Low-voltage organic field-effect transistors (OFETs) with solution-processed metal-oxide as gate dielectric

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 3, Issue 12, 2011, Pages 4662-4667

  Su, Yaorong ^a   Wang, Chengliang ^a   Xie, Weiguang ^a   Xie, Fangyan ^b   Chen, Jian ^b   Zhao, Ni ^a   Xu, Jianbin ^a  

^a CHINESE UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

^b SUN YAT SEN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Al 2O y TiO x; CuPc; high k; low voltage; OFETs; solution processed

Indexed keywords

CUPC; HIGH-K; LOW-VOLTAGE; OFETS; SOLUTION-PROCESSED;

GATE DIELECTRICS; HOLE MOBILITY;

ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 84862776676     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am201078v     Document Type: Article

References (34)

1. Liu, Z.; Oh, J. H.; Roberts, M. E.; Wei, P.; Paul, B. C.; Okajima, M.; Nishi, Y.; Bao, Z. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 203301
2. Coropceanu, V.; Cornil, J.; da Silva Filho, D. A.; Olivier, Y.; Silbey, R.; Brédas, J.-L. Chem. Rev. 2007, 107, 926-952
3. Dimitrakopoulos, C. D.; Malenfant, P. R. L. Adv. Mater. 2002, 14, 99-117
4. Klauk, H.; Zschieschang, U.; Pflaum, J.; Halik, M. Nature 2007, 445, 745-748
5. Yoon, M. H. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2005, 102, 4678-4682
6. Yan, H.; Chen, Z.; Zheng, Y.; Newman, C.; Quinn, J. R.; Dötz, F.; Kastler, M.; Facchetti, A. Nature 2009, 457, 679-686
7. Yoon, M. H.; Yan, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 10388-10395
8. Robertson, J. Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2004, 28, 265-291
9. Mikhelashvili, V.; Eisenstein, G. Thin Solid Films 2006, 515, 346-352
10. Dezelah, C. L.; Niinisto, J.; Kukli, K.; Munnik, F.; Lu, J.; Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L. Chem. Vap. Deposition 2008, 14, 358-365
11. Duenas, S.; Castan, H.; Garcia, H.; de Castro, A.; Bailon, L.; Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; Mandar, H.; Uustare, T.; Lu, J.; Harsta, A. J. Appl. Phys. 2006, 99, 054902
12. Maunoury, C.; Dabertrand, K.; Martinez, E.; Saadoune, M.; Lafond, D.; Pierre, F.; Renault, O.; Lhostis, S.; Bailey, P.; Noakes, T. C. Q.; Jalabert, D. J. Appl. Phys. 2007, 101, 034112
13. Li, W.; Auciello, O.; Premnath, R. N.; Kabius, B. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 162907
14. Lee, J.; Kim, J. H.; Im, S. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2689
15. Ramajothi, J.; Ochiai, S.; Kojima, K.; Mizutani, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 8279-8283
16. Park, J.; Park, S. Y.; Shim, S. O.; Kang, H.; Lee, H. H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3283
17. Fritz, S. E.; Kelley, T. W.; Frisbie, C. D. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 10574
18. Mahapatra, R.; Chakraborty, A. K.; Poolamai, N.; Horsfall, A.; Chattopadhyay, S.; Wright, N. G.; Coleman, K. S.; Coleman, P. G.; Burrows, C. P. J. Vac. Sci. Technol., B 2007, 25, 217-223
19. Yarmarkin, V. K.; Shul'man, S. G.; Lemanov, V. V. Phys. Solid State 2008, 50, 1841-1847
20. Weibel, A.; Bouchet, R.; Knauth, P. Solid State Ionics 2006, 177, 229-236
21. Gonon, P.; El Kamel, F. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 232902
22. Paskaleva, A.; Lemberger, M.; Bauer, A. J.; Weinreich, W.; Heitmann, J.; Erben, E.; Schroder, U.; Oberbeck, L. J. Appl. Phys. 2009, 106, 054107
23. El Kamel, F.; Gonon, P.; Vallee, C. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 172909
24. Blonkowski, S.; Regache, M.; Halimaoui, A. J. Appl. Phys. 2001, 90, 1501
25. Ramanathan, S.; Park, C. M.; McIntyre, P. C. J. Appl. Phys. 2002, 91, 4521
26. Gonon, P.; El Kamel, F. J. Appl. Phys. 2007, 101, 073901
27. Shang, L. W.; Liu, M.; Tu, D. Y.; Liu, G.; Liu, X. H.; Ji, Z. Y. IEEE Trans. Electron Dev. 2009, 56, 370-376
28. Higuchi, T.; Murayama, T.; Itoh, E.; Miyairi, K. Thin Solid Films 2006, 499, 374-379
29. Tang, W. M.; Helander, M. G.; Greiner, M. T.; Dong, G.; Ng, W. T.; Lu, Z. H. IEEE International Conference of Electron Devices and Solid-State Circuits 2009; Xi'an, China, Dec 25-27, 2009; IEEE: Piscataway, NJ, 2009; p 513
30. Wang, J.; Wang, H. B.; Yan, X. J.; Huang, H. C.; Jin, D.; Shi, J. W.; Tang, Y. H.; Yan, D. H. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 824-830
31. Sze, S. M.; Ng, K. K. Physics of Semiconductor Devices, 3 rd ed.; Wiley & Sons: Hoboken, NJ, 2007; pp 227-228.
32. Jang, Y.; Kim, D. H.; Park, Y. D.; Cho, J. H.; Hwang, M.; Cho, K. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 072101
33. Majewski, L. A.; Schroeder, R.; Grell, M. Adv. Mater. 2005, 17, 192-196
34. Yan, X. J.; Wang, H.; Yan, D. H. Thin Solid Films 2006, 515, 2655-2658