Influence of lattice distortion induced by a vicinal SrTiO3(001) substrate in single-domain bifeo3 thin films prepared by radio frequency planar magnetron sputtering

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 52, Issue 9 PART2, 2013, Pages

  Nakashima, Seiji ^a   Takada, Yusuke ^a   Seto, Shota ^a   Fujisawa, Hironori ^a   Sakata, Osami ^b   Katsuya, Yoshio ^b   Kobune, Masafumi ^a   Shimizu, Masaru ^a  

^a UNIVERSITY OF HYOGO   (Japan)

^b NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BIFEO3 THIN FILM; DOMAIN STRUCTURE; EPITAXIAL STRAIN; LATTICE DISTORTIONS; LATTICE RELAXATION; RADIO FREQUENCIES; SINGLE-DOMAIN STRUCTURE; SYNCHROTRON X RAY DIFFRACTION;

EPITAXIAL FILMS; EPITAXIAL GROWTH; FERROELECTRIC MATERIALS; MAGNETRON SPUTTERING; STRONTIUM TITANATES; SUBSTRATES; X RAY DIFFRACTION;

FILM PREPARATION;

EID: 84884739074     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.7567/JJAP.52.09KB03     Document Type: Article

References (40)

1. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig, and R. Ramesh: Science 299 (2003) 1719.
2. D. Lebeugle, D. Colson, A. Forget, M. Viret, P. Bonville, J. F. Marucco, and S. Fusil: Phys. Rev. B 76 (2007) 024116.
3. D. Lebeugle, D. Colson, A. Forget, and M. Viret: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 022907.
4. C. Michel, J.-M. Moreau, G. D. Achenbach, R. Gerson, and W. J. James: Solid State Commun. 7 (1969) 701.
5. J. R. Teague, R. Gerson, and W. J. James: Solid State Commun. 8 (1970) 1073.
6. Y. Kawahara, K. Ujimoto, T. Yoshimura, and N. Fujimura: Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 09LB04.
7. S. J. Clark and J. Robertson: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 132903.
8. A. G. Gavriliuk, V. V. Struzhkin, I. S. Lyubutin, S. G. Ovchinnikov, M. Y. Hu, and P. Chow: Phys. Rev. B 77 (2008) 155112.
9. R. Palai, R. S. Katiyar, H. Schmid, P. Tissot, S. J. Clark, J. Robertson, S. A. T. Redfern, G. Catalan, and J. F. Scott: Phys. Rev. B 77 (2008) 014110.
10. K. Y. Yun, D. Ricinschi, T. Kanashima, and M. Okuyama: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 192902.
11. S. Y. Yang, J. Seidel, S. J. Byrnes, P. Shafer, C.-H. Yang, M. D. Rossell, P. Yu, Y.-H. Chu, J. F. Scott, J. W. Ager, III, L. W. Martin, and R. Ramesh: Nat. Nanotechnol. 5 (2010) 143.
12. D. Lee, S. H. Baek, T. H. Kim, J.-G. Yoon, C. M. Folkman, C. B. Eom, and T. W. Noh: Phys. Rev. B 84 (2011) 125305.
13. T. Choi, S. Lee, Y. J. Choi, V. Kiryukhin, and S.-W. Cheong: Science 324 (2009) 63.
14. J. Seidel, D. Fu, S.-Y. Yang, E. Alarcón-Lladó, J. Wu, R. Ramesh, and J. W. Ager, III: Phys. Rev. Lett. 107 (2011) 126805.
15. R. Guo, L. You, L. Chen, D. Wu, and J. Wang: Appl. Phys. Lett. 99 (2011) 122902.
16. Y. Ukai, S. Yamazaki, T. Kawae, and A. Morimoto: Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 09LE10.
17. K. Takahashi, N. Kida, and M. Tonouchi: Phys. Rev. Lett. 96 (2006) 117402.
18. S. R. Basu, L. W. Martin, Y. H. Chu, M. Gajek, R. Ramesh, R. C. Rai, X. Xu, and J. L. Musfeldt: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 091905.
19. J. Robertson, W. L. Warren, and B. A. Tuttle: J. Appl. Phys. 77 (1985) 3975.
20. H. Naganuma, J. Miura, and S. Okamura: Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 052901.
21. T. Kawae, H. Tsuda, H. Naganuma, S. Yamada, M. Kumeda, S. Okamura, and A. Morimoto: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 7586.
22. Z. Zhong, S. K. Singh, K. Maruyama, and H. Ishiwara: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 2230.
23. S. K. Singh, H. Ishiwara, K. Sato, and K. Maruyama: J. Appl. Phys. 102 (2007) 094109.
24. Z. Zhong, Y. Sugiyama, and H. Ishiwara: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 6448.
25. J. M. Park, S. Nakashima, F. Gotoda, T. Kanashima, and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 48 (2009) 09KB03.
26. F. Gao, Y. Yuan, K. F. Wang, X. Y. Chen, F. Chen, J.-M. Liu, and Z. F. Ren: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 102506.
27. J. M. Park, F. Gotoda, S. Nakashima, M. Sohgawa, T. Kanashima, and M. Okuyama: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NB03.
28. T. Kawae, Y. Tsukada, T. Nakajima, Y. Terauchi, Y. Nomura, S. Okamura, and A. Morimoto: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NA09.
29. J. Seidel, L. W. Martin, Q. He, Q. Zhan, Y.-H. Chu, A. Rother, M. E. Hawkridge, P. Maksymovych, P. Yu, M. Gajek, N. Balke, S. V. Kalinin, S. Gemming, F. Wang, G. Catalan, J. F. Scott, N. A. Spaldin, J. Orenstein, and R. Ramesh: Nat. Mater. 8 (2009) 229.
30. S. Farokhipoor and B. Noheda: J. Appl. Phys. 112 (2012) 052003.
31. H. W. Jang, D. Ortiz, S.-H. Baek, C. M. Folkman, R. R. Das, P. Shafer, Y. Chen, C. T. Nelson, X. Pan, R. Ramesh, and C.-B. Eom: Adv. Mater. 21 (2009) 817.
32. S. Nakashima, H. Fujisawa, H. Suminaga, J. M. Park, H. Nishioka, M. Kobune, T. Kanashima, M. Okuyama, and M. Shimizu: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NB01.
33. S. Nakashima, Y. Tsujita, H. Fujisawa, J. M. Park, T. Kanashima, M. Okuyama, and M. Shimizu: Curr. Appl. Phys. 11 (2011) S244.
34. S. Nakashima, H. Fujisawa, Y. Tsujita, S. Seto, M. Kobune, and M. Shimizu: Jpn. J. Appl. Phys. 51 (2012) 09LB02.
35. D. H. Kim, H. N. Lee, M. D. Biegalski, and H. M. Christen: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 012911.
36. H. Nagai: J. Appl. Phys. 45 (1974) 3789.
37. T. H. Kim, S. H. Baek, S. Y. Jang, S. M. Yang, S. H. Chang, T. K. Song, J.-G. Yoon, C. B. Eom, J.-S. Chung, and T. W. Noh: Appl. Phys. Lett. 98 (2011) 022904.
38. X. R. Huang, J. Bai, M. Dudley, R. D. Dupuis, and U. Chowdhury: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 211916.
39. J. Tersoff, Y. H. Phang, Z. Zhang, and M. G. Lagally: Phys. Rev. Lett. 75 (1995) 2730.
40. H. W. Jang, S. H. Baek, D. Ortiz, C. M. Folkman, R. R. Das, Y. H. Chu, P. Shafer, J. X. Zhang, S. Choudhury, V. Vaithyanathan, Y. B. Chen, D. A. Felker, M. D. Biegalski, M. S. Rzchowski, X. Q. Pan, D. G. Schlom, L. Q. Chen, R. Ramesh, and C. B. Eom: Phys. Rev. Lett. 101 (2008) 107602.