Volatile CeIII hexafluoroacetylacetonate glyme adducts as promising precursors for the MOCVD of CeO2 thin films

Chemical Vapor Deposition

Volumn 6, Issue 5, 2000, Pages 233-238

  Malandrino, Graziella ^a   Lo Nigro, Raffaella ^a   Benelli, Cristiano ^b   Castelli, Francesco ^a   Fragalà, Ignazio L ^a  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF FLORENCE   (Italy)

Author keywords

Adducts; Cerium; MOCVD precursors; Thin films

Indexed keywords

EID: 0001424012     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1521-3862(200010)6:5<233::AID-CVDE233>3.0.CO;2-D     Document Type: Article

References (44)

1. Gmelin Handbuch der anorganischen Chemie, 8th ed., Springer, Berlin 1974.
2. R. G. Schwab, R. A. Steiner, G. Mages, H. J. Beie, Thin Solid Films 1992, 207, 283.
3. R. G. Schwab, R. A. Steiner, G. Mages, H. J. Beie, Thin Solid Films 1992, 207, 288.
4. S. Guo, H. Arwin, S. N. Jacobson, K. Jarrendahl, U. Helmerson, J. Appl. Phys. 1995, 77, 5369.
5. T. Inoue, Y. Yamamoto, S. Koyama, S. Suzuki, Y. Ueda, Appl. Phvs. Lett. 1990, 56, 1332.
6. X. D. Wu, R. C. Dye, R. E. Muenchausen, S. R. Foltyn, M. Maley, A. D. Rollett, A. R. Garcia, N. S. Nogar, Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 2165.
7. X. D. Wu, S. R. Foltyn, P. N. Arendt, W. R. Blumenthal, I. H. Campbell, J. D. Cotton, J. Y. Coulter, W. L. Hults, M. P. Maley, H. F. Safar, J. L. Smith, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2397.
8. H. Paranthaman, D. F. Lee, R. Feenstra, A. Goyal, D. T. Vercbelyi, D. K. Christen, E. D. Specht, F. A. List, P. M. Martin, D. M. Kroeger, Z. F. Ren, W. Li, D. Z. Wang, J. Y. Lao, J. H. Wang, IEEE Trans. Appl. Supercond. 1999, 9, 2268.
9. V. Boffa, T. Petresar, S. Ceresara, L. Ciontca, F. Fabbri, P. Scardi, Physica C 1999, 312, 202.
10. A. Ignatiev, P. C. Chou, Q. Zhong, X, Zhang, Y. M. Chen, Int. J. Mod. Phys. B 1998, 12, 3162.
11. A. G. Zaitsev, G. Ockenfuss, D. Guggi, R. Wördenweber, U. Krüger, J. Appl. Phys. 1997, 81, 3069.
12. C. Y. Yang, S. E. Babcock, A. Goyal, M. Paranthaman, F. A. List, D. P. Norton, D. M. Kroeger, A. Ichinose, Physica C 1998, 307, 87.
13. B. Hirschauer, G. Chiaia, M. Gothelid, U. O. Karlsson, Thin Solid Films 1999, 348, 3.
14. M. Yoshimoto, K. Shimozono, T. Maeda, T. Ohnishi, M. Kumagai, T. Chikyow, O. Ishiyama, O. Shinohara, H. Koinuma, Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L688.
15. K. Fröhlich, J. Souc, D. Machajdík, A. P. Kozbev, F. Weiss, J. P. Senateur, K. H. Damen, J. Phys. IV 1995, C5, 533.
16. M. Becht, T. Morishita, Chem. Vap. Deposition 1996, 2, 191.
17. K. Fröhlich, D. Machajdík, F. Weiss, B. Bochu, Mater. Lett. 1994, 21, 377.
18. I. E. Graboy, N. V. Markov, V. V. Maleev, A. R. Kaul, S. N. Polyakov, V. L. Svetchnikov, H. W. Zandbergen, K. H. Damen, J. Alloys Compd. 1997, 251, 318.
19. K. Fröhlich, J. Souc, D. Machajdík, M. Jergel, J. Snauwaert, L. Hellemans, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 216.
20. M. Pan, G. Y. Meng, H. W. Xin, C. S. Chen, D. K. Peng, Y. S. Lin, Thin Solid Films 1998, 324, 89.
21. J. A. Belot, A. C. Wang, R. J. McNeely, L. Liable-Sands, A. L. Rheingold, T. J. Marks, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 65.
22. A. C. Wang, J. A. Belot, T. J. Marks, P. R. Markworth, R. P. H. Chang, M. P. Chudzik, C. R. Kannewurf, Physica C 1999, 320, 154.
23. J. McAleese, J. C. Plakatouras, B. C. H. Steele, Thin Solid Films 1996, 280, 152.
24. M. Leskela, R. Sillanpaa, L. Niinisto, M. Tiitta, Acta Chem. Scand. 1991, 45, 1006.
25. D. L. Kepert, J. M. Patrik, A. H. J. White, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1983, 567.
26. S. Liang, C. S. Chern, Z. Q. Shi, P. Lu, J. Cryst. Growth 1995, 151, 359.
27. M. Becht T. Gerfin, K. H. Dahmen, Chem. Mater. 1993, 5, 137.
28. J. McAleese, B. C. H. Steele, Corros. Sci. 1998, 40, 113. D. Chadwick, J. McAleese, K. Senkiw, B. C. H. Steele, Appl. Surf. Sci. 1996, 99, 417.
29. J. McAleese, B. C. H. Steele, Corros. Sci. 1998, 40, 113. D. Chadwick, J. McAleese, K. Senkiw, B. C. H. Steele, Appl. Surf. Sci. 1996, 99, 417.
30. Crystallographic data (excluding structure factors) for the structure reported in this paper have been deposited with the Cambridge Crystallographic Data Centre as supplementary publication no. CCDC-135541. Copies of the data can be obtained free of charge on application to CCDC, 12 Union Road, Cambridge CB2 1EZ, UK (fax: (+44) 1223 336033; e-mail: deposit@ccdc.cam.ac.uk).
31. G. Malandrino, R. Licata, F. Castelli, I. L. Fragalà, C. Benelli, Inorg. Chem. 1995, 34, 6233. G. Malandrino, C. Benelli, F. Castelli, I. L. Fragalà, Chem. Mater. 1998, 10, 3434.
32. G. Malandrino, R. Licata, F. Castelli, I. L. Fragalà, C. Benelli, Inorg. Chem. 1995, 34, 6233. G. Malandrino, C. Benelli, F. Castelli, I. L. Fragalà, Chem. Mater. 1998, 10, 3434.
33. G. Malandrino, O. Incontro, F. Castelli, I. L. Fragalà, C. Benelli, Chem. Mater. 1996, 8, 1292.
34. P. C. Christidis, I. A. Tossidis, D. G. Paschalidis, L. C. Tzavellas, Acta Crystallogr. 1998, C54, 1233. M. D. Danford, J. H. Burns, C. E. Higgins, J. R. Stokely, Jr., W. H. Baldwin, Inorg. Chem. 1970, 9, 1953.
35. P. C. Christidis, I. A. Tossidis, D. G. Paschalidis, L. C. Tzavellas, Acta Crystallogr. 1998, C54, 1233. M. D. Danford, J. H. Burns, C. E. Higgins, J. R. Stokely, Jr., W. H. Baldwin, Inorg. Chem. 1970, 9, 1953.
36. G. Malandrino, A. M. Borzì, F. Castelli, I. L. Fragalà, W. Dastrù, R. Gobetto, unpublished.
37. -1 under N2 with a 4 mm alumina sample pan.
38. J. McAleese, J. A. Darr, B. C. H. Steele, Chem Vap. Deposition 1996, 2, 244.
39. I. Baxter, J. A. Darr, M. B. Hursthouse, K. M. Abdul Malik, J. McAleese, D. M. P. Mingos, Polyhedron 1998, 17, 1329.
40. G. Malandrino, F. Castelli, I. L. Fragalà, Inorg. Chim. Acta 1994, 224, 203.
41. The detection limit of the WDX technique for fluorine is 400 ppm at 15 kV accelerating voltage, 10 nA current, 100 s acquisition time, and with TAP (thallium acid phthalate) crystal.
42. G. Malandrino, I. L. Fragalà, P. Scardi, Chem. Mater. 1998, 10, 3765.
43. A. Altomare, G. Cascarano, C. Giacovazzo, A. Guagliardi, M. C. Burla, G. Polidori, M. J. Camalli, J. Appl. Crystallogr. 1994, 27, 435.
44. G. M. Sheldrick, SHELXL93, Program for Crystal Structure Determination, University of Göttingen, Germany 1993.