Electron field-emission from diamond-like carbon films grown by a saddle field fast atom beam source

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 21, Issue 5, 2003, Pages 1986-1995

  Panwar, O S ^a   Sharma, Rajnish ^a   Kumar, Sushi ^a   Dixit, P N ^a  

^a NATIONAL PHYSICAL LABORATORY   (India)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS FILMS; ATOMIC BEAMS; CURRENT DENSITY; ELECTRIC FIELDS; ELECTRON EMISSION; HARDNESS; NITROGEN; RESIDUAL STRESSES; SILICON; SUBSTRATES;

AMORPHOUS CARBON; ELECTRON FIELD EMISSION; NITROGEN DILUTION; SADDLE FIELD FAST ATOM BEAM SOURCE;

DIAMOND LIKE CARBON FILMS;

EID: 0242677578     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1598977     Document Type: Article

References (54)

1. N. S. Xu, Y. Tzeng, and R. V. Latham, J. Phys. D 26, 1776 (1993).
2. M. W. Geis, J. C. Twichell, and T. M. Lyszczars, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2060 (1996).
3. K. Okano, S. Kouizumi, S. R. P. Silva, and G. A. J. Amaratunga, Nature (London) 381, 140 (1996).
4. W. Zhu, G. P. Kochanski, S. Jin, and L. Seibles, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2011 (1996).
5. S. Jou H. J. Doerrands, and R. F. Bunshah, Thin Solid Films 280, 256 (1996).
6. O. Groning, O. M. Kuttel, E. Schaller, P. Groning, and L. Schlapach, Appl. Phys. Lett. 69, 476 (1996).
7. J. S. Lee, K. S. Liu, and I. N. Lin, J. Appl. Phys. 82, 3310 (1997).
8. V. Ralchenko, A. Karabutov, I. Vlasov, V. Frolov, V. Konov, S. Gordeev, S. Zhukov, and A. Dementjev, Diamond Relat. Mater. 8, 1496 (1999).
9. R. L. Fink, Z. Li Tolt, and Z. Yaniv, Surf. Coat. Technol. 108-109, 570 (1998).
10. J. E. Jaskie, MRS Bull. 21, 59 (1996).
11. J. Robertson, Diamond Relat. Mater. 5, 797 (1996).
12. F. Y. Chuang, C. Y. Sun, H. F. Cheng, C. M. Huang, and I. N. Lin, Appl. Phys. Lett. 68, 1666 (1996).
13. F. Y. Chuang, C. Y. Sun, T. T. Chen, and I. N. Lin, Appl. Phys. Lett. 69, 3504 (1996).
14. F. Y. Chuang, C. Y. Sun, H. F. Cheng, W. C. Wang, and I. Lin, Appl. Surf. Sci. 113/114, 259 (1997).
15. S. J. Chung, J. H. Moon, K. C. Park, M. H. Oh, W. I. Milne, and J. Jang, J. Appl. Phys. 82, 4047 (1997).
16. N. Missert, T. A. Friedmann, J. P. Sullivan, and R. G. Copeland, Appl. Phys. Lett. 70, 1995 (1997).
17. A. A. Talin, B. F. Coll, E. P. Menu, J. Markham, and J. E. Jaskie, in Amorphous Carbon: State of the Art, edited by S. R. P. Silva, J. Robertson, W. I. Milne, and G. A. J. Amaratunga (World Scientific, London, 1998), p. 329.
18. A. A. Talin, B. F. Coll, E. P. Menu, J. Markham, and J. E. Jaskie, International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICM-CTF), San Diego, CA, 1998, paper G8-3.
19. A. P. Burden, R. D. Forrest, and S. R. P. Silva, Thin Solid Films 337, 257 (1999).
20. X. Shi, L. K. Cheah, B. K. Tay, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 74, 833 (1994).
21. A. Ilie, A. C. Ferrari, T. Yagi, and R. Robertson, J. Appl. Phys. 76, 2627 (2000).
22. J. S. Shim, E. J. Chi, H. K. Baik, and S. M. Lee, J. Appl. Phys. 37, 440 (1998).
23. A. A. Talin, T. E. Felter, T. A. Friedmann, J. P. Sullivan, and M. P. Siegel, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1719 (1996).
24. K. C. Park, J. H. Moon, S. J. Chung, J. Jang, M. H. Oh, and W. I. Milne, Appl. Phys. Lett. 70, 1381 (1997).
25. K. R. Lee, K. Y. Eun, S. Lee, and D. R. Jeon, Thin Solid Films 290-291, 171 (1996).
26. A. Weber, U. Hoffmann, and C. P. Klages, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 919 (1998).
27. G. A. J. Amaratunga and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 68, 25259 (1996).
28. B. S, Satyanarayana, A. Hart, W. I. Milne, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 71, 1430 (1997).
29. A. H. Lettington, Philos. Trans. R. Soc. London, Ser. A 342, 287 (1993).
30. J. Franks, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 2307 (1989).
31. O. S. Panwar, D. Sarangi, S. Kumar, P. N. Dixit, and R. Bhattacharyya, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2519 (1995).
32. D. Sarangi, O. S. Panwar, S. Kumar, P. N. Dixit, and R. Bhattacharyya, Surf. Coat. Technol. 94-95, 456 (1997).
33. D. Sarangi, O. S. Panwar, S. Kumar, P. N. Dixit, and R. Bhattacharyya, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 203 (1998).
34. D. Sarangi, O. S. Panwar, S. Kumar, and R. Bhattacharyya Vacuum 58, 373 (2000).
35. D. Sarangi, O. S. Panwar, S. Kumar, and R. Bhattacharyya, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2302 (2000).
36. J. C. Angus P. Koidl, and S. Domitz, in Plasma Deposited Thin Films, edited by J. Mort and F. Jansen (Chemical Rubber, Boca Raton, FL, 1998), p. 89.
37. Y. Z. Yoo, H. G. Kim, H. K. Jang, Y. G. Jeong, and G. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2210 (1998).
38. R. Sharma, S. Kumar, P. N. Dixit, O. S. Panwar, C. M. S. Rauthan, S. Kumar, K. M. K. Srivatsa, P. J. George, and R. Bhattacharyya, Vacuum (2002) (communicated).
39. R. H. Fowler and L. W. Nordheim, Proc. R. Soc. London, Ser. A 119, 173 (1928).
40. R. Sharma, O. S. Panwar, S. Kumar, D. Sarangi, A. Goullet, P. N. Dixit, and R. Bhattacharyya, Appl. Surf. Sci. (in press).
41. C. J. Trong, J. M. Siverten, J. H. Judy, and C. Chand, J. Mater. Res. 5, 2590 (1990).
42. C. A. Davis, D. R. McKenzie, Y. Yin, E. Kravtchinskaia, G. A. J. Amaratunga, and V. S. Veerasamy, Philos. Mag. B 69, 1133 (1994).
43. D. F. Franceschini, C. A. Achete, and F. L. Freire, Appl. Phys. Lett. 60, 3229 (1992).
44. O. Amir and R. Kalish, J. Appl. Phys. 70, 4958 (1991).
45. L. K. Cheah, X. Shi, E. Liu, and B. K. Tay, J. Appl. Phys. 85, 6816 (1999).
46. R. D. Forest, A. P. Burden, S. R. P. Silva, L. K. Cheah, and X. Shi, Appl. Phys. Lett. 73, 3784 (1998).
47. J. P. Zhao, Z. Y. Chen, X. Wang, T. S. Shi, and T. Yano, Appl. Phys. Lett. 76, 191 (2000).
48. S. Gupta, B. L. Weiss, B. R. Weiner, and G. Morell, J. Appl. Phys. 89, 5671 (2001).
49. O. S. Panwar, S. Kumar, S. S. Rajput, R. Sharma, and R. Bhattacharyya, Indian J. Pure Appl. Phys. 41, 175 (2003).
50. A. Hart, B. S. Satyanarayana, W. I. Milne, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 8, 809 (1999).
51. J. Robertson, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 659 (1999).
52. Z. H. Huang, P. H. Cutler, N. M. Miskovsky, and T. E. Sullivan, Appl. Phys. Lett. 65, 2562 (1994).
53. W. Zhu, G. P. Kochanski, S. Jin, L. Seibles, D. C. Jacobson, M. McCormack, and A. E. White, Appl. Phys. Lett. 67, 1157 (1998).
54. J. Robertson, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 498, 197 (1998).