Well-controlled crystal growth of zinc oxide films on plastics at room temperature using 2D nanosheet seed layer

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 44, 2009, Pages 19096-19101

  Shibata, Tatsuo ^a   Ohnishi, Tsuyoshi ^a   Sakaguchi, Isao ^a   Osada, Minoru ^a   Takada, Kazunori ^a   Kogure, Toshihiro ^b   Sasaki, Takayoshi ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^b UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

2-D CRYSTALS; 2D-HEXAGONAL; CRYSTALLINE TEXTURE; FILM PROPERTIES; HIGH QUALITY CRYSTALS; MONOLAYER FILM; PLASTIC AND GLASS SUBSTRATES; PLASTIC SUBSTRATES; ROOM TEMPERATURE; SEED LAYER; XRD; ZNO CRYSTALS; ZNO FILMS;

CESIUM; CRYSTAL GROWTH; CRYSTAL ORIENTATION; CRYSTALLIZATION; DIFFRACTION; FILM GROWTH; GLASS; GRAIN BOUNDARIES; HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; MAGNETIC FILMS; METALLIC FILMS; MONOLAYERS; NANOSHEETS; PLASTICS; SEMICONDUCTING ZINC COMPOUNDS; SUBSTRATES; TWO DIMENSIONAL; X RAY DIFFRACTION; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; ZINC; ZINC OXIDE;

OXIDE FILMS;

EID: 70449578861     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp9074288     Document Type: Article

References (61)

1. Funakubo, H.; Mizutani, N.; Yonetsu, M.; Saiki, A.; Shinozaki, K. J. Elecroceram. 1999, 4, 25.
2. Sasaki, A.; Hara, W.; Matsuda, A.; Tateda, N.; Otaka, S.; Akiba, S.; Saito, K.; Yodo, T.; Yoshimoto, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 2319111.
3. Kuppusami, P.; Vollweiler, G.; Rafaja, D.; Ellmer, K. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2005, 80, 183.
4. Ohta, J.; Fujioka, H.; Oshima, M. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3060.
5. Tsukazaki, A.; Ohtomo, A.; Onuma, T.; Ohtani, M.; Makino, T.; Sumiya, M.; Ohtani, K.; Chichibu, S. F.; Fuke, S.; Segawa, Y.; Ohno, H.; Koinuma, H.; Kawasaki, M. Nat. Mater. 2005, 4, 42.
6. Pan, F.; Song, C.; Liu, X. J.; Yang, Y. C.; Zeng, F. Mater. Sci. Eng., R. 2008, 62, 1.
7. Ö zgür, Ü .; Alivov, Ya. I.; Liu, C.; Teke, A.; Reshchikov, M. A.; Doǧan, S.; Avrutin, V.; Cho, S.-J.; Morkoç, H. J. Appl. Phys. 2005, 98, 041301.
8. Klingshirn, C. ChemPhysChem 2007, 8, 782.
9. Tsukazaki, A.; Ohtomo, A.; Kita, T.; Ohno, Y.; Ohno, H.; Kawasaki, M. Science 2007, 315, 1388.
10. Chichibu, S. F.; Onuma, T.; Kubota, M.; Uedono, A.; Sota, T.; Tsukazaki, A.; Ohtomo, A.; Kawasaki, M. J. Appl. Phys. 2006, 99, 093505.
11. Masuda, S.; Kitamura, K.; Okumura, Y.; Miyatake, S.; Tabata, H.; Kawai, T. J. Appl. Phys. 2003, 93, 1624.
12. Carcia, P. F.; McLean, R. S.; Reilly, M. H.; Nunes, G., Jr. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1117.
13. Fortunato, E.; Barquinha, P.; Pimentel, A.; Gonçalves, A.; Marques, A.; Pereira, L.; Martins, R. Thin Solid Films 2005, 487, 205.
14. Fortunato, E.; Barquinha, P.; Pimentel, A.; Gonçalves, A.; Marques, A.; Pereira, L.; Martins, R. Adv. Mater. 2005, 17, 590.
15. Fortunato, E.; Gonçalves, A.; Pimentel, A.; Barquinha, P.; Gonçalves, G.; Pereira, L.; Ferreira, I.; Martins, R. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2009, 96, 197.
16. Guziewicz, E.; Godlewski, M.; Krajewski, T.; Wachnicki, Ł.; Szczepanik, A.; Kopalko, K.; Wǒjcik-Głodowska, A.; Przeździecka, E.; Paszkowicz, W.; Łusakowska, E.; Kruszewski, P.; Huby, N.; Tallarida, G.; Ferrari, S. J. Appl. Phys. 2009, 105, 122413.
17. Minami, T.; Sato, H.; Nanto, H.; Takata, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1985, 24, L781.
18. Agura, H.; Suzuki, A.; Matsushita, T.; Aoki, T.; Okuda, M. Thin Solid Films 2003, 445, 263.
19. Kim, J.-P.; Lee, S.-A; Bae, J. S.; Park, S.-K.; Choi, U.-C.; Cho, C.-R. Thin Solid Films 2008, 516, 5223.
20. Fortunato, E.; Gonçalves, A.; Assunção, V.; Marques, A.; Águas, H.; Pereira, L.; Ferreira, I.; Martins, R. Thin Solid Films 2003, 442, 121.
21. Yu, X.; Ma, J.; Ji, F.; Wang, Y.; Cheng, C.; Ma, H. Appl. Surf. Sci. 2005, 245, 310.
22. Zhu, B. L.; Sun, X. H.; Guo, S. S.; Zhao, X. Z.; Wu, J.; Wu, R.; Liu, J. Jpn. J. Appl. Phys. 2006, 45, 7860.
23. Nakagawara, O.; Kishimoto, Y.; Seto, H.; Koshido, Y.; Yoshino, Y.; Makino, T. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 091904.
24. Yamada, T.; Miyake, A.; Kishimoto, S.; Makino, H.; Yamamoto, N.; Yamamoto, T. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 051915.
25. Lee, J.; Lee, D.; Lim, D.; Yang, K. Thin Solid Films 2007, 515, 6094.
26. Miyake, A.; Yamada, T.; Makino, H.; Yamamoto, N.; Yamamoto, T. Thin Solid Films 2009, 517, 3130.
27. Fernández, S.; Martínez-Steele, A.; Gandía, J. J.; Naranjo, F. B. Thin Solid Films 2009, 517, 3152.
28. Koidis, C.; Logothetidis, S.; Georgiou, D.; Laskarakis, A.; Lousinian, S.; Tsiaoussis, I.; Frangis, N. Phys. Status Solidi A 2008, 205, 1988.
29. Koidis, C.; Logothetidis, S.; Laskarakis, A.; Tsiaoussis, I.; Frangis, N. Micron 2009, 40, 130.
30. Shibata, T.; Fukuda, K.; Ebina, Y.; Kogure, T.; Sasaki, T. Adv. Mater. 2008, 20, 231.
31. Fukuda, K.; Akatsuka, K.; Ebina, Y.; Ma, R.; Takada, K.; Nakai, I.; Sasaki, T. ACS Nano 2008, 2, 1689.
32. Nadeau, P. H.; Wilson, M. J.; McHardy, W. J.; Tait, J. M. Science 1984, 225, 923.
33. Nakato, T.; Furumi, Y.; Terao, N.; Okuhara, T. J. Mater. Chem. 2000, 10, 737.
34. Treacy, M. M. J.; Rice, S. B.; Jacobson, A. J.; Lewandowski, J. T. Chem. Mater. 1990, 2, 279.
35. Fang, M.; Kim, C. H.; Saupe, G. B.; Kim, H.-N.; Waraksa, C. C.; Miwa, T.; Fujishima, A.; Mallouk, T. E. Chem. Mater. 1999, 11, 1526.
36. Schaak, R. E.; Mallouk, T. E. Chem. Mater. 2000, 12, 2513.
37. Schaak, R. E.; Mallouk, T. E. Chem. Mater. 2000, 12, 3427.
38. Ebina, Y.; Sasaki, T.; Watanabe, M. Solid State Ionics 2002, 151, 177.
39. Ozawa, T. C.; Fukuda, K.; Akatsuka, K.; Ebina, Y.; Sasaki, T. Chem. Mater. 2007, 19, 6575.
40. Ozawa, T. C.; Fukuda, K.; Akatsuka, K.; Ebina, Y.; Sasaki, T.; Kurashima, K.; Kosuda, K. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 17115.
41. Ida, S.; Ogata, C.; Eguchi, M.; Youngblood, W. J.; Mallouk, T. E.; Matsumoto, Y. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 7052.
42. Miyamoto, N.; Yamamoto, H.; Kaito, R.; Kuroda, K. Chem. Commun. 2002, 2378.
43. Takagaki, A.; Lu, D.; Kondo, J. N.; Hara, M.; Hayashi, S.; Domen, K. Chem. Mater. 2005, 17, 2487.
44. Takagaki, A.; Yoshida, T.; Lu, D.; Kondo, J. N.; Hara, M.; Domen, K.; Hayashi, S. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 11549.
45. Fukuda, K.; Nakai, I.; Ebina, Y.; Ma, R.; Sasaki, T. Inorg. Chem. 2007, 46, 4787.
46. Sasaki, T.; Watanabe, M.; Hashizume, H.; Yamada, H.; Nakazawa, H. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 8329.
47. Sasaki, T.; Watanabe, M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4682.
48. Sugimoto, W.; Terabayashi, O.; Murakami, Y.; Takasu, Y. J. Mater. Chem. 2002, 12, 3814.
49. Miyamoto, N.; Kuroda, K.; Ogawa, M. J. Mater. Chem. 2004, 14, 165.
50. Liu, Z. H.; Ooi, K.; Kanoh, H.; Tang, W. P.; Tomida, T. Langmuir 2000, 16, 4154.
51. Omomo, Y.; Sasaki, T.; Wang, L. Z.; Watanabe, M. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 3568.
52. Liu, Z.; Ma, R.; Ebina, Y.; Takada, K.; Sasaki, T. Chem. Mater. 2007, 19, 6504.
53. Shaack, R. E.; Mallouk, T. E. Chem. Commun. 2002, 706.
54. Sugimoto, W.; Iwata, H.; Yasunaga, Y.; Murakami, Y.; Takasu, Y. Angew. Chem., Int. Ed. 2003, 42, 4092.
55. Adachi-Pagano, M.; Forano, C.; Besse, J.-P. Chem. Commun. 2000, 91.
56. Hibino, T.; Jones, W. J. Mater. Chem. 2001, 11, 1321.
57. Li, L.; Ma, R.; Ebina, Y.; Iyi, N.; Sasaki, T. Chem. Mater. 2005, 17, 4386.
58. Liu, Z.; Ma, R.; Osada, M.; Iyi, N.; Ebina, Y.; Takada, K.; Sasaki, T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 4872.
59. Muramatsu, M.; Akatsuka, K.; Ebina, Y.; Wang, K.; Sasaki, T.; Ishida, T.; Miyake, K.; Haga, M. Langmuir 2005, 21, 6590.
60. Akatsuka, K.; Haga, M.; Ebina, Y.; Osada, M.; Fukuda, K.; Sasaki, T. ACS Nano 2009, 3, 1097.
61. Van Der Drift, A. Philips Res. Rep. 1967, 22, 267.