Photo-insensitive amorphous oxide thin-film transistor integrated with a plasmonic filter for transparent electronics

Advanced Functional Materials

Volumn 24, Issue 23, 2014, Pages 3482-3487

  Chang, Seongpil ^a   Do, Yun Seon ^b   Kim, Jong Woo ^a   Hwang, Bo Yeon ^a   Choi, Jinnil ^c   Choi, Byung Hyun ^d   Lee, Yun Hi ^a   Choi, Kyung Cheol ^b   Ju, Byeong Kwon ^a  

^a Korea University   (South Korea)

^b Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^c Hanbat National University   (South Korea)

^d Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology (KICET)   (South Korea)

Author keywords

amorphous oxides; negative bias illumination stress; plasmonic filters; semiconductors; transistors; transparent electronics

Indexed keywords

METALLIC FILMS; SEMICONDUCTOR MATERIALS; THIN FILM TRANSISTORS; TRANSISTORS;

AMORPHOUS OXIDES; FILTERING PERFORMANCE; GEOMETRICAL FACTORS; NEGATIVE BIAS; PLASMONIC FILTERS; RESONANCE FREQUENCIES; RESONANCE PHENOMENA; TRANSPARENT ELECTRONICS;

PLASMONS;

EID: 84902369007     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201304114     Document Type: Article

References (27)

1. T. Kamiya, H. Hosono, NPG Asia Mater. 2010, 2, 15.
2. E. Fortunato, P. Barquinha, R. Martins, Adv. Mater. 2012, 24, 2945.
3. A. Suresh, J. F. Muth, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 033502.
4. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono, Nature 2004, 432, 488.
5. S.-H. K. Park, C.-S. Hwang, M. Ryu, S. Yang, C. Byun, J. Shin, J.-I. Lee, K. Lee, M. S. Oh, S. Im, Adv. Mater. 2009, 21, 678.
6. A. Suresh, P. Wellenius, V. Baliga, H. Luo, L. M. Lunardi, J. F. Muth, IEEE Elec. Dev. Lett. 2010, 31, 317.
7. J. H. Jeon, J. Kim, M. K. Ryu, J. Kor. Phys. Soc. 2011, 58, 158.
8. J. S. Park, T. S. Kim, K. S. Son, J. S. Jung, K. H. Lee, J. Y. Kwon, B. Koo, S. Lee, IEEE Elec. Dev. Lett. 2010, 31, 440.
9. a) K.-H. Lee, J. S. Jung, K. S. Son, J. S. Park, T. S. Kim, R. Choi, J. K. Jeong, J.-Y. Kwon, B. Koo, S. Lee, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 232106
10. b) T.-C. Chen, T.-C. Chang, T.-Y. Hsieh, C.-T. Tsai, S.-C. Chen, C.-S. Lin, M.-C. Hung, C.-H. Tu, J.-J. Chang, P.-L. Chen, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 112104.
11. H. Oh, S. M. Yoon, M. K. Ryu, C. S. Hwang, S. Yang, S. H. K. Park, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 183502.
12. a) Q. Chen, D. Chitnis, K. Walls, T. D. Drysdale, S. Collins, D. R. S. Cumming, IEEE Photonic Tech. Lett. 2012, 24, 197
13. b) S. Yokogawa, S. P. Burgos, H. A. Atwater, Nano Lett. 2012, 12, 4349.
14. Y. S. Do, J. H. Park, B. Y. Hwang, S. M. Lee, B. K. Ju, K. C. Choi, Adv. Opt. Mater. 2013, 1, 133.
15. S. Jeon, S.-E. Ahn, I. Song, C. J. Kim, U.-I. Chung, E. Lee, I. Yoo, A. Nathan, S. Lee, J. Robertson, K. Kim, Nat. Mater. 2012, 11, 301.
16. T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, H. F. Ghaemi, T. Thio, P. A. Wolff, Nature 1998, 391, 667.
17. H. T. Liu, P. Lalanne, Nature 2008, 452, 728.
18. H. F. Ghaemi, T. Thio, D. E. Grupp, T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, Phys. Rev. B 1998, 58, 6779.
19. P. Görrn, M. Lehnhardt, T. Riedl, a, W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 193504.
20. F. Przybilla, A. Degiron, C. Genet, T. W. Ebbesen, F. de Leon-Perez, J. Bravo-Abad, F. J. Garcia-Vidal, L. Martin-Moreno, Optic. Express 2008, 16, 9571.
21. a) D.-C. Hsu, I. Y.-k. Chang, M.-T. Wang, P.-C. Juan, Y. L. Wang, J. Y.-m. Lee, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 202901
22. b) M. Huang, I. Mayergoyz, P. Andrei, J. Appl. Phys. 2007, 101, 014508.
23. a) B. Ryu, H.-K. Noh, E.-A. Choi, K. J. Chang, Appl Phys Lett 2010, 97, 022108
24. b) J. H. Kim, U. K. Kim, Y. J. Chung, C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 232102.
25. S. Y. Park, J. H. Song, C.-K. Lee, B. G. Son, C.-K. Lee, H. J. Kim, R. Choi, Y. J. Choi, U. K. Kim, C. S. Hwang, IEEE Electron Dev. Lett. 2013, 7, 894.
26. A. Janotti, C. G. Van de Walle, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 122102
27. S. Lany, A. Zunger, Phys. Rev. B 2005, 72, 035215.