Nitrogen doping of chemical vapor deposition grown graphene on 4H-SiC (0001)

Journal of Applied Physics

Volumn 115, Issue 23, 2014, Pages

  Urban, J M ^a   Dabrowski, P ^b   Binder, J ^a   Kopciuszynski M ^c   Wysmolek A ^a   Klusek, Z ^d   Jalochowski M ^c   Strupinski W ^b   Baranowski, J M ^a,b  

^a UNIVERSITY OF WARSAW   (Poland)

^b ukasiewicz Research Network Institute of Microelectronics and Photonics   (Poland)

^c MARIA CURIE SK ODOWSKA UNIVERSITY   (Poland)

^d UNIVERSITY OF LODZ   (Poland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DOPING (ADDITIVES); ELECTRIC PROPERTIES; ELECTRONIC PROPERTIES; NITROGEN; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SILICON CARBIDE; VAPORS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ANGLE RESOLVED PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY; BEHAVIOR CHARACTERISTIC; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHODS; HALL EFFECT MEASUREMENT; HIGH ELECTRON CONCENTRATION; MASSLESS DIRAC FERMIONS; NITROGEN-DOPED GRAPHENE; STRUCTURAL AND ELECTRONIC PROPERTIES;

GRAPHENE;

EID: 84903204044     PISSN: 00218979     EISSN: 10897550     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4884015     Document Type: Article

References (47)

1. R. Lv, Q. Li, A. R. Botello-Méndez, T. Hayashi, B. Wang, A. Berkdemir, Q. Hao, A. L. Elías, R. Cruz-Silva, H. R. Gutiérrez, Y. A. Kim, H. Muramatsu, J. Zhu, M. Endo, H. Terrones, J.-C. Charlier, M. Pan, and M. Terrones, Sci. Rep. 2, 586 (2012) 10.1038/srep00586.
2. H. Wang, T. Maiyalagan, and X. Wang, ACS Catal. 2 (5), 781 (2012). 10.1021/cs200652y
3. L. S. Panchakarla, K. S. Subrahmanyam, S. K. Saha, A. Govindaraj, H. R. Krishnamurthy, U. V. Waghmare, and C. N. R. Rao, Adv. Mater. 21, 4726 (2009) 10.1002/adma.200901285.
4. R. Lv, Q. Li, A. R. Botello-Méndez, T. Hayashi, B. Wang, A. Berkdemir, Q. Hao, A. L. Elías, R. Cruz-Silva, H. R. Gutiérrez, Y. A. Kim, H. Muramatsu, J. Zhu, M. Endo, H. Terrones, J. Ch. Charlier, M. Pan, and M. Terrones, Mater. Lett. 78, 209 (2012). 10.1016/j.matlet.2012.04.033
5. T. Schiros, D. Nordlund, L. Pálová, D. Prezzi, L. Zhao, K. S. Kim, U. Wurstbauer, Ch. Gutiérrez, D. Delongchamp, Ch. Jaye, D. Fischer, H. Ogasawara, L. G. M. Pettersson, D. R. Reichman, P. Kim, M. S. Hybertsen, and A. N. Pasupathy, Nano Lett. 12 (8), 4025 (2012). 10.1021/nl301409h
6. S. Jalili and R. Vaziri, Mol. Phys. 109 (5), 687 (2011). 10.1080/00268976.2010.547523
7. Z. Hou, X. Wang, T. Ikeda, K. Terakura, M. Oshima, and M. Kakimoto, Phys. Rev. B 87, 165401 (2013). 10.1103/PhysRevB.87.165401
8. D. Wei, Y. Liu, Y. Wang, H. Zhang, L. Huang, and G. Yu, Nano Lett. 9 (5), 1752 (2009). 10.1021/nl803279t
9. J. Chen, Y. Hu, and H. Guo, Phys. Rev. B 85, 155441 (2012). 10.1103/PhysRevB.85.155441
10. X. Wang, X. Li, L. Zhang, Y. Yoon, P. K. Weber, H. Wang, J. Guo, and H. Dai, Science 324, 768 (2009). 10.1126/science.1170335
11. C. Zhang L. Fu, N. Liu, M. Liu, Y. Wang, and Z. Liu, Adv. Mater. 23 (8), 1020 (2011). 10.1002/adma.201004110
12. F. M. Hassan V. Chabot, J. Li, B. K. Kim, L. Ricardez-Sandoval, and A. Yu, J. Mater. Chem. A 1, 2904 (2013). 10.1039/c2ta01064j
13. B. Jiang, Ch. Tian, L. Wang, L. Sun, Ch. Chen, X. Nong, Y. Qiao, and H. Fu, Appl. Surf. Sci. 258, 3438 (2012). 10.1016/j.apsusc.2011.11.091
14. Y. Zheng, Y. Jiao, L. Ge, M. Jaroniec, and S. Z. Qiao, Angew. Chem., Int. Ed. 52 (11), 3110 (2013). 10.1002/anie.201209548
15. L. Qu, Y. Liu, J.-B. Baek, and L. Dai, ACS Nano 4 (3), 1321 (2010). 10.1021/nn901850u
16. Y. Wang, Y. Shao, D. W. Matson, J. Li, and Y. Lin, ACS Nano 4 (4), 1790 (2010). 10.1021/nn100315s
17. L. Zhao, R. He, K. T. Rim, T. Schiros, K. S. Kim, H. Zhou, Ch. Gutiérrez, S. P. Chockalingam, C. J. Arguello, L. Pálová, D. Nordlund, M. S. Hybertsen, D. R. Reichman, T. F. Heinz, Ph. Kim, A. Pinczuk, G. W. Flynn, and A. N. Pasupathy, Science 333 (6045), 999 (2011). 10.1126/science.1208759
18. Z. Luo, S. Lim, Zh. Tian, J. Shang, L. Lai, B. MacDonald, Ch. Fu, Z. Shen, T. Yu, and J. Lin, J. Mater. Chem. 21, 8038 (2011). 10.1039/c1jm10845j
19. B. Guo, Q. Liu, E. Chen, H. Zhu, L. Fang, and J. R. Gong, Nano Lett. 10, 4975 (2010). 10.1021/nl103079j
20. X. Li, H. Wang, J. T. Robinson, H. Sanchez, G. Diankov, and H. Dai, J. Am. Chem. Soc. 131, 15939 (2009). 10.1021/ja907098f
21. K.-J. Kim, H. Lee, J. Choi, H. Lee, M. Ch. Jung, H. J. Shin, T.-H. Kang, B. Kim, and S. Kim, J. Phys.: Condens. Matter 22, 045005 (2010) 10.1088/0953-8984/22/4/045005.
22. D. Deng, X. Pan, L. Yu, Y. Cui, Y. Jiang, J. Qi, W.-X. Li, Q. Fu, X. Ma, Q. Xue, G. Sun, and X. Bao, Chem. Mater. 23 (5), 1188 (2011). 10.1021/cm102666r
23. Y.-F. Lu, S.-T. Lo, J.-C. Lin, W. Zhang, J.-Y. Lu, F.-H. Liu, Ch. -M. Tseng, Y.-H. Lee, Ch. -T. Liang, and L.-J. Li, ACS Nano 7 (8), 6522 (2013). 10.1021/nn402102y
24. Z. Jin, J. Yao, C. Kittrell, and J. M. Tour, ACS Nano 5 (5), 4112 (2011). 10.1021/nn200766e
25. H. Gao, L. Song, W. Guo, L. Huang, D. Yang, F. Wang, Y. Zuo, X. Fan, Z. Liu, W. Gao, R. Vajtai, K. Hackenberg, and P. M. Ajayan, Carbon 50, 4476 (2012). 10.1016/j.carbon.2012.05.026
26. Z. Zafar, Z. H. Ni, X. Wu, Z. X. Shi, H. Y. Nan, J. Bai, and L. T. Sun, Carbon 61, 57 (2013). 10.1016/j.carbon.2013.04.065
27. D. Usachov, O. Vilkov, A. Grüneis, D. Haberer, A. Fedorov, V. K. Adamchuk, A. B. Preobrajenski, P. Dudin, A. Barinov, M. Oehzelt, C. Laubschat, and D. V. Vyalikh, Nano Lett. 11 (12), 5401 (2011). 10.1021/nl2031037
28. R. J. Koch, M. Weser, W. Zhao, F. Viñes, K. Gotterbarm, S. M. Kozlov, O. Höfert, M. Ostler, C. Papp, J. Gebhardt, H.-P. Steinrück, A. Görling, and Th. Seyller, Phys. Rev. B 86, 075401 (2012). 10.1103/PhysRevB.86.075401
29. W. Strupinski, K. Grodecki, A. Wysmolek, R. Stepniewski, T. Szkopek, P. E. Gaskell, A. Grüneis, D. Haberer, R. Bozek, J. Krupka, and J. M. Baranowski, Nano Lett. 11 (4), 1786 (2011). 10.1021/nl200390e
30. E. Velez-Fort, C. Mathieu, E. Pallecchi, M. Pigneur, M. G. Silly, R. Belkhou, M. Marangolo, A. Shukla, F. Sirotti, and A. Ouerghi, ACS Nano 6 (12), 10893 (2012) 10.1021/nn304315z.
31. K. Grodecki, R. Bozek, W. Strupinski, A. Wysmolek, and R. Stepniewski, Appl. Phys. Lett. 100, 261604 (2012). 10.1063/1.4730372
32. A. C. Ferrari and D. M. Basko, Nat. Nanotechnol. 8, 235 (2013). 10.1038/nnano.2013.46
33. L. M. Malard, M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, and M. S. Dresselhaus, Phys. Rep. 473, 51 (2009). 10.1016/j.physrep.2009.02.003
34. F. Fromm, M. H. Oliveira, Jr., A. Molina-Sánchez, M. Hundhausen, J. M. J. Lopes, H. Riechert, L. Wirtz, and T. Seyller, New J. Phys. 15, 043031 (2013). 10.1088/1367-2630/15/4/043031
35. A. Tiberj, J. R. Huntzinger, N. Camara, P. Godignon, and J. Camassel, pre-print arXiv:1212.1196v1 [cond-mat.mes-hall] (2012).
36. C. Riedl, C. Coletti, T. Iwasaki, A. A. Zakharov, and U. Starke, Phys. Rev. Lett. 103, 246804 (2009). 10.1103/PhysRevLett.103.246804
37. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, and A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006). 10.1103/PhysRevLett.97.187401
38. A. Das, S. Pisana, B. Chakraborty, S. Piscanec, S. K. Saha, U. V. Waghmare, K. S. Novoselov, H. R. Krishnamurthy, A. K. Geim, A. C. Ferrari, and A. K. Sood, Nat. Nanotechnol. 3, 210 (2008). 10.1038/nnano.2008.67
39. A. Das, B. Chakrabortry, and A. K. Sood, Bull. Mater. Sci. 31, 579 (2008). 10.1007/s12034-008-0090-5
40. P. Venezuela, M. Lazzeri, and F. Mauri, Phys. Rev. B 84, 035433 (2011). 10.1103/PhysRevB.84.035433
41. T. M. G. Mohiuddin, A. Lombardo, R. R. Nair, A. Bonetti, G. Savini, R. Jalil, N. Bonini, D. M. Basko, C. Galiotis, N. Marzari, K. S. Novoselov, A. K. Geim, and A. C. Ferrari, Phys. Rev. B 79, 205433 (2009). 10.1103/PhysRevB.79. 205433
42. J. Zabel, R. R. Nair, A. Ott, Th. Georgiou, A. K. Geim, K. S. Novoselov, and C. Casiraghi, Nano Lett. 12 (2), 617 (2012). 10.1021/nl203359n
43. D. M. Basko, S. Piscanec, and A. C. Ferrari, Phys. Rev. B 80, 165413 (2009). 10.1103/PhysRevB.80.165413
44. J. E. Lee, G. Ahn, J. Shim, Y. S. Lee, and S. Ryu, Nat. Commun. 3, 1024 (2012). 10.1038/ncomms2022
45. D. A. Schmidt, T. Ohta, and Th. E. Beechem, Phys. Rev. B 84, 235422 (2011). 10.1103/PhysRevB.84.235422
46. F. Tuinstra and J. L. Koenig, J. Chem. Phys. 53, 1126 (1970). 10.1063/1.1674108
47. L. G. Cançado, A. Jorio, E. H. Martins Ferreira, F. Stavale, C. A. Achete, R. B. Capaz, M. V. O. Moutinho, A. Lombardo, T. S. Kulmala, and A. C. Ferrari, Nano Lett. 11 (8), 3190 (2011). 10.1021/nl201432g