Quasi-direct current plasma immersion ion implantation

Applied Physics Letters

Volumn 79, Issue 19, 2001, Pages 3044-3046

  Zeng, Xuchu ^a   Fu, Ricky K Y ^a   Kwok, Dixon T K ^a   Chu, Paul K ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000217287     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1415404     Document Type: Article

References (24)

1. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1987).
2. J. Tendys, I. J. Donnelly, M. J. Kenny, and J. T. A. Pollock, Appl. Phys. Lett. 53, 2143 (1988).
3. B. Mizuno, I. Nakayama, N. Aoi, M. Kubota, and T. Komeda, Appl. Phys. Lett. 53, 2059 (1988).
4. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, N. W. Cheung, and L. A. Larson, Mater. Sci. Eng. Rep. R17, 207 (1996).
5. Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition, edited by A. Anders (Wiley, New York, 2000).
6. X. Y. Qian, N. W. Cheung, M. A. Lieberman, S. B. Felch, R. Brennan, and M. I. Current, Appl. Phys. Lett. 59, 348 (1991).
7. X. Y. Qian, N. W. Cheung, M. A. Lieberman, M. I. Current, P. K. Chu, W. L. Harrington, C. W. Magee, and E. M. Botnik, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 55, 821 (1991).
8. X. Y. Qian, N. W. Cheung, M. A. Lieberman, R. Brennan, M. I. Current, and N. Jha, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 55, 898 (1991).
9. J. Min, P. K. Chu, Y. C. Cheng, J. B. Liu, S. Im, S. Iyer, and N. W. Cheung, Mater. Chem. Phys. 40, 219 (1995).
10. J. Min, P. K. Chu, Y. C. Cheng, J. B. Liu, S. S. Iyer, and N. W. Cheung, Surf. Coat. Technol. 85, 60 (1996).
11. J. B. Liu, S. S. K. Iyer, C. M. Hu, N. W. Cheung, R. Gronsky, J. Min, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 67, 2361 (1995).
12. X. Lu, S. S. K. Iyer, C. M. Hu, N. W. Cheung, J. Min, Z. N. Fan, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 71, 2767 (1997).
13. Z. N. Fan, Ph.D. thesis, City University of Hong Kong, 1998.
14. Z. N. Fan, X. C. Zeng, D. T. K. Kwok, and P. K. Chu, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 371 (2000).
15. Z. N. Fan, X. C. Zeng, P. K. Chu, C. Chan, and M. Watanabe, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 155, 75 (1999).
16. L. W. Wang, X. C. Zeng, R. K. Y. Fu, P. K. Chu, W. Y. Cheung, and S. P. Wong, J. Appl. Phys. (to be published).
17. D. T. K. Kwok, X. C. Zeng, C. Chan, and P. K. Chu, J. Appl. Phys. 87, 4094 (2000).
18. X. C. Zeng, P. K. Chu, Q. C. Chen, and H. H. Tong, Thin Solid Films (to be published).
19. S. Mandl, J. Brutscher, R. Gunzel, and W. Moller, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2701 (1996).
20. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, and N. W. Cheung, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 79 (1998).
21. Z. N. Fan, Q. C. Chen, P. K. Chu, and C. Chan, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 1661 (1998).
22. M. Shamim, J. T. Scheuer, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 69, 2904 (1991).
23. P. K. Chu, Proceedings of the Sixth International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation, Grenoble, France, 2001, p. 40.
24. X. Tian, B. Y. Tang, and P. K. Chu, J. Appl. Phys. 86, 3567 (1999).