In situ magnetic annealing effects on multiferroic Mn-doped BiFeO 3 thin films

Journal of Alloys and Compounds

Volumn 552, Issue , 2013, Pages 186-189

  Tang, Xianwu ^a   Dai, Jianming ^a   Zhu, Xuebin ^a   Sun, Yuping ^a  

^a INSTITUTE OF SOLID STATE PHYSICS   (China)

Author keywords

BFMO; CSD; Ferroelectric; Magnetic; Magnetic annealing

Indexed keywords

ANNEALING; BISMUTH COMPOUNDS; DEPOSITION; FERROELECTRIC FILMS; FERROELECTRIC MATERIALS; FERROELECTRICITY; GRAIN GROWTH; MAGNETIC FIELDS; MAGNETIC LEAKAGE; MAGNETISM; MANGANESE; MANGANESE OXIDE;

BFMO; CHEMICAL SOLUTION DEPOSITION; FERROELECTRIC PROPERTY; MAGNETIC; MAGNETIC ANNEALING; MN-DOPED BIFEO; MULTIFERROICS;

THIN FILMS;

EID: 84869889262     PISSN: 09258388     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.jallcom.2012.10.044     Document Type: Article

References (30)

1. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, et al., Science 299 (2003) 1719.
2. R. Thomas, J. F. Scott, D. N. Bose, R. S. Katiyar, J. Phys. Condens. Matter 22 (2010) 3201.
3. R. Y. Zheng, X. S. Gao, Z. H. Zhou, J. Wang, J. Appl. Phys. 101 (2007) 054104.
4. M. S. Kartavtseva, O. Y. Gorbenko, A. R. Kaul, A. R. Akbashev, T. V. Murzina, et al., Surf. Coat. Technol. 201 (2007) 9149.
5. S. K. Singh, K. Maruyama, H. Ishiwara, Integr. Ferroelectr. 98 (2008) 83.
6. Y. H. Lee, J. M. Wu, C. H. Lai, Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 042903.
7. S. Yasui, H. Uchida, H. Nakaki, K. Nishida, H. Funakubo, S. Koda, Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 022906.
8. J. K. Kim, S. S. Kim, W. J. Kim, A. S. Bhalla, R. Guo, Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 132901.
9. H. Naganuma, J. Miura, S. Okamura, Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 052901.
10. S. K. Singh, H. Ishiwar, Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 262908.
11. J. Z. Huang, Y. Wang, Y. H. Lin, M. Li, C. W. Nan, J. Appl. Phys. 106 (2009) 063911.
12. X. H. Zhu, H. Béa, M. Bibes, S. Fusil, K. Bouzehouane, et al., Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 082902.
13. A. P. Chiriac, C. I. Simionescu, J. Polym. Sci. 34 (1996) 567.
14. D. A. Molodov, P. J. Konijnenberg, Scr. Mater. 54 (2006) 977.
15. T. Watanabe, S. Tsurekawa, X. Zhao, L. Zuo, Scr. Mater. 54 (2006) 969.
16. H. L. Niu, Q. W. Chen, H. F. Zhu, Y. H. Lin, X. Zhang, J. Mater. Chem. 13 (2003) 1803.
17. A. D. Sheikh-Ali, D. A. Molodov, H. Garmestani, Scr. Mater. 46 (2006) 857.
18. S. X. Dou, W. K. Yeoh, O. Shcherbakova, J. Horvat, J. H. Kim, et al., Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 202504.
19. P. De Rango, M. Lees, P. Lejay, A. Sulpice, R. Tournier, et al., Nature 349 (1991) 770.
20. X. W. Tang, J. M. Dai, X. B. Zhu, H. C. Lei, et al., J. Magn. Magn. Mater. 322 (2010) 2647.
21. X. W. Tang, J. M. Dai, X. B. Zhu, W. H. Song, Y. L. Cheng, J. Alloys Comp. 509 (2011) 4748.
22. X. W. Tang, J. M. Dai, X. B. Zhu, L. H. Yin, R. Ang, et al., J. Am. Ceram. Soc. 93 (2010) 1682.
23. C. R. Cho, W. J. Lee, B. G. Yu, B. W. Kim, J. Appl. Phys. 86 (1999) 2700.
24. Y. E. Roginskaya, Y. N. Venevtsev, S. A. Fedulov, G. S. Zhdanov, Sov. Phys. Crystallogr. 23 (1966) 47.
25. M. George, S. S. Nair, K. A. Malini, P. A. Joy, M. R. Anantharaman, J. Phys. D Appl. Phys. 40 (2007) 1593.
26. J. Pérez De La Cruz, E. Joanni, P. M. Vilarinho, A. L. Kholkin, J. Appl. Phys. 108 (2010) 114106.
27. M. H. Zhao, R. Fu, D. Lu, T. Y. Zhang, Acta Mater. 50 (2002) 4241.
28. M. S. Wang, Q. W. Chen, Chem. Eur. J. 16 (2010) 12088.
29. M. Dawber, K. M. Rabe, J. F. Scott, Rev. Mod. Phys. 77 (2005) 1083.
30. T. J. Park, G. C. Papaefthymiou, A. J. Viescas, A. R. Moodenbaugh, S. S. Wong, Nano Lett. 7 (2007) 766.