Multiferroic BiFe O3 thin films deposited on SrRu O3 buffer layer by rf sputtering

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 5, 2007, Pages

  Zheng, R Y ^a   Gao, X S ^a   Zhou, Z H ^a   Wang, J ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BISMUTH COMPOUNDS; COERCIVE FORCE; MAGNETIC HYSTERESIS; SUBSTRATES; THIN FILMS;

MULTIFERROIC THIN FILM; RADIO FREQUENCY SPUTTERING;

STRONTIUM COMPOUNDS;

EID: 33947322839     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2437163     Document Type: Article

References (20)

1. J. Wang, Science 299, 1719 (2003).
2. G. A. Smolenskii and I. Chupis, Sov. Phys. Usp. 25, 475 (1982).
3. M. Fiebig, J. Phys. D 38, R123 (2005).
4. N. A. Hill, J. Phys. Chem. B 104, 6694 (2000).
5. J. Wang, Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2004).
6. S. Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 102903 (2005).
7. M. Kumar, V. R. Palkar, K. Srinivas, and S. V. Suryanarayana, Appl. Phys. Lett. 76, 19 (2000).
8. Y. Y. Kwi, D. Ricinschi, T. Kanashima, M. Noda, and M. Okuyama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 43, L674 (2004).
9. J. F. Li, Appl. Phys. Lett. 84, 25 (2004).
10. Y. Y. Kwi, M. Noda, M. Okuyama, H. Saeki, H. Tabata, and K. Saito, J. Appl. Phys.. 96, 6 (2004).
11. S. K. Singh, R. Ueno, H. Funakubo, H. Uchida, S. Koda, and H. Ishiwara, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 44, 12 (2005).
12. F. M. Bai, Appl. Phys. Lett.. 87, 032511 (2005).
13. S. G. Lee, K. T. Kim, and Y. H. Lee, Thin Solid Films 372, 45 (2000).
14. X. D. Qi, J. Dho, and R. Tomov, Appl. Phys. Lett. 86, 062903 (2005).
15. Y. H. Lee, J. M. Wu, Y. L. Chuan, and L. J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
16. Y. H. Lee, J. M. Wu, and C. H. Lai, Appl. Phys. Lett. 88, 042903 (2006).
17. H. B́a, Appl. Phys. Lett. 87, 072508 (2005).
18. Z. G. Zhang, J. S. Liu, Y. N. Wang, J. S. Zhu, F. Yan, X. B. Chen, and H. M. Shen, Appl. Phys. Lett. 73, 788 (1998).
19. H. M. Duiker, P. D. Beale, J. F. Scott, C. A. Paz De Araujo, B. M. Meinick, J. D. Cuchiaro, and L. D. McMillan, J. Appl. Phys. 68, 5783 (1990).
20. K. Y. Yun, M. Noda, and M. Okuyama, J. Appl. Phys. 96, 3399 (2004).