Effect of metastable oxygen molecules in high density power-modulated oxygen discharges

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 12, 2000, Pages 8323-8333

  Panda, Siddhartha ^a   Economou, Demetre J ^a   Meyyappan, M ^b  

^a University of Houston   (United States)

^b NASA AMES RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000985817     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.373544     Document Type: Article

References (65)

1. Y. Watanabe, M. Shiratani, Y. Kubo, I. Ogawa, and S. Ogi, Appl. Phys. Lett. 53, 1263 (1988).
2. Y. Watanabe, M. Shiratani, and H. Maniko, Appl. Phys. Lett. 57, 1616 (1990).
3. L. J. Overzet and J. T. Verdeyen, Appl. Phys. Lett. 48, 695 (1986).
4. A. Bouchoule, A. Plain, L. Boufendi, J. Ph. Blondeau, and C. Laure, J. Appl. Phys. 70, 1991 (1991).
5. R. W. Boswell and R. K. Porteous, J. Appl. Phys. 62, 3123 (1987).
6. R. W. Boswell and D. Henry, Appl. Phys. Lett. 47, 1095 (1985).
7. C. Grabowski and J. M. Gahl, J. Appl. Phys. 70, 1039 (1991).
8. V. J. Law, M. Tewordt, D. C. Clary, and G. A. C. Jones, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2262 (1993).
9. V. J. Law, N. St. J. Braithwaite, S. G. Ingram, D. C. Clary, and G. A. C. Jones, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3337 (1994).
10. S. Samukawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 32, 6080 (1993).
11. S. Samukawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 2133 (1994).
12. S. Samukawa and S. Furoya, Appl. Phys. Lett. 63, 2044 (1993).
13. K. Takahashi, M. Hori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L1088 (1993).
14. N. Fujiwara, T. Maruyama, and M. Yoneda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 2450 (1996).
15. S. Samukawa, Appl. Phys. Lett. 64, 3398 (1994); 68, 316 (1996).
16. S. Samukawa, Appl. Phys. Lett. 64, 3398 (1994); 68, 316 (1996).
17. S. Samukawa and K. Terada, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3300 (1994); S. Samukawa and T. Tsukuda, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 643 (1997); S. Samukawa, H. Ohtake, and T. Mieno, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3049 (1996).
18. S. Samukawa and K. Terada, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3300 (1994); S. Samukawa and T. Tsukuda, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 643 (1997); S. Samukawa, H. Ohtake, and T. Mieno, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3049 (1996).
19. S. Samukawa and K. Terada, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3300 (1994); S. Samukawa and T. Tsukuda, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 643 (1997); S. Samukawa, H. Ohtake, and T. Mieno, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3049 (1996).
20. M. B. Hopkins and K. N. Mellon, Phys. Rev. Lett. 67, 449 (1991).
21. S-K. Park and D. J. Economou, J. Electrochem. Soc. 137, 2103 (1990).
22. S-K. Park and D. J. Economou, J. Electrochem. Soc. 137, 2624 (1990).
23. P. Jiang, D. J. Economou, and C. B. Shin, Plasma Chem. Plasma Process. 15, 383 (1995).
24. L. J. Overzet, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1114 (1993).
25. L. J. Overzet, Y. Lin, and L. Luo, J. Appl. Phys. 72, 5579 (1992).
26. I. Peres and L. C. Pitchford, J. Appl. Phys. 78, 774 (1995).
27. D. P. Lymberopoulos, V. I. Kolobov, and D. J. Economou, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 564 (1998).
28. V. Midha and D. J. Economou, Plasma Sources Sci. Technol. (submitted).
29. H. B. Smith, C. Charles, R. W. Boswell, and H. Kuwahara, J. Appl. Phys. 82, 561 (1997).
30. A. Yokozawa, H. Ohtake, and S. Samukawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 2433 (1996).
31. G. S. Hwang and K. P. Giapis, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 2291 (1998).
32. C. Lee, D. B. Graves, M. A. Lieberman, and D. W. Hess, J. Electrochem. Soc. 141, 1546 (1994).
33. M. Meyyappan and T. R. Govindan, Vacuum 47, 215 (1996).
34. M. Meyyappan, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2122 (1996).
35. S. Ashida and M. A. Lieberman, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 854 (1997).
36. S. Ashida, C. Lee, and M. A. Lieberman, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2498 (1995).
37. M. Meyyappan, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 4820 (1997).
38. R. L. Bersin, Solid State Technol. 13, 39 (1970); B. R. Soller, R. F. Shuman, and R. R. Ross, J. Electrochem. Soc. 131, 1353 (1984).
39. R. L. Bersin, Solid State Technol. 13, 39 (1970); B. R. Soller, R. F. Shuman, and R. R. Ross, J. Electrochem. Soc. 131, 1353 (1984).
40. E. Stoffels, W. W. Stoffels, D. Vender, M. Kando, G. M. W. Kroesen, and F. J. de Hoog, Phys. Rev. E 51, 2425 (1995).
41. D. Hayashi and K. Kadota, J. Appl. Phys. 83, 697 (1998).
42. A. D. Tserepi and T. A. Miller, J. Appl. Phys. 77, 505 (1995); J. P. Booth and N. Sadeghi, ibid. 70, 611 (1991).
43. A. D. Tserepi and T. A. Miller, J. Appl. Phys. 77, 505 (1995); J. P. Booth and N. Sadeghi, ibid. 70, 611 (1991).
44. E. Meeks and J. W. Shon, IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 539 (1995).
45. M. Meyyappan and T. R. Govindan, SAMPR: A Computer Code for Simple Analysis of Materials Processing Reactors (NASA Research, CA, 1997).
46. C. Lee and M. A. Lieberman, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 368 (1995).
47. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994), p. 255.
48. P. D. Burrow, J. Chem. Phys. 59, 4922 (1973).
49. D. Hayashi and K. Kadota, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 225 (1999).
50. D. Teillet-Billy, L. Malegat, J. P. Gauyacq, R. Abouaf, and C. Benoit, J. Phys. B 22, 1095 (1989).
51. Y. Itikawa, A. Ichimura, K. Onda, K. Sakimoto, K. Takayanagi, Y. Hatano, M. Hayashi, H. Nishimura, and S. Tsurubuchi, J. Phys. Chem. Ref. Data 18, 23 (1989).
52. P. J. Chantry, J. Appl. Phys. 62, 1141 (1987).
53. G. Gousset, C. M. Ferreira, M. Pinheiro, P. A. Sa, M. Touzeau, M. Vialle, and J. Loureiro, J. Phys. D: Appl. Phys. 24, 301 (1991).
54. A. T. Bell, Techniques and Applications of Plasma Chemistry (Wiley, New York, 1974), pp. 28 and 29.
55. M. Shibata, N. Nakano, and T. Makabe, J. Appl. Phys. 80, 6142 (1996).
56. J. Matsushita, K. Sasaki, and K. Kadota, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 7B, 4747 (1997).
57. E. J. H. Collart, J. A. G. Baggerman, and R. J. Visser, J. Appl. Phys. 70, 5278 (1991).
58. J. M. Cook and B. W. Benson, J. Electrochem. Soc. 130, 2459 (1983).
59. A. Schwabedissen, E. C. Benck, and J. R. Roberts, Phys. Rev. E 55, 3450 (1997).
60. M. Shibata, N. Nakano, and T. Makabe, J. Appl. Phys. 77, 6181 (1995).
61. B. A. Smith and L. J. Overzet, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 82 (1999); D. Smith, A. G. Dean, and N. G. Adams, J. Phys. D: Appl. Phys. 7, 1944 (1974).
62. B. A. Smith and L. J. Overzet, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 82 (1999); D. Smith, A. G. Dean, and N. G. Adams, J. Phys. D: Appl. Phys. 7, 1944 (1974).
63. J. H. Keller, J. C. Forster, and M. C. Barnes, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2487 (1989).
64. J. Forster and W. Holber, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 899 (1989).
65. O. A. Popov, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 894 (1989).