-
1
-
-
35648977539
-
-
10.1063/1.2800290
-
M. H. Kim, M. F. Schubert, Q. Dai, J. K. Kim, E. F. Schubert, J. Piprek, and Y. Park, Appl. Phys. Lett. 91, 183507 (2007). 10.1063/1.2800290
-
(2007)
Appl. Phys. Lett
, vol.91
, pp. 183507
-
-
Kim, M.H.1
Schubert, M.F.2
Dai, Q.3
Kim, J.K.4
Schubert, E.F.5
Piprek, J.6
Park, Y.7
-
2
-
-
49149091530
-
-
10.1063/1.2963029
-
M. F. Schubert, J. Xu, J. K. Kim, E. F. Schubert, M. H. Kim, S. Yoon, S. M. Lee, C. Sone, T. Sakong, and Y. Park, Appl. Phys. Lett. 93, 041102 (2008). 10.1063/1.2963029
-
(2008)
Appl. Phys. Lett
, vol.93
, pp. 041102
-
-
Schubert, M.F.1
Xu, J.2
Kim, J.K.3
Schubert, E.F.4
Kim, M.H.5
Yoon, S.6
Lee, S.M.7
Sone, C.8
Sakong, T.9
Park, Y.10
-
3
-
-
67650504960
-
-
10.1063/1.3176406
-
Y. K. Kuo, J. Y. Chang, M. C. Tasi, and S. H. Yen, Appl. Phys. Lett. 95, 011116 (2009). 10.1063/1.3176406
-
(2009)
Appl. Phys. Lett
, vol.95
, pp. 011116
-
-
Kuo, Y.K.1
Chang, J.Y.2
Tasi, M.C.3
Yen, S.H.4
-
5
-
-
78650917139
-
-
10.1063/1.3531753
-
C. H. Wang, C. C. Ke, C. Y. Lee, S. P. Chang, W. T. Chang, J. C. Li, Z. Y. Li, H. C. Yang, H. C. Kuo, T. C. Lu, and S. C. Wang, Appl. Phys. Lett. 97, 261103 (2010). 10.1063/1.3531753
-
(2010)
Appl. Phys. Lett
, vol.97
, pp. 261103
-
-
Wang, C.H.1
Ke, C.C.2
Lee, C.Y.3
Chang, S.P.4
Chang, W.T.5
Li, J.C.6
Li, Z.Y.7
Yang, H.C.8
Kuo, H.C.9
Lu, T.C.10
Wang, S.C.11
-
6
-
-
76449095701
-
-
10.1063/1.3302458
-
S. H. Han, C. Y. Cho, S. J. Lee, T. Y. Park, T. H. Kim, S. H. Park, S. W. Kang, J. W. Kim, Y. C. Kim, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 96, 051113 (2010). 10.1063/1.3302458
-
(2010)
Appl. Phys. Lett
, vol.96
, pp. 051113
-
-
Han, S.H.1
Cho, C.Y.2
Lee, S.J.3
Park, T.Y.4
Kim, T.H.5
Park, S.H.6
Kang, S.W.7
Kim, J.W.8
Kim, Y.C.9
Park, S.J.10
-
7
-
-
67649126477
-
-
10.1063/1.3153508
-
S. H. Han, D. Y. Lee, S. J. Lee, C. Y. Cho, M. K. Kwon, S. P. Lee, D. Y. Noh, D. J. Kim, Y. C. Kim, and S. J. Park, Appl. Phys. Lett. 94, 231123 (2009). 10.1063/1.3153508
-
(2009)
Appl. Phys. Lett
, vol.94
, pp. 231123
-
-
Han, S.H.1
Lee, D.Y.2
Lee, S.J.3
Cho, C.Y.4
Kwon, M.K.5
Lee, S.P.6
Noh, D.Y.7
Kim, D.J.8
Kim, Y.C.9
Park, S.J.10
-
8
-
-
0001259716
-
-
10.1063/1.126579
-
M. S. Shur, A. D. Bykhovski, R. Gaska, J. W. Wang, G. Simin, and M. A. Khan, Appl. Phys. Lett. 76, 3061 (2000). 10.1063/1.126579
-
(2000)
Appl. Phys. Lett
, vol.76
, pp. 3061
-
-
Shur, M.S.1
Bykhovski, A.D.2
Gaska, R.3
Wang, J.W.4
Simin, G.5
Khan, M.A.6
-
9
-
-
79956005731
-
-
10.1063/1.1516631
-
A. Chitnis, R. Pachipulusu, V. Mandavilli, M. Shatalov, E. Kuokstis, J. P. Zhang, V. Adivarahan, S. Wu, G. Simin, and M. A. Khan, Appl. Phys. Lett. 81, 2938 (2002). 10.1063/1.1516631
-
(2002)
Appl. Phys. Lett
, vol.81
, pp. 2938
-
-
Chitnis, A.1
Pachipulusu, R.2
Mandavilli, V.3
Shatalov, M.4
Kuokstis, E.5
Zhang, J.P.6
Adivarahan, V.7
Wu, S.8
Simin, G.9
Khan, M.A.10
-
10
-
-
68949083268
-
-
10.1088/0268-1242/24/8/085016
-
S. Li, Q. Wu, G. Fan, T. Zhou, Y. Zhang, Y. Yin, M. He, J. Cao, and J. Sun, Semicond. Sci. Technol. 24, 085016 (2009). 10.1088/0268-1242/24/8/085016
-
(2009)
Semicond. Sci. Technol
, vol.24
, pp. 085016
-
-
Li, S.1
Wu, Q.2
Fan, G.3
Zhou, T.4
Zhang, Y.5
Yin, Y.6
He, M.7
Cao, J.8
Sun, J.9
-
13
-
-
38949146387
-
-
10.1063/1.2839305
-
A. David, M. J. Grundmann, J. F. Kaeding, N. F. Gardner, T. G. Mihopoulos, and M. R. Krames, Appl. Phys. Lett. 92, 053502 (2008). 10.1063/1.2839305
-
(2008)
Appl. Phys. Lett
, vol.92
, pp. 053502
-
-
David, A.1
Grundmann, M.J.2
Kaeding, J.F.3
Gardner, N.F.4
Mihopoulos, T.G.5
Krames, M.R.6
|