Electrostatic probe diagnostics of a planar-type radio-frequency inductively coupled oxygen plasma

Journal of Applied Physics

Volumn 89, Issue 8, 2001, Pages 4218-4223

  Seo, D C ^a   Chung, T H ^a   Yoon, H J ^b   Kim, G H ^b  

^a Dong A University   (South Korea)

^b Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035870929     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1354633     Document Type: Article

References (33)

1. S. Samukawa and T. Mieno, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 132 (1996).
2. C. Lee and M. A. Lieberman, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 368 (1995).
3. C. Lee, D. B. Graves, M. A. Lieberman, and D. W. Hess, J. Electrochem. Soc. 141, 1546 (1994).
4. Y. T. Lee, M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, F. Bose, H. Baltes, and R. Patrick, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 113 (1997).
5. M. A. Lieberman and S. Ashida, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 145 (1996).
6. T. H. Chung, J. Korean Phys. Soc. 34, 24 (1999).
7. E. Quandt, H. F. Fobele, and W. G. Graham, Appl. Phys. Lett. 72, 2394 (1998).
8. D. Hayashi and K. Kadota, J. Appl. Phys. 83, 697 (1998).
9. H. J. Yoon, T. H. Chung, and D. C. Seo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 6890 (1999).
10. M. Vucelic and S. Mijovic, J. Appl. Phys. 84, 4731 (1998).
11. V. V. Ivanov, K. S. Klopovsky, D. V. Lopaev, A. T. Rakhimov, and T. V. Rakhimova, IEEE Trans. Plasma Sci. 27, 1279 (1999).
12. H. Amemiya and N. Yasuda, J. Phys. Soc. Jpn. 66, 623 (1997).
13. H. Amemiya and K. Ogawa, J. Phys. D 30, 879 (1997).
14. W. Ding, D. L. Dennis, L. McCorkle, and L. A. Pinnaduwage, J. Appl. Phys. 84, 3051 (1998).
15. A. J. Lichtenberg, M. A. Lieberman, I. G. Kouznetsov, and T. H. Chung, Plasma Sources Sci. Technol. 9, 45 (2000).
16. T. H. Chung, H. J. Yoon, and D. C. Seo, J. Appl. Phys. 86, 3536 (1999).
17. T. H. Chung, D. C. Seo, G. H. Kim, and J. S. Kim, IEEE Trans. Plasma Sci. (submitted).
18. J. D. Johnson and A. J. T. Holms, Rev. Sci. Instrum. 61, 2628 (1990).
19. A. Granier, F. Nicolazo, C. Vallee, A. Goullet, G. Turban, and D. Grolleau, Plasma Sources Sci. Technol. 6, 147 (1997).
20. B. Elliasson and U. Kogelschatz, Brown Boveri Report No. KLR 86-11 C (1986).
21. S. Panda, D. J. Economou, and M. Meyyappan, J. Appl. Phys. 87, 8323 (2000).
22. J. H. Keller, J. C. Forster, and M. S. Barns, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2487 (1993).
23. M. S. Barns, J. C. Forster, and J. H. Keller, Appl. Phys. Lett. 62, 2622 (1993).
24. Y. Ra and C. H. Chen, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2158 (1996).
25. M. Shibata, N. Nakano, and T. Makabe, J. Appl. Phys. 80, 6142 (1996).
26. E. Stoffels, W. W. Stoffels, D. Vender, M. Kando, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Phys. Rev. E 51, 2425 (1995).
27. D. Hayashi and K. Kadota, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 225 (1999).
28. M. Tuszewski, J. Appl. Phys. 79, 8967 (1996).
29. J. T. Gudmundsson, Ph.D. thesis, University of California at Berkeley (1996).
30. M. V. Malyshev and V. M. Donnelly, J. Appl. Phys. 87, 1642 (2000).
31. G. R. Tynan, J. Appl. Phys. 86, 5356 (1999).
32. V. A. Godyak, R. B. Piejak, and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 36 (1992).
33. H. Singh and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 87, 4098 (2000).