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Volumn 13, Issue 9, 2011, Pages 3634-3637

Cryogenic plasmas for controlled processing of nanoporous materials

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FREE RADICAL; NANOMATERIAL;

EID: 79952414024     PISSN: 14639076     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c0cp02660c     Document Type: Article
Times cited : (31)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.