The control of shrinkage and thermal instability in SU-8 photoresists for holographic lithography

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 9, 2011, Pages 1593-1601

  Denning, Robert G ^a   Blanford, Christopher F ^a   Urban, Henning ^a   Bharaj, Harpal ^a   Sharp, David N ^a   Turberfield, Andrew J ^a  

^a UNIVERSITY OF OXFORD   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EPOXY GROUP; ETHYLENE DIAMINE; EXTENT OF CROSS-LINKING; HIGH MOLECULAR WEIGHT; HOLOGRAPHIC LITHOGRAPHY; INSOLUBLE POLYMERS; IR SPECTROSCOPY; MICROSTRUCTURAL ELEMENTS; NEGATIVE TONES; PHOTONIC CRYSTAL TEMPLATES; POLYMER NETWORKS; POLYMERIC NETWORKS; POST-EXPOSURE; REACTIVE PLASTICIZERS; SU-8 PHOTORESIST; THERMAL INSTABILITIES; THERMAL STABILITY;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; GLYCOLS; LITHOGRAPHY; OLIGOMERS; PHOTONIC CRYSTALS; PLASTICIZERS; POLYETHYLENE GLYCOLS; POLYETHYLENE OXIDES; POLYMERS; SURFACE TREATMENT; THERMODYNAMIC STABILITY; ZINC OXIDE; ZIRCONIUM;

PHOTORESISTS;

EID: 79957608605     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201002653     Document Type: Article

References (37)

1. M. Campbell , D. N. Sharp , M. T. Harrison , R. G. Denning , A. J. Turberfield , Nature 2000 , 404 , 53.
2. J. H. Jang , C. K. Ullal , M. Maldovan , T. Gorishnyy , S. Kooi , C. Y. Koh , E. L. Thomas , Adv. Funct. Mater. 2007 , 17 , 3027.
3. G. von Freymann , A. Ledermann , M. Thiel , I. Staude , S. Essig , K. Busch , M. Wegener , Adv. Funct. Mater. 2010 , 20 , 1038.
4. K. Y. Lee , N. LaBianca , S. A. Rishton , S. Zolgharnain , J. D. Gelorme , J. Shaw , T. H. P. Chang , J. Vac. Sci. Technol. B 1995 , 13 , 3012.
5. J. H. Moon , S. Yang , Chem. Rev. 2010 , 110 , 547.
6. MicroChem Corp., 90 Oak St., Newton, MA., 02464, USA, http:// www.microchem.com/products/su-eight.htm.
7. J. Hammacher , A. Fuelle , J. Flaemig , J. Saupe , B. Loechel , J. Grimm , Microsys. Technol. 2008 , 14 , 1515.
8. C. Ingrosso , V. Fakhfouri , M. Striccoli , A. Agostiano , A. Voigt , G. Gruetzner , M. L. Curri , J. Brugger , Adv. Funct. Mater. 2007 , 17 , 2009.
9. P. Abgrall , C. Lattes , V. Conederal , X. Dollat , S. Colin , A. M. Gue , J. Micromech. Microeng. 2006 , 16 , 113.
10. A. del Campo , C. Greiner , J. Micromech. Microeng. 2007 , 17 , R81.
11. S. Keller , G. Blagoi , M. Lillemose , D. Haefl iger , A. Boisen , J. Micromech. Microeng. 2008 , 18 , 15020.
12. D. N. Sharp , A. J. Turberfield , R. G. Denning , Phys. Rev. B 2003 , 68.
13. D. Stumbo , J. Wolfe , J. Vac. Sci. Technol., B 1993 , 11 , 2432.
14. D. C. Meisel , M. Diem , M. Deubel , F. Perez-Willard , S. Linden , D. Gerthsen , K. Busch , M. Wegener , Adv. Mater. 2006 , 18 , 2964.
15. X. Zhu , Y. Xu , S. Yang , Opt. Express 2007 , 16547.
16. Y. S. Chen , A. Tal , D. B. Torrance , S. M. Kuebler , Adv. Funct. Mater. 2006 , 16 , 1739.
17. M. Deubel , G. von Freymann , M. Wegener , S. Pereira , K. Busch , C. M. Soukoulis , Nat. Mater. 2004 , 3 , 444.
18. S. M. Kuebler , K. L. Braun , W. H. Zhou , J. K. Cammack , T. Y. Yu , C. K. Ober , S. R. Marder , J. W. Perry , J. Photochem. Photobiol., A 2003 , 158 , 163.
19. Y. H. Liu , D. D. Nolte , L. J. Pyrak-Nolte , Appl. Phys. A 2010 , 100 , 181.
20. J. J. Park , X. Bulliard , J. M. Lee , J. Hur , K. Im , J. M. Kim , P. Prabhakaran , N. Cho , K. S. Lee , S. Y. Min , T. W. Lee , S. Yong , D. Y. Yang , Adv. Funct. Mater. 2010 , 20 , 2296.
21. M. Hermatschweiler , A. Ledermann , G. A. Ozin , M. Wegener , G. von Freymann , Adv. Funct. Mater. 2007 , 17 , 2273.
22. V. Ramanan , E. Nelson , A. Brzezinski , P. V. Braun , P. Wiltzius , Appl. Phys. Lett. 2008 , 92 , 173304.
23. L. J. Guerin , M. Bossel , M. Demierre , S. Calmes , P. Renaud , in IEEE Int. C. Solid State Sens. Actuat. , IEEE , Chicago 1997 , 1419.
24. W. H. Teh , U. Durig , U. Drechsler , C. G. Smith , H. J. Guntherodt , J. Appl. Phys. 2005 , 97 , 054907.
25. H. Lorenz , M. Laudon , P. Renaud , Microelectron. Eng. 1998 , 42 , 371.
26. S. A. Campbell , The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication , Oxford University Press , New York 1996.
27. P. C. Tsiartas , G. M. Schmid , H. F. Johnson , M. D. Stewart , C. G. Willson , J. Vac. Sci. Technol., B 2005 , 23 , 224.
28. J. M. Shaw , J. D. Gelorme , N. C. LaBianca , W. E. Conley , S. J. Holmes , IBM J. Res. Dev. 1997 , 41 , 81.
29. D. J. Russell , J. Appl. Polym. Sci. 1990 , 41 , 1753.
30. J. L. Dektar , N. P. Hacker , J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1987 , 1591.
31. T. L. Tan , D. Wong , P. Lee , R. S. Rawat , S. Springham , A. Patran , Thin Solid Films 2006 , 504 , 113.
32. J. V. Crivello , L. Bulut , J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2006 , 44 , 6750.
33. J. S. King , E. Graugnard , C. J. Summers , Adv. Mater. 2005 , 17 , 1010.
34. C. C. Riccardi , H. E. Adabbo , R. J. J. Williams , J. Appl. Polym. Sci. 1984 , 29 , 2481.
35. J. C. Patterson-Jones , D. A. Smith , J. Appl. Polym. Sci. 1968 , 12 , 1601.
36. J. S. Becker , E. Kim , R. G. Gordon , Chem. Mater. 2004 , 16 , 3497.
37. E. B. Yousfi, B. Weinberger , F. Donsanti , P. Cowache , D. Lincot , Thin Solid Films 2001 , 387 , 29 .