Reasons for lower dielectric constant of fluorinated SiO2 films

Journal of Applied Physics

Volumn 83, Issue 4, 1998, Pages 2172-2178

  Han, Sang M ^a   Aydil, Eray S ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001461430     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.366955     Document Type: Article

References (33)

1. M. J. Shapiro, S. V. Nguyen, T. Matsuda, and D. Dobuzinsky, Thin Solid Films 270, 503 (1995).
2. T. Usami, K. Shimokawa, and M. Yoshimaru, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 408 (1994).
3. V. L. Shannon and M. Z. Karim, Thin Solid Films 270, 498 (1995).
4. T. Homma, J. Electrochem. Soc. 143, 1084 (1996).
5. J. Song, P. K. Ajmera, and G. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 69, 1876 (1996).
6. R. K. Laxman, Semicond. Int. 5, 71 (1995).
7. D. R. Denison, J. C. Barbour, and J. H. Burkhart, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1124 (1996).
8. S. M. Han and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 2893 (1997).
9. S. M. Lee, M. Park, K. C. Park, J. T. Bark, and J. Jang, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1579 (1996).
10. S. W. Lim, Y. Shimogaki, Y. Nakano, K. Tada, and H. Komiyama, J. Electrochem. Soc. 144, 2531 (1997).
11. S. W. Lim, Y. Shimogaki, Y. Nakano, K. Tada, and H. Komiyama, Appl. Phys. Lett. 68, 832 (1996).
12. S. W. Lim, Y. Shimogaki, Y. Nakano, K. Tada, and H. Komiyama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1468 (1996).
13. K. M. Chang, S. W. Wang, C. J. Wu, T. H. Yeh, C. H. Li, and J. Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 69, 1238 (1996).
14. C. Kittel. Introduction to Solid State Physics, 6th ed. (Wiley, New York, 1986).
15. S. C. Deshmukh and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2355 (1995).
16. S. M. Han and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2062 (1996).
17. S. M. Han and E. S. Aydil, Thin Solid Films 290,291, 427 (1996).
18. S. M. Han and E. S. Aydil, Appl. Phys. Lett. 70, 3269 (1997).
19. S. M. Han and E. S. Aydil, J. Electrochem. Soc. 144, 3963 (1997).
20. C. T. Kirk, Phys. Rev. B 38, 1255 (1988).
21. D. E. Aspnes, J. Vac. Sci. Technol. 18, 289 (1981).
22. D. E. Aspnes, Thin Solid Films 89, 249 (1982).
23. Y.-M. Xiong, P. G. Snyder, J. A. Woollam, and E. R. Krosche, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 950 (1992).
24. J. P. Hawranek, P. Neelakantan, R. P. Young, and R. N. Jones, Spectrochim. Acta A 32, 85 (1976).
25. S. S. Mitra, Handbook of Optical Constants of Solids (Academic, Orlando, 1985).
26. N. J. Harrick, Internal Reflection Spectroscopy (Wiley, New York, 1967).
27. A. D. Bailey and R. A. Gottscho, J. Appl. Phys. 34, 2172 (1995).
28. J. Francis and M. Mirabella, in Internal Reflection Spectroscopy (Marcel Dekker, New York, 1993), Vol. 15.
29. A. H. Mahan, D. L. Williamson, B. P. Nelson, and R. S. Crandall, Sol. Cells 27, 465 (1989).
30. A. A. Langford, M. L. Fleet, B. P. Nelson, W. A. Langford, and N. Maley, Phys. Rev. B 45, 13 367 (1992).
31. S. Ramalingam, D. Maroudas, and E. S. Aydil (unpublished).
32. M. E. Barone and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 78, 6604 (1995).
33. M. E. Barone and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 77, 1263 (1995).