Exploratory combustion synthesis: Amorphous indium yttrium oxide for thin-film transistors

Journal of the American Chemical Society

Volumn 134, Issue 23, 2012, Pages 9593-9596

  Hennek, Jonathan W ^a   Kim, Myung Gil ^a   Kanatzidis, Mercouri G ^a   Facchetti, Antonio ^a,b   Marks, Tobin J ^a  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b POLYERA CORPORATION   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

LOW TEMPERATURES; METAL OXIDES; POLYCRYSTALLINE; SOLUTION PROCESS; THIN-FILM TRANSISTOR (TFTS); TRANSPARENT FILMS;

AMORPHOUS MATERIALS; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; COMBUSTION SYNTHESIS; DIFFERENTIAL THERMAL ANALYSIS; ELECTRON MOBILITY; INDIUM; METALLIC COMPOUNDS; PHOTOELECTRONS; SEMICONDUCTING INDIUM; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; THERMOGRAVIMETRIC ANALYSIS; THIN FILM TRANSISTORS; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

AMORPHOUS FILMS;

CRYSTALLIN; INDIUM; INDIUM YTTRIUM OXIDE; METAL OXIDE; UNCLASSIFIED DRUG; YTTRIUM;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; BIOTRANSFORMATION; COMBUSTION; DIFFERENTIAL SCANNING CALORIMETRY; ELECTRON; FILM; LOW TEMPERATURE; NANOFABRICATION; SEMICONDUCTOR; SYNTHESIS; THERMOGRAVIMETRY; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 84862164372     PISSN: 00027863     EISSN: 15205126     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja303589v     Document Type: Article

References (44)

1. Jeong, S.; Moon, J. J. Mater. Chem. 2012, 22, 1243-1250
2. Zhang, L.; Di, C.-a.; Yu, G.; Liu, Y. J. Mater. Chem. 2010, 20, 7059-7073
3. Mizoguchi, H.; Kamiya, T.; Matsuishi, S.; Hosono, H. Nat. Commun. 2011, 2, 470
4. Wu, J.; Agrawal, M.; Becerril, H. A.; Bao, Z.; Liu, Z.; Chen, Y.; Peumans, P. ACS Nano 2010, 4, 43-48
5. Sun, Y. G.; Rogers, J. A. Adv. Mater. 2007, 19, 1897-1916
6. Ortiz, R. P.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Chem. Rev. 2010, 110, 205-239
7. Arias, A. C.; MacKenzie, J. D.; McCulloch, I.; Rivnay, J.; Salleo, A. Chem. Rev. 2010, 110, 3-24
8. Hu, X.; Krull, P.; de Graff, B.; Dowling, K.; Rogers, J. A.; Arora, W. J. Adv. Mater. 2011, 23, 2933-2936
9. Wager, J. F. Science 2003, 300, 1245-1246
10. Nomura, K.; Ohta, H.; Takagi, A.; Kamiya, T.; Hirano, M.; Hosono, H. Nature 2004, 432, 488-492
11. Ju, S. Y.; Facchetti, A.; Xuan, Y.; Liu, J.; Ishikawa, F.; Ye, P. D.; Zhou, C. W.; Marks, T. J.; Janes, D. B. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 378-384
12. Transparent Electronics; Marks, T. J.; Facchetti, A., Eds.; Wiley-VCH: West Sussex, U.K., 2010.
13. Yabuta, H.; Sano, M.; Abe, K.; Aiba, T.; Den, T.; Kumomi, H.; Nomura, K.; Kamiya, T.; Hosono, H. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 112123
14. Kim, H. S.; Kim, M.-G.; Ha, Y.-G.; Kanatzidis, M. G.; Marks, T. J.; Facchetti, A. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 10826-10827
15. Lee, H.; Dellatore, S. M.; Miller, W. M.; Messersmith, P. B. Science 2007, 318, 426-430
16. Cheng, H.-C.; Chen, C.-F.; Lee, C.-C. Thin Solid Films 2006, 498, 142-145
17. Lee, D. H.; Chang, Y. J.; Herman, G. S.; Chang, C. H. Adv. Mater. 2007, 19, 843-847
18. Bong, H.; Lee, W. H.; Lee, D. Y.; Kim, B. J.; Cho, J. H.; Cho, K. Appl. Phys. Lett. 2010, 96 192115
19. Hoffmann, R. C.; Dilfer, S.; Issanin, A.; Schneider, J. J. Phys. Status Solidi A 2010, 207, 1590-1595
20. Wang, L.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2007, 19, 3252-3256
21. Choi, C. G.; Seo, S.-J.; Bae, B.-S. Electrochem. Solid-State Lett. 2008, 11, H7-H9
22. Kim, M.-G.; Kim, H. S.; Ha, Y.-G.; He, J.; Kanatzidis, M. G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 10352-10364
23. Kamiya, T.; Nomura, K.; Hosono, H. Sci. Technol. Adv. Mater. 2010, 11 044305
24. Banger, K. K.; Yamashita, Y.; Mori, K.; Peterson, R. L.; Leedham, T.; Rickard, J.; Sirringhaus, H. Nat. Mater. 2011, 10, 45-50
25. Kim, M.-G.; Kanatzidis, M. G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nat. Mater. 2011, 10, 382-388
26. Tsay, C.-Y.; Fan, K.-S. Mater. Trans. 2008, 49, 1900-1904
27. Chong, H. Y.; Han, K. W.; No, Y. S.; Kim, T. W. Appl. Phys. Lett. 2011, 99 161908
28. Kim, C.-J.; Kim, S.; Lee, J.-H.; Park, J.-S.; Kim, S.; Park, J.; Lee, E.; Lee, J.; Park, Y.; Kim, J. H.; Shin, S. T.; Chung, U-I. Appl. Phys. Lett. 2009, 95 252103
29. Choi, Y.; Kim, G. H.; Jeong, W. H.; Bae, J. H.; Kim, H. J.; Hong, J.-M.; Yu, J.-W. Appl. Phys. Lett. 2010, 97 162102
30. Qin, Z.; Liang, Y.; Liu, Z.; Jiang, W. J. Environ. Sci. 2011, 23, 1219-1224
31. Dixit, A.; Smith, A. E.; Subramanian, M. A.; Lawes, G. Solid State Commun. 2010, 150, 746-750
32. Jiang, P.; Li, J.; Sleight, A. W.; Subramanian, M. A. Inorg. Chem. 2011, 50, 5858-5860
33. Aliabad, H. A. R.; Hosseini, S. M.; Kompany, A.; Youssefi, A.; Kakhki, E. A. Phys. Status Solidi B 2009, 246, 1072-1081
34. Kompany, A.; Aliabad, H. A. R.; Hosseini, S. M.; Baedi, J. Phys. Status Solidi B 2007, 244, 619-628
35. Hosseini, S. M.; Aliabad, H. A. R.; Kompany, A. Mod. Phys. Lett. B 2010, 24, 2251-2265
36. Kwo, J.; Hong, M.; Kortan, A. R.; Queeney, K. L.; Chabal, Y. J.; Opila, R. L.; Muller, D. A.; Chu, S. N. G.; Sapjeta, B. J.; Lay, T. S.; Mannaerts, J. P.; Boone, T.; Krautter, H. W.; Krajewski, J. J.; Sergnt, A. M.; Rosamilia, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 3920-3927
37. Jeong, S.; Ha, Y. G.; Moon, J.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2010, 22, 1346-1350
38. Ha, Y. G.; Emery, J. D.; Bedzyk, M. J.; Usta, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 10239-10250
39. Adamopoulos, G.; Thomas, S.; Bradley, D. D. C.; McLachlan, M. A.; Anthopoulos, T. D. Appl. Phys. Lett. 2011, 98 123503
40. Rastogi, A. C.; Sharma, R. N. J. Appl. Phys. 1992, 71, 5041-5052
41. Lin, C.-M.; Shih, W.-c.; Chang, I. Y.-k.; Juan, P.-C.; Lee, J. Y.-m. Appl. Phys. Lett. 2009, 94 142905
42. Wang, L.; Yoon, M. H.; Lu, G.; Yang, Y.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nat. Mater. 2006, 5, 893-900
43. Kangho, L.; Gang, L.; Facchetti, A.; Janes, D. B.; Marks, T. J. Appl. Phys. Lett. 2008, 92 123509
44. Ju, S.; Ishikawa, F.; Chen, P.; Chang, H.-K.; Zhou, C.; Ha, Y.-g.; Liu, J.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Janes, D. B. Appl. Phys. Lett. 2008, 92 222105