Effect of O2(a1Δg) on plasma structures in oxygen radio frequency discharges

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 11, 1996, Pages 6142-6147

  Shibata, Mari ^a,b   Nakano, Nobuhiko ^a   Makabe, Toshiaki ^a  

^a KEIO UNIVERSITY   (Japan)

^b FUJITSU LABORATORIES LTD   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000708451     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363649     Document Type: Article

References (42)

1. A. T. Bell, Ind. Eng. Chem. Fundam. 10, 373 (1971).
2. M. Vialle, M. Touzeau, G. Gousset, and C. M. Ferreira, J. Phys. D 24, 301 (1991).
3. J. P. Booth and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 70, 611 (1991).
4. J. P. Booth, O. Joubert, J. Pelletier, and N. Sadeghi, J. Appl. Phys. 69, 618 (1991).
5. G. Hancock and M. J. Toogood, Appl. Phys. Lett. 60, 35 (1992).
6. K. Tachibata, Proceedings of the 2nd International Conference on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing, January 19-21, 1994, Yokohama, Japan, p. 773.
7. A. D. Tserepi and T. A. Miller, J. Appl. Phys. 77, 505 (1995).
8. E. J. H. Collart, J. A. G. Baggerman, and R. J. Visser, J. Appl. Phys. 78, 47 (1995).
9. M. Shibata, N. Nakano, and T. Makabe, J. Appl. Phys. 77, 6181 (1995).
10. M. Shibata, T. Makabe, and N. Nakano, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 6230 (1995).
11. N. Nakano, N. Shimura, Z. Lj. Petrović, and T. Makabe, Phys. Rev. E 49, 4455 (1994).
12. Y. Ichikawa and R. L. C. Wu, J. Appl. Phys. 67, 108 (1990).
13. G. Gousset, C. M. Ferreira, M. Pinheiro, P. A. Sá, M. Touzeau, M. Vialle, and J. Loureiro, J. Phys. D 24, 290 (1991).
14. E. Stoffels, W. W. Stoffels, D. Vender, M. Kando, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Phys. Rev. E 51, 2425 (1995).
15. T. Makabe, N. Nakano, and Y. Yamaguchi, Phys. Rev. A 45, 2520 (1992).
16. Y. Itikawa, A. Ichimura, K. Onda, K. Sakimoto, and K. Takayanagi, Y. Hatano, M. Hayashi, H. Nishimura, S. Tsurubuchi, J. Phys. Chem. Ref. Data 18, 23 (1989).
17. S. Kajita, S. Ushiroda, and Y. Kondo, J. Appl. Phys. 67, 4015 (1990).
18. G. A. Melin and R. J. Madix, Trans. Faraday Soc. 67, 198 (1971).
19. R. L. Sharpless and T. G. Slanger, J. Chem. Phys. 91, 7947 (1989).
20. M. McFarland, D. L. Albritton, F. C. Fehsenfeld, E. E. Ferguson, and A. L. Schmeltekopf, J. Chem. Phys. 59, 6620 (1973).
21. R. M. Snuggs, D. J. Volz, J. H. Schummers, D. W. Martin, and E. W. McDaniel, Phys. Rev. A 3, 487 (1971).
22. F. C. Fehsenfeld, A. L. Schmeltekopf, H. I. Schiff, and E. E. Ferguson, Planet. Space Sci. 15, 373 (1967).
23. F. C. Fehsenfeld, E. E. Ferguson, and A. L. Schmeltekopf, J. Chem. Phys. 45, 1844 (1966).
24. Reaction Rate Handbook, 2nd ed. (Defence Nuclear Agency, 1972).
25. W. H. Aberth and J. R. Peterson, Phys. Rev. A 1, 158 (1970).
26. F. C. Fehsenfeld, D. L. Albritton, J. A. Burt, and H. I. Schiff, Can. J. Chem. 47,1793 (1969).
27. K. Schofield, Planet. Space Sci. 15, 643 (1967).
28. R. R. Laher and F. R. Gilmore, J. Phys. Chem. Ref. Data 19, 277 (1990).
29. P. D. Burrow, J. Chem. Phys. 59, 4922 (1973).
30. K. Mašek, L. Láska, and T. Ružička, Czech J. Phys. B 28, 1321 (1978).
31. H. Sabadil, P. Bachmann, and H. Kastelewicz, Beitr. Plasmaphys. 20, 283 (1980).
32. R. M. Snuggs, D. J. Volz, J. H. Schummers, D. W. Martin, and E. W. McDaniel, Phys. Rev. A 3, 477 (1971).
33. R. S. Yolles and H. Wise, J. Chem. Phys. 48, 5109 (1968).
34. P. H. Vidaud, R. P. Wayne, and M. Yaron, Chem. Phys. Lett. 38, 306 (1976).
35. S. Wickramanayaka, N. Hosokawa, and Y. Hatanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 2897 (1991).
36. J. M. Cook and B. W. Benson, J. Electrochem. Soc. 130, 2459 (1983).
37. J. F. Battey, J. Electrochem. Soc. 124, 437 (1977).
38. J. W. Metselaar, V. I. Kuznetsov, and A. G. Zhidkov, J. Appl. Phys. 75, 4910 (1994).
39. J. A. G. Baggerman, R. J. Visser, and E. J. H. Collart, J. Appl. Phys. 75, 758 (1994).
40. Ch. Steinbrüchel, B. J. Curtis, H. W. Lehmann, and R. Widmer, IEEE Trans. Plasma Sci. PS-14, 137 (1986).
41. M. A. Hartney, W. M. Greene, D. S. Soane, and D. W. Hess, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1892 (1988).
42. O. Joubert, J. Pelletier, and Y. Arnal, J. Appl. Phys. 65, 5096 (1989).