Fluorinated aminoalkoxide and ketoiminate indium complexes as MOCVD precursors for In2O3 thin film deposition

Inorganic Chemistry

Volumn 42, Issue 19, 2003, Pages 6041-6049

  Chou, Tsung Yi ^a   Chi, Yun ^a   Huang, Shu Fen ^a   Liu, Chao Shiuan ^a   Carty, Arthur J ^b   Scoles, Ludmila ^b   Udachin, Konstantin A ^b  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMINOALCOHOL; INDIUM; INDIUM COMPLEX; INDIUM OXIDE; OXYGEN; UNCLASSIFIED DRUG;

ARTICLE; CHEMICAL INTERACTION; CIS TRANS ISOMERISM; FILM; FLUORINATION; GEOMETRY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SOLID STATE; SURFACE PROPERTY; SYNTHESIS; TEMPERATURE; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 0141703443     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic034588x     Document Type: Article

References (57)

1. (a) Fischer, R. A.; Sussek, H.; Miehr, A.; Pritzkow, H.; Herdtweck, F. J. Organomet. Chem. 1997, 548, 73.
2. (b) Neumayer, D. A.; Cowley, A. H.; Decken, A.; Jones, R. A.; Lakhotia, V.; Ekerdt, J. G. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 5893.
3. (c) Kim, J.; Bott, S. G.; Hoffman, D. M. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1999, 141.
4. (d) Suh, S.; Hoffman, D. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 9396.
5. (e) Lobinger, P.; Park, H. S.; Hohmeister, H.; Roesky, H. W. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 105.
6. (a) Cowley, A. H.; Jones, R. A. Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1989, 28, 1208.
7. (b) Atwood, D. A.; Jones, R. A.; Cowley, A. H.; Bott, S. G.; Atwood, J. L. J. Organomet. Chem. 1992, 434, 143.
8. (a) Cowley, A. H.; Jones, R. A. Polyhedron 1994, 13, 1149.
9. (b) Fischer, R. A.; Miehr, A.; Ambacher, O.; Metzger, T.; Born, E. J. Cryst. Growth 1997, 170, 139.
10. (c) Colombo, D. G.; Gilmer, D. C.; Young, V. G. J.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Adv. Mater. 1998, 10, 220.
11. (d) Horley, G. A.; O'Brien, P.; Park, J.-H.; White, A. J. P.; Williams, D. J. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1289.
12. (a) Dingman, S. D.; Rath, N. P.; Markowitz, P. D.; Gibbons, P. C.; Buhro, W. E. Angew. Chem., Int. Ed. 2000, 39, 1470.
13. (b) Fischer, R. A.; Miehr, A.; Metzger, T.; Born, E.; Ambacher, O.; Angerer, H.; Dimitrov, R. Chem. Mater. 1996, 8, 1356.
14. (c) Wohlfart, A.; Devi, A.; Maile, E.; Fischer, R. A. Chem. Commun. 2002, 998.
15. (d) Takahashi, N.; Niwa, A.; Takahashi, T.; Nakamura, T.; Yoshioka, M.; Momose, Y. J. Mater. Chem. 2002, 12, 1573.
16. (a) Avaritsiotis, J. N.; Howson, R. P. Thin Solid Films 1980, 80, 63.
17. (b) Minami, T.; Kumagai, H.; Kakumu, T.; Takata, S.; Ishii, M. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1069.
18. (c) Wang, A.; Dai, J.; Cheng, J.; Chudzik, M. P.; Marks, T. J.; Chang, R. P. H.; Kannewurf, C. R. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 327.
19. (d) Zhou, Z. B.; Cui, R. Q.; Pang, Q. J.; Wang, Y. D.; Meng, F. Y.; Sun, T. T.; Ding, Z. M.; Yu, X. B. Appl. Surf. Sci. 2001, 172, 245.
20. (a) Shang, G.; Kunze, K.; Hampden-Smith, M. J.; Duesler, E. N. Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 242.
21. (b) O'Brien, P.; Otway, D. J.; Walsh, J. R. Thin Solid Films 1998, 315, 57.
22. (c) Suh, S.; Hoffman, D. M. Inorg. Chem. 1998, 37, 5823.
23. (d) Horley, G. A.; O'Brien, P.; Park, J.-H.; White, A. J. P.; Williams, D. J. J. Mater. Chem. 1999, 9, 1289.
24. (a) Nomura, R.; Inazawa, S.; Matsuda, H.; Saeki, S. Polyhedron 1987, 6, 507.
25. (b) Maruyama, T.; Fukui, K. J. Appl. Phys. 1991, 70, 3848.
26. (c) Reich, S.; Suhr, H.; Waimer, B. Thin Solid Films 1990, 189, 293.
27. (a) Schumann, H.; Frick, M.; Heymer, B.; Girgsdies, F. J. Organomet. Chem. 1996, 512, 117.
28. (b) Miinea, L.; Suh, S.; Bott, S. G.; Liu, J.-R.; Chu, W.-K.; Hoffman, D. M. J. Mater. Chem. 1999, 9, 929.
29. (c) Miinea, L. A.; Suh, S.; Hoffman, D. M. Inorg. Chem. 1999, 38, 4447.
30. (d) Valet, M.; Hoffman, D. M. Chem. Mater. 2001, 13, 2135.
31. (a) Chang, I.-S.; Willis, C. J. Can. J. Chem. 1977, 55, 2465.
32. (b) Loeb, S. J.; Richardson, J. F.; Willis, C. J. Inorg. Chem. 1983, 22, 2736.
33. (c) Chang, C.-H.; Hwang, K. C.; Liu, C.-S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Scoles, L.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H.; Reedijk, J. Angew. Chem., Int. Ed. 2001, 40, 4651.
34. Tung, Y.-L.; Tseng, W.-C.; Lee, C.-Y.; Chi, Y.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Organometallics 1999, 18, 864.
35. Thompson, M. O. RUMP, version 4.00 (beta); Computer Graphic Service, Ltd.: El Paso, TX, 2002.
36. (a) Lee, F.-J.; Chi, Y.; Hsu, P.-F.; Chou, T.-Y.; Liu, C.-S.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 99.
37. (b) Liu, Y.-H.; Cheng, Y.-C.; Tung, Y.-L.; Chi, Y.; Chen, Y.-L.; Liu, C.-S.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. J. Mater. Chem. 2003. 13, 135.
38. Veith, M.; Hill, S.; Huch, V. Eur. J. Inorg. Chem. 1999, 1343.
39. Khan, M.; Steevensz, R. C.; Tuck, D. G.; Noltes, J. G.; Corfield, P. W. R. Inorg. Chem. 1980, 19, 3407.
40. Schumann, H.; Hartmann, U.; Wassermann, W.; Dietrich, A.; Goerlitz, F. H.; Ludwig, P.; Martin, H. Chem. Ber. 1990, 123, 2093.
41. Zhou, Y.; Richeson, D. S. Organometallics 1995, 14, 3558.
42. (a) Thiele, K.-H.; Hecht, E.; Gelbrich, T.; Duemichen, U. J. Organomet. Chem. 1997, 540, 89.
43. (b) Hecht, E.; Gelbrich, T.; Thiele, K.-H.; Sieler, J. Main Group Chem. 2000, 3, 109.
44. (a) Beachley, O. T., Jr.; Bueno, C.; Churchill, M. R.; Hallock, R. B.; Simmons, R. G. Inorg. Chem. 1981, 20, 2423.
45. (b) Park, J. T.; Kim, Y.; Kim, J.; Kim, K.; Kim, Y. Organometallics 1992, 11, 3320.
46. (c) Styron, E. K.; Schauer, S. J.; Lake, C. H.; Watkins, C. L.; Krannich, L. K. J. Organomet. Chem. 1999, 585, 266.
47. Beachley, O. T. J.; Gardinier, J. R.; Churchill, M. R.; Toomey, L. M. Organometallics 1998, 17, 1101.
48. (a) Chi, Y.; Hsu, P.-F.; Liu, C.-S.; Ching, W.-L.; Chou, T.-Y.; Carty, A. J.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H.; Chuang, S.-H. J. Mater. Chem. 2002, 12, 3541.
49. (b) Lai, Y.-H.; Chou, T.-Y.; Song, Y.-H.; Liu, C.-S.; Chi, Y.; Carty, A. J.; Peng, S.-M.; Lee, G.-H. Chem. Mater. 2003, 15, 2454.
50. Wagner, C. D.; Davis, L. E.; Zeller, M. V.; Taylor, J. A.; Raymond, R. H.; Gale, L. H. Surf. Interface Anal. 1981, 3, 211.
51. Jeong, J. I.; Moon, J. H.; Hong, J. H.; Kang, J.-S.; Fukuda, Y.; Lee, Y. P. J. Vac. Sci. Technol., A 1996, 14, 293.
52. Park, J.-H.; Horley, G. A.; O'Brien, P.; Jones, A. C.; Motevalli, M. J. Mater. Chem. 2001, 11, 2346.
53. Miinea, L. A.; Hoffman, D. M. J. Mater. Chem. 2000, 10, 2392.
54. (a) Maruyama, T.; Fukui, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, L1705.
55. (b) Maruyama, T.; Fukui, K. Thin Solid Films 1991, 203, 297.
56. Maruyama, T.; Kitamura, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, L1096.
57. Murthy, S. D.; Langlois, E.; Bhat, I.; Gutmann, R.; Brown, E.; Dzeindziel, R.; Freeman, M.; Choudhury, N. AIP Conf. Proc. 1996, 358, 290.