Monitoring PMMA elimination by reactive ion etching from a lamellar PS-b-PMMA thin film by ex situ TEM methods

Macromolecules

Volumn 43, Issue 20, 2010, Pages 8651-8655

  Farrell, Richard A ^a,b,c   Petkov, Nikolay ^c   Shaw, Matthew T ^b,d   Djara, Vladimir ^c   Holmes, Justin D ^a,b,c   Morris, Michael A ^a,b,c  

^a UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^b TRINITY COLLEGE DUBLIN   (Ireland)

^c UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^d Intel Ireland Ltd   (Ireland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMER THIN FILMS; CONSTITUENT BLOCKS; END POINTS; EX SITU; NANO PATTERN; PMMA THIN FILM; TEM;

BLOCK COPOLYMERS; ESTERS; POLYSTYRENES; SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS; THIN FILMS; VAPOR DEPOSITION;

REACTIVE ION ETCHING;

EID: 77958158384     PISSN: 00249297     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ma101827u     Document Type: Article

References (28)

1. Bita, I.; Yang, J. K. W.; Jung, Y. S.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Berggren, K. K. Science 2008, 321, 939
2. Ruiz, R.; Kang, H. M.; Detcheverry, F. A.; Dobisz, E.; Kercher, D. S.; Albrecht, T. R.; de Pablo, J. J.; Nealey, P. F. Science 2008, 321, 936
3. Stoykovich, M. P.; Kang, H.; Daoulas, K. C.; Liu, G.; Liu, C. C.; de Pablo, J. J.; Mueller, M.; Nealey, P. F. ACS Nano 2007, 1, 168
4. Darling, S. B. Prog. Polym. Sci. 2007, 32, 1152
5. Asakawa, K.; Hiraoka, T. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2002, 41, 6112
6. Liu, C. C.; Nealey, P. F.; Ting, Y. H.; Wendt, A. E. J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 1963
7. Ting, Y. H.; Park, S. M.; Liu, C. C.; Liu, X. S.; Himpsel, F. J.; Nealey, P. F.; Wendt, A. E. J. Vac. Sci. Technol. B 2008, 26, 1684
8. Zhang, M. F.; Yang, L.; Yurt, S.; Misner, M. J.; Chen, J. T.; Coughlin, E. B.; Venkataraman, D.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2007, 19, 1571
9. Zschech, D.; Kim, D. H.; Milenin, A. P.; Scholz, R.; Hillebrand, R.; Hawker, C. J.; Russell, T. P.; Steinhart, M.; Gosele, U. Nano Lett. 2007, 7, 1516
10. Thurn-Albrecht, T.; Steiner, R.; DeRouchey, J.; Stafford, C. M.; Huang, E.; Bal, M.; Tuominen, M.; Hawker, C. J.; Russell, T. P. Adv. Mater. 2000, 12, 787
11. Ramanathan, R.; Nettleton, M.; Darling, S. B. Thin Solid Films 2009, 517, 4474
12. Ito, T.; Okazaki, S. Nature 2000, 406, 1027
13. Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D. Chem. Rev. 1999, 99, 1801
14. Cheng, J. Y.; Mayes, A. M.; Ross, C. A. Nature Mater. 2004, 3, 823
15. Li, W.; Sheller, N.; Foster, M. D.; Balaishis, D.; Manners, I.; Annís, B.; Lin, J.-S. Polymer 2000, 41, 719
16. Jung, Y. S.; Ross, C. A. Nano Lett. 2007, 7, 2046
17. Cheng, J. Y.; Pitera, J.; Park, O. H.; Flickner, M.; Ruiz, R.; Black, C. T.; Kim, H. C. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 143160
18. Han, E.; Stuen, K. O.; Leolukman, M.; Liu, C. C.; Nealey, P. F.; Gopalan, P. Macromolecules 2009, 42, 4896
19. Park, S. M.; Yun, S. H.; Sohn, B. H. Macromol. Chem. Phys. 2002, 203, 2069
20. Tang, C. B.; Lennon, E. M.; Fredrickson, G. H.; Kramer, E. J.; Hawker, C. J. Science 2008, 322, 429
21. Zschech, D.; Milenin, A. P.; Scholz, R.; Hillebrand, R.; Sun, Y.; Uhlmann, P.; Stamm, M.; Steinhart, M.; Goesele, U. Macromolecules 2007, 40, 7752
22. Zhang, C. C.; Yang, C. S.; Ding, D. F. Appl. Surf. Sci. 2004, 227, 139
23. Liu, G.; Stoykovich, M. P.; Ji, S.; Stuen, K. O.; Craig, G. S. W.; Nealey, P. F. Macromolecules 2009, 42, 3063
24. Fitzgerald, T. G.; Farrell, R. A.; Petkov, N.; Bolger, C. T.; Shaw, M. T.; Charpin, J. P. F.; Gleeson, J. P.; Holmes, J. D.; Morris, M. A. Langmuir 2009, 25, 13551
25. Vourdas, N.; Boudouvis, A. G.; Gogolides, E. J. Phys.: Conf. Ser. 2005, 10, 405
26. Wang, X.; Chen, Y.; Wang, L.; Cui, Z. Microelectron. Eng. 2008, 85, 1015
27. Kim, S. O.; Solak, H.; Stoykovich, M. P.; Ferrier, N. J.; de Pablo, J. J.; P.F., N. Nature 2003, 424, 411
28. Park, S.-M.; Stoykovich, M. P.; Ruiz, R.; Zhang, Y.; Black, C. T.; Nealey, P. F. Adv. Mater. 2007, 19, 607