Plasmonic Color Filter and its Fabrication for Large-Area Applications

Advanced Optical Materials

Volumn 1, Issue 2, 2013, Pages 133-138

  Do, Yun Seon ^a   Park, Jung Ho ^b   Hwang, Bo Yeon ^b   Lee, Sung Min ^a   Ju, Byeong Kwon ^b   Choi, Kyung Cheol ^a  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^b Korea University   (South Korea)

Author keywords

Color filters; Laser interference lithography; Nanohole arrays; Plasmonics; Surface plasmons

Indexed keywords

EID: 84883498925     PISSN: None     EISSN: 21951071     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adom.201200021     Document Type: Article

References (19)

1. T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, H. F. Ghaemi, T. Thio, P. A. Wolff, Nature 1998, 391, 667.
2. H. S. Lee, Y. T. Yoon, S. S. Lee, S. H. Kim, K. D. Lee, Opt. Express 2007, 15, 15457.
3. Q. Chen, D. R. S. Cumming, Opt. Express 2010, 18, 14056.
4. D. Inoue, A. Miura, T. Nomura, H. Fujikawa, K. Sato, N. Ikeda, D. Tsuya, Y. Sugimoto, Y. Koide, Appl. Phys. Lett. 2011, 98.
5. S. Yokogawa, S. P. Burgos, H. A. Atwater, Nano Lett. 2012, 12, 4349.
6. Q. Chen, D. Chitnis, K. Walls, T. D. Drysdale, S. Collins, D. R. S. Cumming, IEEE Phot. Technol. Lett. 2012, 24, 197; b) Q. Chen, D. Das, D. Chitnis, K. Walls, T. D. Drysdale, S. Collins, D. R. S. Cumming, Plasmonics 2012, 7, 695.
7. R. W. Sabnis, Displays 1999, 20, 119.
8. H. J. Park, T. Xu, J. Y. Lee, A. Ledbetter, L. J. Guo, ACS Nano 2011, 5, 7055.
9. T. Xu, Y. K. Wu, X. G. Luo, L. J. Guo, Nat. Commun. 2010, 1.
10. M. L. Schattenburg, C. R. Canizares, D. Dewey, K. A. Flanagan, M. A. Hamnett, A. M. Levine, K. S. K. Lum, R. Manikkalingam, T. H. Markert, H. I. Smith, Opt. Eng. 1991, 30, 1590; b) M. Campbell, D. N. Sharp, M. T. Harrison, R. G. Denning, A. J. Turberfield, Nature 2000, 404, 53; c) I. B. Divliansky, A. Shishido, I. C. Khoo, T. S. Mayer, D. Pena, S. Nishimura, C. D. Keating, T. E. Mallouk, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 3392; d) L. E. Gutierrez-Rivera, L. Cescato, J. Micromech. Microeng. 2008, 18.
11. J. Henzie, M. H. Lee, T. W. Odom, Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 549.
12. H. F. Ghaemi, T. Thio, D. E. Grupp, T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, Phys. Rev. B 1998, 58, 6779.
13. C. Genet, M. P. van Exter, J. P. Woerdman, Opt. Commun. 2003, 225, 331.
14. A. Krishnan, T. Thio, T. J. Kima, H. J. Lezec, T. W. Ebbesen, P. A. Wolff, J. Pendry, L. Martin-Moreno, F. J. Garcia-Vidal, Opt. Commun. 2001, 200, 1.
15. W. L. Barnes, J. Opt. A-Pure Appl. Op. 2006, 8, S87.
16. Q. Xie, M. H. Hong, H. L. Tan, G. X. Chen, L. P. Shi, T. C. Chong, J. Alloy Compd. 2008, 449, 261.
17. J. de Boor, D. S. Kim, V. Schmidt, Opt. Lett. 2010, 35, 3450.
18. R. Murillo, H. A. van Wolferen, L. Abelmann, J. C. Lodder, Microelectron. Eng. 2005, 78-79, 260.
19. T. C. Hennessy, Lithography: Principles, Processes and Materials, Noba Science Publishers, Inc., Hauppauge, NY, USA 2011.