-
2
-
-
0030231388
-
-
0957-4484 10.1088/0957-4484/7/3/013.
-
S. Matsui and Y. Ochiai, Nanotechnology 0957-4484 10.1088/0957-4484/7/3/ 013 7, 247 (1996).
-
(1996)
Nanotechnology
, vol.7
, pp. 247
-
-
Matsui, S.1
Ochiai, Y.2
-
5
-
-
0033614026
-
-
0036-8075 10.1126/science.283.5402.661.
-
R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. Hong, and C. A. Mirkin, Science 0036-8075 10.1126/science.283.5402.661 283, 661 (1999).
-
(1999)
Science
, vol.283
, pp. 661
-
-
Piner, R.D.1
Zhu, J.2
Xu, F.3
Hong, S.4
Mirkin, C.A.5
-
7
-
-
0038020140
-
-
0167-9317 10.1016/S0167-9317(03)00126-6.
-
A. Meister, S. Jeney, M. Liley, T. Akiyama, U. Staufer, N. F. de Rooij, and H. Heinzelmann, Microelectron. Eng. 0167-9317 10.1016/S0167-9317(03)00126-6 67, 644 (2003).
-
(2003)
Microelectron. Eng.
, vol.67
, pp. 644
-
-
Meister, A.1
Jeney, S.2
Liley, M.3
Akiyama, T.4
Staufer, U.5
De Rooij, N.F.6
Heinzelmann, H.7
-
8
-
-
12944295089
-
-
1530-6984 10.1021/nl0486822.
-
S. Egger, A. Llie, T. Fu, J. Chongsathien, D. Kang, and M. E. Welland, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl0486822 5, 15 (2005).
-
(2005)
Nano Lett.
, vol.5
, pp. 15
-
-
Egger, S.1
Llie, A.2
Fu, T.3
Chongsathien, J.4
Kang, D.5
Welland, M.E.6
-
9
-
-
0032606877
-
-
0003-6951 10.1063/1.124777.
-
M. M. Deshmukh, D. C. Ralph, M. Thomas, and J. Silcox, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.124777 75, 1631 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 1631
-
-
Deshmukh, M.M.1
Ralph, D.C.2
Thomas, M.3
Silcox, J.4
-
10
-
-
13244279809
-
-
1071-1023 10.1116/1.1802931.
-
M. A. F. van den Boogaart, G. M. Kim, R. Pellens, J. P. van den Heuvel, and J. Brugger, J. Vac. Sci. Technol. B 1071-1023 10.1116/1.1802931 22, 3174 (2004).
-
(2004)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.22
, pp. 3174
-
-
Van Den Boogaart, M.A.F.1
Kim, G.M.2
Pellens, R.3
Van Den Heuvel, J.P.4
Brugger, J.5
-
11
-
-
13744259389
-
-
0034-6748 10.1063/1.1852925.
-
P. Zahl, M. Bammerlin, G. Meyer, and R. R. Schlittler, Rev. Sci. Instrum. 0034-6748 10.1063/1.1852925 76, 023707 (2005).
-
(2005)
Rev. Sci. Instrum.
, vol.76
, pp. 023707
-
-
Zahl, P.1
Bammerlin, M.2
Meyer, G.3
Schlittler, R.R.4
-
12
-
-
0038768201
-
-
0003-6951 10.1063/1.124679.
-
R. Lüthi, R. R. Schittler, J. Brugger, P. Vettiger, M. E. Welland, and J. K. Gimzewski, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.124679 75, 1314 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 1314
-
-
Lüthi, R.1
Schittler, R.R.2
Brugger, J.3
Vettiger, P.4
Welland, M.E.5
Gimzewski, J.K.6
-
13
-
-
33847616903
-
-
0003-6951 10.1063/1.2710473.
-
H. M. Guo, D. Martrou, T. Zambelli, J. Polesel-Maris, A. Piednoir, E. Dujardin, S. Gauthier, M. A. F. van den Boogaart, L. M. Doeswijk, and J. Brugger, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2710473 90, 093113 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 093113
-
-
Guo, H.M.1
Martrou, D.2
Zambelli, T.3
Polesel-Maris, J.4
Piednoir, A.5
Dujardin, E.6
Gauthier, S.7
Van Den Boogaart, M.A.F.8
Doeswijk, L.M.9
Brugger, J.10
-
14
-
-
0000682617
-
-
0034-6748 10.1063/1.1150584.
-
T. Ondarcuhu, L. Nicu, S. Cholet, C. Bergaud, S. Gerdes, and C. Joachim, Rev. Sci. Instrum. 0034-6748 10.1063/1.1150584 71, 2087 (2000).
-
(2000)
Rev. Sci. Instrum.
, vol.71
, pp. 2087
-
-
Ondarcuhu, T.1
Nicu, L.2
Cholet, S.3
Bergaud, C.4
Gerdes, S.5
Joachim, C.6
-
16
-
-
0012827729
-
-
1530-6984 10.1021/nl025784o.
-
M. Kolbel, R. W. Tjerkstra, J. Brugger, C. J. M. van Rijn, W. Nijdam, J. Huskens, and D. N. Reinhoudt, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl025784o 2, 1339 (2002).
-
(2002)
Nano Lett.
, vol.2
, pp. 1339
-
-
Kolbel, M.1
Tjerkstra, R.W.2
Brugger, J.3
Van Rijn, C.J.M.4
Nijdam, W.5
Huskens, J.6
Reinhoudt, D.N.7
-
17
-
-
21644450668
-
-
1530-6984 10.1021/nl0506812.
-
X. M. Yan, A. M. Contreras, M. M. Koebel, J. A. Liddle, and G. A. Somorjai, Nano Lett. 1530-6984 10.1021/nl0506812 5, 1129 (2005).
-
(2005)
Nano Lett.
, vol.5
, pp. 1129
-
-
Yan, X.M.1
Contreras, A.M.2
Koebel, M.M.3
Liddle, J.A.4
Somorjai, G.A.5
|