Site-selective deposition of In2O3 using a self-assembled monolayer

Crystal Growth and Design

Volumn 9, Issue 1, 2009, Pages 555-561

  Masuda, Yoshitake ^a,b   Kondo, Masashi ^b   Koumoto, Kunihito ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 61649083320     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg800856m     Document Type: Article

References (76)

1. Hambergend, I.; Granquist, C. G. J. Appl. Phys. 1996, 123-160.
2. Bellingham, J. R.; Mackenize, A. P.; Philips, W. A. Appl. Phys. Lett. 1991, 58, 2506-2508.
3. Zhao, L.; Zhou, Z.; Peng, H.; Cui, R. Appl. Surf. Sci. 2005, 252, 385-392.
4. Jana, A. K. J. Photochem. Photobiol, A 2000, 132, 1-17.
5. Tsai, T. H.; Wu, Y. F. J. Electrochem. Soc. 2006, 153, C86-C90.
6. Ozasa, K.; Ye, T.; Aoyagi, Y. Thin Solid Films 1994, 246, 58-64.
7. Pissadakis, S.; Mailis, S.; Reekie, L.; Wilkinson, J. S.; Eason, R. W.; Vainos, N. A.; Moschovis, K.; Kiriakidis, G. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1999, 69, 333-336.
8. Granqvist, C. G. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1993, 57, 19-24.
9. Gagaoudakis, E.; Bender, M.; Douloufakis, E.; Katsarakis, N.; Natsakou, E.; Cimalla, V.; Kiriakidis, G. Sens. Actuators, B 2001, 80, 155-161.
10. Chung, W.-Y.; Sakai, G.; Shimanoe, K.; Miura, N.; Lee, D.-D.; Yamazoe, N. Sens. Actuators, B 1998, 46, 139-145.
11. Liess, M. Thin Solid Films 2002, 410, 183-187.
12. Tamaki, J.; Naruo, C.; Yamamoto, Y.; Matsuoka, M. Sens. Actuators, B 2002, 83, 190-194.
13. Ryzhikov, A. S.; Vasiliev, R. B.; Rumyantseva, M. N.; Ryabova, L. I.; Dosovitsky, G. A.; Gilmutdinov, A. M.; Kozlovsky, V. F.; Gaskov, A. M. Mater. Sci. Eng., B 2002, 96, 268-274.
14. Murali, K. R.; Sambasivam, V.; Jayachandran, M.; Chockalingam, M. J.; Rangarajan, N.; Venkatesan, V. K. Surf. Coat. Technol. 1988, 35, 207-213.
15. Sheu, J. K.; Su, Y. K.; Chi, G. C.; Jou, M. J.; Chang, C. M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 3317-3319.
16. Girtan, M.; Rusu, G. I.; Rusu, G. G.; Gurlui, S. Appl. Surf. Sci. 2000, 162, 492-498.
17. Girtan, M.; Rusu, G. I.; Rusu, G. G. Mater. Sci. Eng., B 2000, 76, 156-160.
18. Jeong, J. I.; Moon, J. H.; Hong, J. H.; Kang, J.-S.; Fukuda, Y.; Lee, Y. P. J. Vac. Sci. Technol., A 1996, 14, 293-298.
19. Gurlo, A.; Ivanovskaya, M.; Pfau, A.; Weimar, U.; Gopel, W. Thin Solid Films 1997, 307, 288-293.
20. Korobov, V.; Leibovitch, M.; Shapira, Y. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2290-2292.
21. Maruyama, T.; Fukui, K. J. Appl. Phys. 1991, 70, 3848-3851.
22. Maruyama, T.; Kitamura, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, 1096-L1097.
23. Girtan, M. Surf. Coat. Technol. 2004, 184, 219-224.
24. Manifacier, J. C.; Fillard, J. P.; Bind, J. M. Thin Solid Films 1981, 77, 67-80.
25. Girtan, M.; Cachet, H.; Rusu, G. I. Proceedings of Symposium K on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the European Materials Research Society (E-MRS) 2002 Spring Conference. Thin Solid Films 2003, 427, 406-410.
26. Grivas, C.; Gill, D. S.; Mailis, S.; Boutsikaris, L.; Vainos, N. A. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1998, 66, 201-204.
27. Park, J. Y.; Kim, H. S.; Lee, D. H.; Kwon, K. H.; Yeom, G. Y. Surf. Coat. Technol. 2000, 131, 247-251.
28. Huang, C. J.; Su, Y. K.; Wu, S. L. Mater. Chem. Phys. 2004, 84, 146-150.
29. van den Meerakker, J. E. A. M.; Baarslag, P. C.; Walrave, W.; Vink, T. J.; Daams, J. L. C. Thin Solid Films 1995, 266, 152-156.
30. Takabatake, M.; Wakui, Y.; Konishi, N. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2470-2473.
31. Bradshaw, G.; Hughes, A. J. Thin Solid Films 1976, 33, L5-L8.
32. Inoue, M.; Matsuoka, T.; Fujita, Y.; Abe, Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, 274-278.
33. van den Meerakker, J. E. A. M.; ter Veen, W. R. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 385-390.
34. Scholten, M.; van den Meerakker, J. E. A. M. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 471.
35. Vandenmeerakker, J.; Baarslag, P. C.; Scholten, M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2321-2325.
36. Takatsuji, H.; Hiromori, T.; Tsujimoto, K.; Tsuji, S.; Kuroda, K.; Saka, H. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1998, 508, 315.
37. Masuda, Y.; Sugiyama, T.; Lin, H.; Seo, W. S.; Koumoto, K. Thin Solid Films 2001, 382, 153-157.
38. Masuda, Y.; Jinbo, Y.; Yonezawa, T.; Koumoto, K. Chem. Mater. 2002, 14, 1236-1241.
39. Masuda, Y.; Sugiyama, T.; Koumoto, K. J. Mater. Chem. 2002, 12, 2643-2647.
40. Masuda, Y.; Ieda, S.; Koumoto, K. Langmuir 2003, 19, 4415-4419.
41. Masuda, Y.; Sugiyama, T.; Seo, W. S.; Koumoto, K. Chem. Mater. 2003, 15, 2469-2476.
42. Masuda, Y.; Saito, N.; Hoffmann, R.; De Guire, M. R.; Koumoto, K. Sci. Technol. Adv. Mater. 2003, 4, 461-467.
43. Shirahata, N.; Masuda, Y.; Yonezawa, T.; Koumoto, K. Langmuir 2002, 18, 10379-10385.
44. Saito, N.; Haneda, H.; Sekiguchi, T.; Ohashi, N.; Sakaguchi, I.; Koumoto, K. Adv. Mater. 2002, 14, 418-421.
45. Nakanishi, T.; Masuda, Y.; Koumoto, K. Chem. Mater. 2004, 16, 3484-3488.
46. Gao, Y. F.; Masuda, Y.; Yonezawa, T.; Koumoto, K. Chem. Mater. 2002, 14, 5006-5014.
47. Xiang, J. H.; Masuda, Y.; Koumoto, K. Adv. Mater. 2004, 16, 1461-1464.
48. Masuda, Y.; Itoh, T.; Koumoto, K. Adv. Mater. 2005, 17, 841-845.
49. Masuda, Y.; Itoh, T.; Koumoto, K. Langmuir 2005, 21, 4478-4481.
50. Masuda, Y.; Itoh, T.; Itoh, M.; Koumoto, K. Langmuir 2004, 20, 5588-5592.
51. Masuda, Y.; Tomimoto, K.; Koumoto, K. Langmuir 2003, 19, 5179-5183.
52. Dressick, W. J.; Kondracki, L. M.; Chen, M. S.; Brandow, S. L.; Matijevic, E.; Calvert, J. M. Colloids Surf., A 1996, 108, 101 111.
53. Dressick, W. J.; Dulcey, C. S.; Georger, J. H.; Calabrese, G. S.; Calvert, J. M. J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 210-220.
54. Brandow, S. L.; Dressick, W. J.; Marrian, C. R. K.; Chow, G. M.; Calvert, J. M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2233-2243.
55. Hilaire, L.; Legare, P.; Holl, Y.; Maire, G. Solid State Commun. 1979, 32, 157-160.
56. Wagner, C. D.; Riggs, W. M.; Davis, L. E.; Moulder, J. F.; Muilenberg, G. E. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, Physical Electronics Division, Perkin-Elmer Corp.: Eden Prairie, MN, 1979.
57. Weightman, P.; Andrews, P. T. J. Phys. C: Solid State Phys. 1980, 13, L815-L819.
58. Weightman, P.; Andrews, P. T. J. Phys. C: Solid State Phys. 1980, 13, L821-L825.
59. Nefedov, V. I.; Zakharova, I. A.; Moiseev, I.I.; Porai-koshits, M. A.; Vargoftik, M. N.; Belov, A. P. Zh. Neorg. Khim. 1973, 18, 3264-3268.
60. Nefedov, V. I.; Kokunov, Y. V.; Buslaev, Y. A.; Poraikos, Ma.; Gustyako, Mp.; Ilin, E. G. Zh. Neorg. Khim. 1973, 18, 931-934.
61. Choudary, B. M.; Kumar, K. R.; Jamil, Z.; Thyagarajan, G. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1985, 931-932.
62. Sakurada, O.; Takahashi, H.; Taga, M. Bunseki Kagaku 1989, 38, 407-412.
63. Datye, A. K.; Bravo, J.; Nelson, T. R.; Atanasova, P.; Lyubovsky, M.; Pfefferte, L. Appl. Catal., A 2000, 198, 179-196.
64. Bazzicalupi, C.; Bencini, A.; Bianchi, A.; Giorgi, C.; Valtancoli, B. Coord. Chem. Rev. 1999, 184, 243-270.
65. Ouchene, M., S. C.; Belin, E.; Gheorghiu, A.; Theye, M. J. Non-Cryst. Solids 1983, 59&60, 625-628.
66. Bertrand, P. A. J. Vac. Sci. Technol. 1981, 18, 28-33.
67. Kazmerski, L. L.; Jamjoum, O.; Ireland, P. J.; Deb, S. K.; Mickelsen, R. A.; Chen, W. J. Vac. Sci. Technol. 1981, 19, 467-471.
68. Sen, P.; Hegde, M. S.; Rao, C. N. Appl. Surf. Sci. 1982, 10, 63.
69. Wagner, C. D. Discuss. Faraday Soc. 1975, 60, 291.
70. Fan, J. C. C.; Goodenough, J. B. J. Appl. Phys. 1977, 48, 3524-3531.
71. Lin, A. W. C.; Armstrong, N. R.; Kuwana, T. Anal. Chem. 1977, 49, 1228-1235.
72. Clark, D. T.; Fok, T.; Roberts, G. G.; Sykes, R. W. Thin Solid Films 1980, 70, 261-283.
73. Cahen, D.; Ireland, P. J.; Kazmerski, L. L.; Thiel, F. A. J. Appl. Phys. 1985, 57, 4761-4771.
74. Hewitt, R. W.; Winograd, N. J. Appl. Phys. 1980, 51, 2620-2624.
75. Faur, M.; Faur, M.; Jayne, D. T.; Goradia, M.; Goradia, C. Surf. Interface Anal. 1990, 15, 641-650.
76. Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1997, 82, 865-870.