Modeling and optimization of atomic layer deposition processes on vertically aligned carbon nanotubes

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 5, Issue 1, 2014, Pages 234-244

  Yazdani, Nuri ^a   Chawla, Vipin ^b   Edwards, Eve ^b   Wood, Vanessa ^a   Park, Hyung Gyu ^a   Utke, Ivo ^b  

^a ETH ZURICH   (Switzerland)

^b SWISS FEDERAL LABORATORIES FOR MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Switzerland)

Author keywords

Atomic layer deposition; Conformal coating guidelines; Continuum diffusion model; Vertically aligned carbon nanotubes

Indexed keywords

ASPECT RATIO; CARBON NANOTUBES; CERAMIC MATERIALS; DEPOSITION; DIFFUSION COATINGS; ENERGY CONVERSION; NANOWIRES; SCAFFOLDS; TITANIUM DIOXIDE; VIRTUAL STORAGE;

ASPECT RATIO STRUCTURES; CONFORMAL COATINGS; DIFFUSION MODEL; ENERGY CONVERSION AND STORAGES; INTERFACIAL SURFACE; MODELING AND OPTIMIZATION; TIO; VERTICALLY ALIGNED CARBON NANOTUBE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84899063255     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.5.25     Document Type: Article

References (36)

1. Marichy, C.; Bechelany, M.; Pinna, N. Adv. Mater. 2012, 24, 1017. doi:10.1002/adma.201104129.
2. Lahiri, I.; Oh, S.-M.; Hwang, J. Y.; Kang, C.; Choi, M.; Jeon, H.; Banerjee, R.; Sun, Y.-K.; Choi, W. J. Mater. Chem. 2011, 21, 13621. doi:10.1039/c1jm11474c.
3. Meng, X.; Zhong, Y.; Sun, Y.; Banis, M. N.; Li, R.; Sun, X. Carbon 2011, 49, 1133. doi:10.1016/j.carbon.2010.11.028.
4. Min, Y.-S.; Bae, E. J.; Jeong, K. S.; Cho, Y. J.; Lee, J.-H.; Choi, W. B.; Park, G.-S. Adv. Mater. 2003, 15, 1019. doi:10.1002/adma.200304452.
5. Wen, Z.; Wang, Q.; Zhang, Q.; Li, J. Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 2772. doi:10.1002/adfm.200600739.
6. Chen, Y.; Zhang, Y.; Geng, D.; Li, R.; Hong, H.; Chen, J.; Sun, X. Carbon 2011, 49, 4434. doi:10.1016/j.carbon.2011.06.046.
7. Cui, X.; Hu, F.; Wei, W.; Chen, W. Carbon 2011, 49, 1225. doi:10.1016/j.carbon.2010.11.039.
8. Ma, S.-B.; Ahn, K.-Y.; Lee, E.-S.; Oh, K.-H.; Kim, K.-B. Carbon 2007, 45, 375. doi:10.1016/j.carbon.2006.09.006.
9. Ma, S.-B.; Nam, K.-W.; Yoon, W.-S.; Yang, X.-Q.; Ahn, K.-Y.; Oh, K.-H.; Kim, K.-B. J. Power Sources 2008, 178, 483. doi:10.1016/j.jpowsour.2007.12.027.
10. Nam, K.-W.; Lee, C.-W.; Yang, X.-Q.; Cho, B. W.; Yoon, W.-S.; Kim, K.-B. J. Power Sources 2009, 188, 323. doi:10.1016/j.jpowsour.2008.11.133.
11. Raymundo-Piñero, E.; Khomenko, V.; Frackowiak, E.; Béguin, F. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, A229. doi:10.1149/1.1834913.
12. Boukhalfa, S.; Evanoff, K.; Yushin, G. Energy Environ. Sci. 2012, 5, 6872. doi:10.1039/C2EE21110F.
13. Liu, C.; Wang, C.-C.; Kei, C.-C.; Hsueh, Y.-C.; Perng, T.-P. Small 2009, 5, 1535. doi:10.1002/smll.200900278.
14. Marichy, C.; Donato, N.; Willinger, M.-G.; Latino, M.; Karpinsky, D.; Yu, S.-H.; Neri, G.; Pinna, N. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 658. doi:10.1002/adfm.201001572.
15. Willinger, M.-G.; Neri, G.; Bonavita, A.; Micali, G.; Rauwel, E.; Herntrich, T.; Pinna, N. Phys. Chem. Chem. Phys. 2009, 11, 3615. doi:10.1039/b821555c.
16. Willinger, M.-G.; Neri, G.; Rauwel, E.; Bonavita, A.; Micali, G.; Pinna, N. Nano Lett. 2008, 8, 4201. doi:10.1021/nl801785b.
17. Altun, A. O.; Youn, S. K.; Yazdani, N.; Bond, T.; Park, H. G. Adv. Mater. 2013, 25, 4377. doi:10.1002/adma.201370199.
18. Knez, M.; Nielsch, K.; Niinistö, K. Adv. Mater. 2007, 19, 3425. doi:10.1002/adma.200700079.
19. Aarik, J.; Aidla, A.; Mändar, H.; Uustare, T. Appl. Surf. Sci. 2001, 172, 148. doi:10.1016/S0169-4332(00)00842-4.
20. Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskelä, M. Appl. Surf. Sci. 2000, 161, 385. doi:10.1016/S0169-4332(00)00274-9.
21. Herrmann, C. F.; Fabreguette, F. H.; Finch, D. S.; Geiss, R.; George, S. M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 123110. doi:10.1063/1.2053358.
22. Lu, Y.; Bangsaruntip, S.; Wang, X.; Zhang, L.; Nishi, Y.; Dai, H. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 3518. doi:10.1021/ja058836v.
23. Wang, X.; Tabakman, S. M.; Dai, H. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 8152. doi:10.1021/ja8023059.
24. Xuan, Y.; Wu, Y. Q.; Shen, T.; Qi, M.; Capano, M. A.; Cooper, J. A.; Ye, P. D. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 013101. doi:10.1063/1.2828338.
25. Cavanagh, A. S.; Wilson, C. A.; Weimer, A. W.; George, S. M. Nanotechnology 2009, 20, 255602. doi:10.1088/0957-4484/20/25/255602.
26. Lim, J.-W.; Park, H.-S.; Kang, S.-W. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, C403. doi:10.1149/1.1368102.
27. Yazdani, N.; Bozyigit, D.; Utke, I.; Buchheim, J.; Youn, S. K.; Patscheider, J.; Wood, V.; Park, H. G. ACS Appl. Mater. Interfaces 2014, 6, 1389. doi:10.1021/am405987t.
28. Xiang, R.; Yang, Z.; Zhang, Q.; Luo, G.; Qian, W.; Wei, F.; Kadowaki, M.; Einarsson, E.; Maruyama, S. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4892. doi:10.1021/jp710730x.
29. Zhong, G.; Iwasaki, T.; Robertson, J.; Kawarada, H. J. Phys. Chem. B 2007, 111, 1907. doi:10.1021/jp067776s.
30. George, S. M. Chem. Rev. 2009, 110, 111. doi:10.1021/cr900056b.
31. Dendooven, J.; Deduytsche, D.; Musschoot, J.; Vanmeirhaeghe, R.; Detavernier, C. J. Electrochem. Soc. 2009, 156, P63. doi:10.1149/1.3072694.
32. Gordon, R. G.; Hausmann, D.; Kim, E.; Shepard, J. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 73. doi:10.1002/cvde.200390005.
33. Elam, J. W.; Routkevitch, D.; Mardilovich, P. P.; George, S. M. Chem. Mater. 2003, 15, 3507. doi:10.1021/cm0303080.
34. Adomaitis, R. A. Chem. Vap. Deposition 2011, 17, 353. doi:10.1002/cvde.201106922.
35. Knoops, H. C. M.; Langereis, E.; van de Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, G241. doi:10.1149/1.3491381.
36. Rose, M.; Bartha, J. W. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 6620. doi:10.1016/j.apsusc.2009.02.055.