. Appl. Phys. 89, 1336 (2001).
25. H. Maiwa, S. H. Kim, and N. Ichinose, Appl. Phys. Lett. 83, 4396 (2003).
26. S. S. N. Bharadwaja and S. B. Krupanidhi, J. Appl. Phys. 89, 4541 (2001).
27. J. Zhai, Y. Yao, X. Li, T. F. Hung, Z. K. Xu, H. Chen, E. V. Colla, and T. B. Wu, J. Appl. Phys. 92, 3990 (2002).
28. R. R. Metha, B. D. Silverman, and J. T. Jacobs, J. Appl. Phys. 44, 3379 (1973).
29. S. N. Ryoo, S. G. Yoon, and S. H. Kim, Appl. Phys. Lett. 83, 2880 (2003).
30. B. P. Pokharel and D. Pandey, J. Appl. Phys. 88, 5364 (2000).
31. G. C. Chao and J. M. Wu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 40, 1306 (2001).
32. W. C. Shin and S. G. Yoon, Appl. Phys. Lett. 79, 1519 (2001).