Current control for magnetized plasma in direct-current plasma-immersion ion implantation

Applied Physics Letters

Volumn 82, Issue 13, 2003, Pages 2014-2016

  Tang, Deli ^a   Chu, Paul K ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRIC CURRENT CONTROL; ELECTRIC DISCHARGES; ION IMPLANTATION; PLASMA DENSITY;

PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION (PIII);

MAGNETOPLASMA;

EID: 0037475066     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1564638     Document Type: Article

References (28)

1. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1987).
2. J. Tendys, I. J. Donnelly, M. J. Kenny, and J. T. A. Pollock, Appl. Phys. Lett. 53, 2143 (1988).
3. X. Y. Qian, N. W. Cheung, M. A. Lieberman, S. B. Felch, R. Brennan, and M. I. Current, Appl. Phys. Lett. 59, 348 (1991).
4. S. Qin and C. Chan, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 962 (1994).
5. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, N. W. Cheung, and L. A. Larson, Mater. Sci. Eng., R. 17, 207 (1996).
6. P. K. Chu, B. Y. Tang, Y. C. Cheng, and P. K. Ko, Rev. Sci. Instrum. 68, 1866 (1997).
7. E. H. Wilson, D. F. Lawrence, K. Sridharan, and P. W. Sandstrom, AIP Conf. Proc. 576, 955 (2001).
8. S. Qin, M. P. Bradley, P. L. Kellerman, and K. Saadatmand, Rev. Sci. Instrum. 73, 840 (2002).
9. X. Y. Qian, N. W. Cheung, M. A. Lieberman, M. I. Current, P. K. Chu, W. L. Harrington, C. W. Magee, and E. M. Botnik, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 55, 821 (1991).
10. J. Min, P. K. Chu, Y. C. Cheng, J. B. Liu, S. Im, S. Iyer, and N. W. Cheung, Mater. Chem. Phys. 40, 219 (1995).
11. P. K. Chu, X. Lu, S. S. K. Iyer, and N. W. Cheung, Solid State Technol. 40, S9 (1997).
12. J. B. Liu, S. S. K. Iyer, C. M. Hu, N. W. Cheung, R. Gronsky, J. Min, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 67, 2361 (1995).
13. X. Lu, S. S. K. Iyer, C. M. Hu, N. W. Cheung, J. Min, Z. N. Fan, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 71, 2767 (1997).
14. P. K. Chu and X. C. Zeng, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2301 (2001).
15. Z. N. Fan, X. C. Zeng, P. K. Chu, C. Chan, and M. Watanabe, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 155, 75 (1999).
16. Z. N. Fan, X. C. Zeng, D. T. K. Kwok, and P. K. Chu, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 371 (2000).
17. L. W. Wang, R. K. Y. Fu, X. C. Zeng, P. K. Chu, W. Y. Cheung, and S. P. Wong, J. Appl. Phys. 90, 1735 (2001).
18. F. L. Coeur, J. Pelletier, Y. Arnal, and A. Lacoste, Surf. Coat. Technol. 125, 71 (2000).
19. D. T. K. Kwok, X. C. Zeng, C. Chan, and P. K. Chu, J. Appl. Phys. 87, 4094 (2000).
20. X. C. Zeng, R. K. Y. Fu, D. T. K. Kwok, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 79, 3044 (2001).
21. H. H. Tong, R. K. Y. Fu, X. C. Zeng, D. T. K. Kwok, and P. K. Chu, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1452 (2002).
22. K. Kato, S. Iizuka, and N. Sato, Appl. Phys. Lett. 65, 816 (1994).
23. K. Kato, S. Ilizuka, G. Ganguly, T. Ikeda, A. Matsuda, and N. Sato, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4547 (1997).
24. J. I. Hong, S. H. Seo, S. S. Kim, N. S. Yoon, C. S. Chang, and H. Y. Chang, Phys. Plasmas 6, 1017 (1999).
25. L. Sirghi, Y. Hatanaka, and G. Popa, J. Appl. Phys. 91, 4026 (2002).
26. T. Meziani, P. Colpo, and F. Rossi, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 276 (2001).
27. G. J. M. Hagelaar, F. J. de Hoog, and G. M. W. Kroesen, Phys. Rev. E 62, 1452 (2000).
28. N. S. Braithwaite, Plasma Sources Sci. Technol. 9, 517 (2000).