Controlled collapse of high-aspect-ratio nanostructures

Small

Volumn 7, Issue 18, 2011, Pages 2661-2668

  Duan, Huigao ^a,c   Yang, Joel K W ^b   Berggren, Karl K ^a  

^a USA   (United States)

^b INSTITUTE OF MATERIALS RESEARCH AND ENGINEERING   (Singapore)

^c LANZHOU UNIVERSITY   (China)

Author keywords

aspect ratio; controlled collapse; electron beam lithography; nanostructures; self assembly

Indexed keywords

ASYMMETRIC CROSS SECTION; CAPILLARY FORCE; CONTROLLED COLLAPSE; ENGINEERING APPLICATIONS; HIGH ASPECT RATIO; IRRADIATION DAMAGE; LINEAR STRUCTURES; MECHANICAL BEHAVIOR; MICRO AND NANOSTRUCTURES; PROXIMITY EFFECTS; RECTANGULAR STRUCTURE; SMALL GAPS;

ASPECT RATIO; BEHAVIORAL RESEARCH; EVAPORATION; NANOSTRUCTURES; PHASE TRANSITIONS;

PROCESS CONTROL;

NANOMATERIAL;

ARTICLE; CHEMISTRY; METHODOLOGY; NANOTECHNOLOGY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SURFACE PROPERTY; ULTRASTRUCTURE;

MICROSCOPY, ELECTRON, SCANNING; NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; SURFACE PROPERTIES;

EID: 80052762328     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201100892     Document Type: Article

References (36)

1. a) T. Tanaka, M. Morigami, N. Atoda, Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 6059
2. b) H. Namatsu, K. Kurihara, M. Nagase, K. Iwadate, K. Murase, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 2655
3. c) K. K. S. Lau, J. Bico, K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, G. H. Mckinley, K. K. Gleason, Nano Lett. 2003, 3, 1701
4. d) Y. P. Zhao, J. G. Fan, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 103123
5. e) J. K. W. Yang, K. K. Berggren, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 2025.
6. a) H. Namatsu, K. Yamazaki, K. J. Kurihara, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 780
7. b) D. Wu, N. Fang, C. Sun, X. Zhang, Sens. Actuators A 2006, 128, 109
8. c) D. E. Noga, W. M. Yeh, R. A. Lawson, L. M. Tolbert, C. L. Henderson, Proc. SPIE 2010, 7639, 76391H
9. d) L. E. Ocola, V. R. Tirumala, J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 2632
10. e) M. Ahn, R. K. Heilmann, M. L. Schattenburg, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 2593.
11. a) B. Pokroy, S. H. Kang, L. Mahadevan, J. Aizenberg, Science 2009, 323, 237
12. b) A. Sidorenko, T. Krupenkin, A. Taylor, P. Fratzl, J. Aizenberg, Science 2007, 315, 487
13. c) Y. Zhang, C. T. Lin, S. Yang, Small 2010, 6, 768.
14. M. De Volder, S. H. Tawfick, S. J. Park, D. Copic, Z. Zhao, W. Lu, A. J. Hart, Adv. Mater. 2010, 22, 4384.
15. D. Wu, Q. D. Chen, B. B. Xu, J. Jiao, Y. Xu, H. Xia, H. B. Sun, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 091902.
16. S. Choi, M. Yan, I. Adesida, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 163113.
17. a) M. P. Stoykovich, H. B. Cao, K. Yoshimoto, L. E. Ocola, P. F. Nealey, Adv. Mater. 2003, 15, 1180
18. b) S. H. Kang, B. Pokroy, L. Mahadevan, J. Aizenberg, ACS Nano, 2010, 4, 6323
19. c) P. Roca-Cusachs, F. Rico, E. Martinez, J. Toset, R. Farre, D. Navajas, Langmuir 2005, 21, 5542
20. d) D. Chandra, S. Yang, Langmuir 2009, 25, 10430
21. e) S. F. Chini, A. Amirfazli, Langmiur 2010, 26, 13707
22. f) D. Chandra, S. Yang, Acc. Chem. Res. 2010, 43, 1080.
23. H. G. Duan, K. K. Berggren, Nano Lett. 2010, 10, 3710.
24. B. D. Gates, Q. Xu, V. R. Thalladi, T. Cao, T. Knickerbocker, G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 2780.
25. a) L. Qin, S. Park, L. Huang, C. A. Mirkin, Science 2005, 309, 113
26. b) S. Liu, J. B. H. Tok, Z. Bao, Nano Lett. 2005, 5, 1071
27. c) A. Colli, A. Fasoli, S. Pisana, Y. Fu, P. Beecher, W. I. Milne, A. C. Ferrari, Nano Lett. 2008, 8, 1358
28. d) E. P. De Poortere, H. L. Stormer, L. M. Huang, S. J. Wind, S. O'Brien, M. Huang, J. Hone, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 143124.
29. a) H. G. Duan, V. R. Manfrinato, J. K. W. Yang, D. Winston, B. M. Cord, K. K. Berggren, J. Vac. Sci. Technol. B 2010, 28, C6H11
30. b) C. Khan Malek, F. T. Hartley, J. Neogi, Microsyst. Technol. 2003, 9, 409.
31. A. E. Cohen, L. Mahadevan, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2003, 100, 12141.
32. H. G. Duan, D. Winston, J. K. W. Yang, B. M. Cord, V. R. Manfrinato, K. K. Berggren, J. Vac. Sci. Technol. B 2010, 28, C6C58.
33. B. Pokroy, A. K. Epstein, M. C. M. Persson-Gulda, J. Aizenberg, Adv. Mater. 2009, 21, 463.
34. M. Han, W. Lee, S. K. Lee, S. S. Lee, Sens. Actuators A 2004, 111, 14.
35. M. Nedelcu, M. S. M. Saifullah, D. G. Hasko, A. Jang, D. Anderson, W. T. S. Huck, G. A. C. Jones, M. E. Welland, D. J. Kang, U. Steiner, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 2317.
36. S. Gorelick, V. A. Guzenko, J. Vila-Comamala, C. David, Nanotechnology 2010, 21, 295303.