Structural, chemical, optical, and electrical evolution of SnO x films deposited by reactive rf magnetron sputtering

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 10, 2012, Pages 5673-5677

  Luo, Hao ^a   Liang, Ling Yan ^a   Cao, Hong Tao ^a   Liu, Zhi Min ^a   Zhuge, Fei ^a  

^a NINGBO INSTITUTE OF MATERIALS TECHNOLOGY AND ENGINEERING   (China)

Author keywords

ellipsometry; Hall effect; Raman; reactive magnetron sputtering; SnO; SnO 2; XPS; XRD

Indexed keywords

RAMAN; REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING; SNO; SNO 2; XPS; XRD;

HALL EFFECT;

ELLIPSOMETRY;

EID: 84867795997     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am301601s     Document Type: Article

References (38)

1. He, Y. S.; Campbell, J. C.; Murphy, R. C.; Arendt, M. F.; Swinnea, J. S. J. Mater. Res. 1993, 8, 3131-3134
2. Presley, R. E.; Munsee, C. L.; Park, C. H.; Hong, D.; Wager, J. F.; Keszler, D. A. J. Phys. D 2004, 37, 2810-2813
3. Ferrere, S.; Zaban, A.; Gsegg, B. A. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 4490-4493
4. Leite, E. R.; Weber, I. T.; Longo, E.; Varela, J. A. Adv. Mater. 2000, 12, 965-968
5. Calderer, J.; Molinas, P.; Sueiras, J.; Llobet, E.; Vilanova, X.; Correig, X.; Masana, F.; Rodriguez, A. Microelectron. Reliab. 2000, 40, 807-810
6. Watson, J. Sens. Actuators. 1984, 5, 29-42
7. Odani, A.; Nimberger, A.; Markovsky, B.; Sominski, E.; Levi, E.; Kumar, V. G.; Motiei, M.; Gedanken, A.; Dan, P.; Aurbach, D. J. Power Sources 2003, 119, 517-521
8. Aurbach, D.; Nimberger, A.; Markovsky, B.; Levi, E.; Sominski, E.; Gedanken, A. Chem. Mater. 2002, 14, 4155-4163
9. Uchiyama, H.; Hosono, E.; Honma, I.; Zhou, H. S.; Imai, H. Electrochem. Commun. 2008, 10, 52-55
10. Pan, X. Q.; Fu, L. J. Appl. Phys. 2002, 89, 6048-6055
11. Fortunato, E.; Barros, R.; Barquinha, P.; Figueiredo, V.; Park, S. H. K.; Hwang, C. S.; Martins, R. Appl. Phys. Lett. 2010, 97 (052105) 1-3
12. Liang, L. Y.; Liu, Z. M.; Cao, H. T.; Yu, Z.; Shi, Y. Y.; Chen, A. H.; Zhang, H. Z.; Fang, Y. Q.; Xi Lian Sun, X. L. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, H598-H602
13. Ogo, Y.; Hiramatsu, H.; Nomura, K.; Yanagi, H.; Kamiya, T.; Hirano, M.; Hosono, H. Appl. Phys. Lett. 2008, 93 (032113) 1-3
14. Martins, R.; Nathan, A.; Barros, R.; Pereira, L.; Barquinha, P.; Correia, N.; Costa, R.; Ahnood, A.; Ferreira, I.; Fortunato, E. Adv. Mater. 2011, 23, 4491-4496
15. Nomura, K.; Kamiya, T.; Hosono, H. Adv. Mater. 2011, 23, 3431-3434
16. Liang, L. Y.; Cao, H. T.; Chen, X. B.; Liu, Z. M.; Zhuge, F.; Luo, H.; Li, J.; Lu, Y. C.; Lu, W. Appl. Phys. Lett. 2012, 100 (263502) 1-5
17. Kumar, B.; Lee, D. H.; Kim, S. H.; Yang, B.; Maeng, S.; Kim, S. W. J. Phys. Chem. C. 2010, 114, 11050-11055
18. Sakaushi, K.; Oaki, K.; Uchiyama, H.; Hosono, E.; Zhou, H. S.; Imai, H. Small 2010, 6, 776-781
19. Zubair Iqbal, M.; Wang, F. P.; Rafi, U. D.; Javed, Q. U. A.; Yasir Rafique, M.; Li, Y.; Li, P. F. Mater. Lett. 2012, 68, 409-412
20. Muranaka, S.; Bando, Y.; Takada, T. Thin Solid Films 1981, 86, 11-19
21. Beensh Marchwicka, G.; Stepniewska, L. K.; Misiuk, A. Thin Solid Films 1984, 113, 215-224
22. Olijnyk, H. Phys. Rev. B 1992, 46, 6589-6591
23. Lewis, S. P.; Cohen, M. L. Phys. Rev. B 1993, 48, 3646-3653
24. Peltzer y Blanca, E. L.; Svane, A.; Christensen, N. E.; Rodriguez, C. O.; Cappannini, O. M.; Moreno, M. S. Phys. Rev. B 1993, 48, 15712-15718
25. Sun, S. H.; Meng, G. W.; Zhang, G. X.; Gao, T.; Geng, B. Y.; Zhang, L. D.; Zuo, J. Chem. Phys. Lett. 2003, 376, 103-107
26. Chen, Z. W.; Lai, J. K. L.; Shek, C. H. Phys. Rev. B 2004, 70 (165314) 1-7
27. Zenkyu, R.; Tauima, D.; Yuhara, J. J. Appl. Phys. 2012, 111 (064907) 1-6
28. Geurts, J.; Rau, S.; Richter, W.; Schmitte, F. J. Thin Solid Films 1984, 12, 217-225
29. Koval, K.; Burriel, R.; Stachiotti, M. G.; Castro, M.; Migoni, R. L.; Moreno, M. S.; Varela, A.; Rodriguez, C. O. Phys. Rev. B 1999, 60, 14496-14499
30. Szuber, J.; Czempik, G.; Larciprete, R.; Koziej, D.; Adamowicz, B. Thin Solid Films 2001, 391, 198-203
31. Her, Y. C.; Wu, J. Y.; Lin, Y. R.; Tsai, S. Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 (043115) 1-3
32. Liang, L. Y.; Liu, Z. M.; Cao, H. T.; Shi, Y. Y.; Sun, X. L.; Yu, Z.; Chen, A. H.; Zhang, H. Z.; Fang, Y. Q. ACS Appl Mater. Interfaces 2010, 2, 1565-1568
33. Aspnes, D. E. Am. J. Phys. 1982, 50, 704-709
34. Palik, E. D. Handbook of Optical Constants; Academic Press: San Diego, 1998; Vol. 3, pp 271-274.
35. Paulson, P. D.; Hegedus, S. S. J. Appl. Phys. 2004, 96, 5469-5477
36. Kim, T. W.; Lee, D. U.; Choo, D. C.; Kim, J. H.; Kim, H. J.; Jeong, J. H.; Jung, M.; Bahang, J. H.; Park, H. L.; Yoon, Y. S.; Kim, J. Y. J. Phys. Chem. Solids 2002, 63, 881-885
37. Togo, A.; Oba, F.; Tanaka, I.; Tatsumi, K. Phys. Rev. B 2006, 74 (195128) 1-8
38. Guo, W.; Fu, L.; Zhang, Y.; Zhang, K.; Liang, L. Y.; Liu, Z. M.; Cao, H. T.; Pan, X. Q. Appl. Phys. Lett. 2010, 96 (042113) 1-3