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Volumn 43, Issue 3, 2000, Pages

CMOS: how far can it go?

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ELECTRIC POTENTIAL; MICROELECTRONICS; MOSFET DEVICES; SEMICONDUCTOR DOPING; SILICA; SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGY; SUBSTRATES;

EID: 0343953386     PISSN: 0038111X     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article
Times cited : (2)

References (37)
  • 11
    • 0032022530 scopus 로고    scopus 로고
    • March
    • Ohgur et al., IEEE Trans. Electron Dev., Vol. 45, No. 3, pp. 710-716, March 1998.
    • (1998) IEEE Trans. Electron Dev. , vol.45 , Issue.3 , pp. 710-716
    • Ohgur1
  • 12
    • 0032254846 scopus 로고    scopus 로고
    • Rim, et al., IEDM Tech Digest 1998, pp. 707-710.
    • (1998) IEDM Tech Digest , pp. 707-710
    • Rim1
  • 24
  • 27
  • 28
    • 0032256248 scopus 로고    scopus 로고
    • Guo, et al., IEDM Tech Digest 1998, pp. 377-380.
    • (1998) IEDM Tech Digest , pp. 377-380
    • Guo1
  • 29
    • 0032256941 scopus 로고    scopus 로고
    • Ha, et al., IEDM Tech. Digest 1998, pp. 639-642.
    • (1998) IEDM Tech. Digest , pp. 639-642
    • Ha1
  • 34
    • 0343948847 scopus 로고    scopus 로고
    • Ahmed, FED Journal, Vol. 9, Suppl. 2, 1998.
    • (1998) FED Journal , vol.9 , Issue.SUPPL. 2
    • Ahmed1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.