Electron field emission properties of tetrahedral amorphous carbon films

Journal of Applied Physics

Volumn 85, Issue 9, 1999, Pages 6816-6821

  Cheah, L K ^a   Shi, X ^a   Liu, E ^a   Tay, B K ^a  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CARBON; COMPOSITION EFFECTS; CURRENT DENSITY; ELECTRIC FIELD EFFECTS; GLASS; INDIUM COMPOUNDS; ION BEAMS; NITROGEN; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SURFACE TREATMENT; ULTRAVIOLET SPECTROSCOPY;

CURRENT IMAGING TUNNELING MICROSCOPY; INDIUM TIN OXIDE; ULTRAVIOLET PHOTOSPECTROSCOPY;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 0032614106     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.370199     Document Type: Article

References (22)

1. J. E. Jaskie, MRS Bull. 21, 59 (1996).
2. C. A. Spindt, I. Brodie, L. Humphrey, and E. R. Westerberg, J. Appl. Phys. 47, 5248 (1976).
3. Z. H. Huang, P. H. Culter, N. M. Miskovsky, and T. E. Sullivan, Appl. Phys. Lett. 65, 2562 (1994).
4. W. Zhu, G. P. Kochanski, S. Jin, L. Seibles, D. C. Jacobson, M. McCormack, and A. E. White, Appl. Phys. Lett. 67, 1157 (1995).
5. B. S. Satyanarayana, A. Hart, W. I. Milne, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 71, 1430 (1997).
6. G. A. J. Amaratunga and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 68, 2529 (1996).
7. L. K. Cheah, X. Shi, B. K. Tay, S. R. P. Silva, and Z. Sun, Diamond Relat. Mater. 7, 640 (1998).
8. Y. Lifshitz, Diamond Relat. Mater. 5, 388 (1996).
9. X. Shi, B. K. Tay, H. S. Tan, Li Zhong, Y. Q. Tu, S. R. P. Silva, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 79, 7239 (1996).
10. B. K. Tay, X. Shi, L. K. Cheah, and D. I. Flynn, Thin Solid Films 308-309, 199 (1997).
11. L. K. Cheah, X. Shi, and B. K. Tay, Eleclron. Lett. 33, 1339 (1997).
12. X. Shi, L. K. Cheah, and B. K. Tay, Thin Solid Films 312, 160 (1998).
13. V. S. Veerasamy, J. Yuan, G. Amaratunga, W. I. Milne, K. W. R. Gilkes, M. Weiler, and L. M. Brown, Phys. Rev. B 48, 17954 (1993).
14. R. M. Feenstra, Surf. Sci. 299-300, 965 (1994).
15. S. R. P. Silva, J. Robertson, G. A. J. Amaratunga, B. Rafferty, L. M. Brown, J. Schwan, D. F. Franceschini, and G. Mariotto, J. Appl. Phys. 81, 2626 (1997).
16. L. K. Cheah, X. Shi, J. R. Shi, E. Liu, and S. R. P. Silva, J. Non-Cryst. Solids 242, 40 (1998).
17. F. R. McFeely, S. P. Kowalczyk, L. Ley, R. G. Cavell, R. A. Pollak, and D. A. Shirley, Phys. Rev. B 59, 316 (1974).
18. W. M. Lau, L. J. Huang, I. Bello, Y. M. Yiu, and S. T. Lee, J. Appl. Phys. 75, 3385 (1994).
19. S. Bhattacharyya, C. Cardinaud, and G. Turban, J. Appl. Phys. 83, 4491 (1998).
20. L. K. Cheah, X. Shi, B. K. Tay, and Z. Sun, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2049 (1998).
21. R. D. Forrest, A. P. Burden, S. R. P. Silva, L. K. Cheah, and X. Shi, Appl. Phys. Lett. 73, 3784 (1998).
22. S. R. P. Silva, G. A. J. Amaratunga, and J. R. Barnes, Appl. Phys. Lett. 71, 1477 (1997).