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Volumn 22, Issue 1, 2009, Pages 117-122

Underlayer designs to enhance EUV resist performance

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EUV; PAG; Photoacid generator; Sensitizer; Underlayer

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EID: 70249124604     PISSN: 09149244     EISSN: 13496336     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.22.117     Document Type: Article
Times cited : (13)

References (15)
  • 6
    • 70249122569 scopus 로고    scopus 로고
    • www.itrs.net/Links/20071TRS/2007_Chapters/2007_Lithography.pdf


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.