Synthesis of wo3 nanogranular thin films by hot-wire CVD

Chemical Vapor Deposition

Volumn 16, Issue 4-6, 2010, Pages 179-184

  Houweling, Z Silvester ^a   Geus, John W ^b   Schropp, Ruud E I ^a  

^a UTRECHT UNIVERSITY   (Netherlands)

^b UTRECHT UNIVERSITY   (Netherlands)

Author keywords

Amorphous; Crystalline; Rutherford backscattering spectrometry; Thin films; Tungsten oxide

Indexed keywords

AIR FLOW; AMORPHOUS; ATOMIC SPECIES; DEPOSITED FILMS; ENERGY DISPERSIVE X-RAY SPECTROSCOPY; HIGH-RESOLUTION SCANNING ELECTRON MICROSCOPIES; HOT WIRE CVD; MASS DENSITIES; NANOCRYSTALLINES; NANOGRANULAR THIN FILM; NANOGRANULARS; REDUCED PRESSURE; RUTHERFORD BACK-SCATTERING SPECTROMETRY; SMALL GRAINS; SUBSTRATE SURFACE TEMPERATURE; THERMAL RADIATIONS; TUNGSTEN FILAMENTS; TUNGSTEN OXIDE;

ATOMIC SPECTROSCOPY; ATOMS; BACKSCATTERING; CARBON FILMS; CRYSTALLINE MATERIALS; ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY; FILAMENTS (LAMP); GLASSY CARBON; HEATING; HIGH RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY; METALLIC GLASS; NANORODS; OXIDE FILMS; OXIDES; RAMAN SPECTROSCOPY; RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROSCOPY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SINTERING; SPECTROMETRY; SUBSTRATES; THERMOCOUPLES; THIN FILMS; TUNGSTEN; TUNGSTEN COMPOUNDS; VAPOR DEPOSITION; X RAY DIFFRACTION; X RAY SPECTROSCOPY;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 77954339409     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200906838     Document Type: Article

References (66)

1. C. G. Granqvist, A. Azens, A. Hjelm, L. Kullman, G. A. Niklasson, D. Rönnow, M. Strømme Mattsson, M. Veszelei, G. Vaivars, Sol. Energy 1998, 63, 199.
2. E. B. Franke, C. L. Trimble, J. S. Hale, M. Schubert, J. A. Woollam, J. Appl. Phys. 2000, 88, 577.
3. C. G. Granqvist, in Handbook of Inorganic Electrochromic Materials, Elsevier Science, Amsterdam 1995.
4. P. A. Gillet, J. L. Fourquet, O. Bohnke, Mater. Res. Bull. 1992, 27, 1145.
5. J. D. Guo, Y. J. J. Li,M. S. Whittingham, J. Power Sources 1995, 54, 461.
6. C. Santato,M. Odziemkowski,M. Ulman, J. Augustynski, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 10639.
7. C. G. Granqvist, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 60, 201.
8. M. Bendahan, R. Boulmani, J. L. Seguin, K. Aguir, Sens. Actuators 2004, 100, 320.
9. A. Hoel, L. F. Reyes, P. Heszler, V. Lantto, C. G. Granqvist, Curr. Appl. Phys. 2004, 4, 547.
10. J. L. Solis, S. Saukko, L. Kish, C. G. Granqvist, V. Lantto, Thin Solid Films 2001, 391, 255.
11. K. Sayama, K. Mukasa, R. Abe, Y. Abe, H. Arakawa, Chem. Commun. 2001, 2416.
12. C. Santato, M. Ulmann, J. Augustynski, Adv. Mater. 2001, 13, 511.
13. A. SChengelaya, S. Reich, Y. Tsabba, K. A. Muller, Eur. Phys. J. B 1998, 12, 13.
14. C. Bittencourt, R. Landers, E. Llobet, G. Molas, X. Correig, M. A. P. Silva, J. E. Sueiras, J. Calderer, J. Electrochem. Soc. 2002, 149, H81.
15. M. Gillet, K. Aguir, M. Bendahan, P. Mennini, Thin Solid Films 2005, 484, 358.
16. H. Fuduka, R. Zohnishi, S. Nomura, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 2782.
17. M. Boulova, G. Lucazeau, J. Solid State Chem. 2002, 167, 425.
18. C. Vladuta, L. Andronic, M. Visa, A. Duta, Surf. Coat. Technol. 2008, 202, 2448.
19. E. Djurado, E. Meunier, J. Solid State Chem. 1998, 141, 191.
20. B. Ingham, S. V. Chong, J. L. Tallon, Curr. t Appl. Phys. 2004, 4, 202.
21. S. Pokhrel, C. E. Simion, V. S. Teodorescu, N. Barsan, U. Weimar, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 1767.
22. A. Al Mohammad, M. Gillet, Thin Solid Films 2002, 408, 302.
23. Y. Q. Zhu, W. Hu, W. K. Hsu, M. Terrones, N. Grobert, J. P. Hare, H. W. Kroto, D. R. M. Walton, H. Terrones, Chem. Phys. Lett. 1999, 309, 327.
24. G. Gu, B. ZCheng, W. Q. Han, S. Roth, J. Liu, Nano Lett. 2002, 2, 849.
25. H. Qi, C. Wang, J. Liu, Adv. Mater. 2003, 15, 411.
26. R. Binions, C. Piccirillo, R. G. Palgrave, I. P. Parkin, Chem. Vap. Deposition 2008, 14, 33.
27. C. Piccirillo, R. Binions, I. P. Parkin, Chem. Vap. Deposition 2007, 13, 145.
28. K. Kukli, M. Ritala,M. Leskela, R. Lappalainen, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 29.
29. S. Lim, J. C. Lee, D. S. Sohn, W. I. Lee, I. M. Lee, Chem. Mater. 2002, 14, 1548.
30. C. O. Avellaneda, A. Pawlicka, A. Aegerter, J. Mater. Sci. 1998, 33, 2181.
31. M. Macek, B. Orel, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 1998, 54, 121.
32. S. Ashraf, R. Binions, C. S. Blackman, I. P. Parkin, Polyhedron 2007, 26, 1493.
33. L. Mîinea, S. Suh, S. G. Bott, J. R. Liu, W. K. Chu, D. M. Hoffman, J. Mater. Chem. 1999, 9, 929.
34. M. Valet, D. M. Hoffman, Chem. Mater. 2001, 13, 2135.
35. J. R. Brown, M. T. Cheney, P. W. Haycock, D. J. Houlton, A. C. Jones, E. W. Williams, J. Electrochem. Soc. 1997, 144, 295.
36. P. W. Haycock, G. A. Horley, K. C. Molloy, C. P. Myers, S. A. Rushworth, L. M. Smith, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 191.
37. A. C. Dillon, A. H. Mahan, R. Deshpande, J. L. Alleman, J. L. Blackburn, P. A. Parillia, M. J. Heben, C. Engtrakul, K. E. H. Gilbert, K. M. Jones, R. To, S.-H. Lee, J. H. Lehman, Thin Solid Films 2006, 501, 216.
38. K. Liu, D. T. Foord, L. Scipioni, Nanotechnology 2005, 16, 10.
39. Y.-R. Ma, C.-M. Lin, C.-L. Yeh, R.-T. Huang, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 2141.
40. W. Chen, C. Xiao, Q. Yang, S. Yang, A. Hirose, Mater. Res. Inn. Online 2006, 10, 169.
41. M.-T. Chang, L.-J. Chou, Y.-L. Chueh, Y.-C. Lee, C.-H. Hsieh, C.-D. Chen, Y.-W. Lan, L.-J. Chen, Small 2007, 3, 658.
42. A. H. Mahan, P. A. Parilla, K. M. Jones, A. C. Dillon, Chem. Phys. Lett. 2005, 413, 88.
43. A. Rothschild, J. Sloan, R. Tenne, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 5169.
44. B. McCarroll, J. Chem. Phys. 1967, 46, 863
45. Yu. G. Ptuchinskii, B. A. Chuikov, Surf. Sci. 1967, 6, 47.
46. Yu. G. Ptuchinskii, B. A. Chuikov, Surf. Sci. 1967, 7, 507.
47. Yu. G. Ptuchinskii, B. A. Chuikov, Fizika Tverd. Tela 1968, 10, 795.
48. E. Ozkan, S.-H. Lee, C. E. Tracy, J. R. Pitts, S. K. Deb, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 79, 439.
49. S. H. Lee, H. M. Cheong, J.-G. Zhang, C. E. Tracy, A. Mascarenhas, D. K. Benson, S. K. Deb, Electrochim. Acta. 1999, 44, 3111.
50. E. Cazzanelli,M. Castriota, R. Kalendarev, A. Kuzmin, J. Purans, Ionics 2003, 9, 95.
51. S. H. Lee, H. M. Cheong, J.-G. Zhang, C. E. Tracy, A. Mascarenhas, D. K. Benson, S. K. Deb, Appl. Phys. Lett. 1992, 74, 242.
52. F. Cora, C. R. A. Catlow, Faraday Discuss. 1999, 114, 421.
53. T. Kubo, Y. Nishikitani, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 1729.
54. E. Salje, Acta Crystallogr. A 1975, 31, 360.
55. S. Hayashi, H. Sugano, H. Arai, K. Yamamoto, J. Phys. Soc. Jpn. 1992, 61, 916.
56. A. G. Souza-Filho, V. N. Freire, J. M. Sasaki, J. Mendes Filho, J. F. Julião, U. U. Gomes, J. Raman Spectrosc. 2000, 31, 451.
57. A. Anderson, Spectrosc. Lett. 1976, 9, 809.
58. W. K. Chu, J. W. Mayer, M. A. Nicolet, in Backscattering Spectrometry, Academic Press, New York 1978, pp, 21, 24.
59. L. Feldman, J. Mayer, in Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis, PTR Prentice-Hall Inc, New York 1986, pp, 21, 24
60. L. R. Doolittle, Nucl. Instrum. Methods B9 1985, 31, 344.
61. K. von Rottkay, N. Ozer, M. Rubin, T. Richardson, Thin Solid Films 1997, 50, 308.
62. D. Manno, A. Serra, M. Di Giulio, G. Micocci, A. Tepore, Thin Solid Films 1998, 324, 44.
63. X. G. Wang, Y. S. Jiang, N. H. Yang, L. Yuan, S. J. Pang, Appl. Phys. Sci. 1999, 143, 135.
64. L. E. Depero, S. Groppeli, I. Natali-Sora, L. Sangaletti, G. Sberveglieri, E. T. Ondello, J. Solid State Chem. 1996, 121, 379.
65. S. Osono, M. Kitazoe, H. Tsuboi, S. Asari, K. Saito, Thin Solid Films 2006, 501, 61.
66. R. E. I. Schropp, Thin Solid Films 2009, 517, 3415.