Effect of changing the electrode gap on the spatial and electrical properties of O2/CF4 plasmas

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 21, Issue 1, 2003, Pages 241-250

  Steffens, Kristen L ^a   Sobolewski, Mark A ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DENSITY (SPECIFIC GRAVITY); ELECTRIC CURRENT MEASUREMENT; ELECTRIC PROPERTIES; ELECTRODES; ELECTRONS; FLUORESCENCE; FLUOROCARBONS; LASER APPLICATIONS; LIGHT EMISSION; OXYGEN; PRESSURE; VOLTAGE MEASUREMENT;

BROADBAND OPTICAL EMISSION; DISCHARGE CURRENT; ELECTRODE GAP; ELECTRON HEATING; GASEOUS ELECTRONICS CONFERENCE CELL; PLANAR LASER INDUCED FLUORESCENCE MEASUREMENTS; PLASMA UNIFORMITY;

PLASMAS;

EID: 0037273575     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1531142     Document Type: Article

References (27)

1. K. L. Steffens and M. A. Sobolewski, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 517 (1999).
2. M. A. Sobolewski and K. L. Steffens, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3281 (1999).
3. J. P. Booth, G. Cunge, P. Chabert, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 85, 3097 (1999).
4. G. Cunge and J. P. Booth, J. Appl. Phys. 85, 3952 (1999).
5. G. A. Hebner, J. Appl. Phys. 89, 900 (2001).
6. M. Nakamura, M. Hori, T. Goto, M. Ito, and N. Ishii, J. Vac. Sci. Technol. A 19, 2134 (2001).
7. M. Haverlag, W. W. Stoffels, E. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 384 (1996).
8. K. H. R. Kirmse, A. E. Wendt, S. B. Disch, J. Z. Wu, I. C. Abraham, J. A. Meyer, R. A. Breun, and R. C. Woods, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 710 (1996).
9. Y. Matsumi, S. Toyoda, T. Hayashi, M. Miyamura, H. Yoshikawa, and S. Komiya, J. Appl. Phys. 60, 4102 (1986).
10. N. E. Capps, N. M. Mackie, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 84, 4736 (1998).
11. D. S. King, P. K. Schenck, and J. C. Stephenson, J. Mol. Spectrosc. 78, 1 (1979).
12. J. P. Booth and G. Hancock, Chem. Phys. Lett. 150, 457 (1988).
13. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994).
14. P. J. Hargis, Jr., K. E. Greenberg, P. A. Miller, J. B. Gerardo, J. R. Torczynski, M. E. Riley, G. A. Hebner, J. R. Roberts, J. K. Olthoff, J. R. Whetstone, R. J. Van Brunt, M. A. Sobolewski, H. M. Anderson, M. P. Splichal, J. L. Mock, P. Bletzinger, A. Garscadden, R. A. Gottscho, G. Selwyn, M. Dalvie, J. E. Heidenreich, J. W. Betterbaugh, M. L. Brake, M. L. Passow, J. Pender, A. Lujan, M. E. Elta, D. B. Graves, H. H. Sawin, M. J. Kushner, J. T. Verdeyen, R. Horwath, and T. R. Turner, Rev. Sci. Instrum. 65, 140 (1994).
15. M. A. Sobolewski, IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 1006 (1995).
16. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 230 (1997).
17. M. Haverlag, E. Stoffels, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, 14, 380 (1996).
18. B. Yip, M. F. Miller, A. Lozano, and R. K. Hanson, Exp. Fluids 17 330 (1994).
19. A. Lozano, B. Yip, and R. K. Hanson, Exp. Fluids 13, 369 (1992).
20. K. L. Steffens and M. A. Sobolewski, IEEE Trans. Plasma Sci. 27, 74 (1999).
21. M. A. Sobolewski, J. G. Langan, and B. S. Felker, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 173 (1998).
22. V. A. Godyak, R. B. Piejak, and B. M. Alexandrovich, IEEE Trans. Plasma Sci. 19, 660 (1991).
23. M. A. Sobolewski, Phys. Rev. E 59, 1059 (1999).
24. L. J. Overzet and F. Y. Leong-Rousey, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 432 (1995).
25. M. A. Lieberman, IEEE Trans. Plasma Sci. 16, 638 (1988).
26. J. G. Langan, S. E. Beck, B. S. Felker, and S. W. Rynders, J. Appl. Phys. 79, 3886 (1996).
27. W. R. Entley, J. G. Langan, B. S. Felker, and M. A. Sobolewski, J. Appl. Phys. 86, 4825 (1999).