Correlation of the reaction front with roughness in chemically amplified photoresists

ACS Symposium Series

Volumn 874, Issue , 2004, Pages 86-97

  Jones, Ronald L ^a   Prabhu, Vivek M ^a   Goldfarb, Darío L ^b   Lin, Eric K ^a   Soles, Christopher L ^a   Lenhart, Joseph L ^a,c   Wu, Wen Li ^a   Angelopoulos, Marie ^b  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^b IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

^c SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 49549124511     PISSN: 00976156     EISSN: None     Source Type: Book Series    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (18)

1. 2001 National Technology Roadmap for Semiconductors, The Semiconductor Industry Association: San Jose, CA (2001).
2. G. W. Reynolds, J. W. Taylor, J. Vac. Sci. Technol. B. 17, 334 (1999).
3. G. P. Patsis, N. Glezos, I. Raptis, E. S. Valamontes, J. Vac. Sci. Technol. B. 17, 3367 (1999).
4. W. D. Hinsberg, F. A. Houle, M. I. Sanchez, G. M. Walraff, IBM J. Res. & Dev. 45, 667 (2001)
5. F. A. Houle, W. D. Hinsberg, M. I. Sanchez, Macromolecules 35, 8591 (2002).
6. G. M. Schmid, M. D. Smith, C. A. Mack, V. K. Singh, S. D. Burns, C. G. Willson, Proc. SPIE 3999, 675 (2000).
7. Y.-S. Kim, Y.-H. Kim, S. H. Lee, Y.-G. Yim, D. G. Kim, J.-H. Kim, Proc. SPIE 4690, 829 (2002).
8. M. Yoshizawa, S. Moriya, J. Vac. Sci. Technol. B. 20, 1342 (2002).
9. Q. Lin, R. Sooriyakumaran, W.-S. Huang, Proc. SPIE 3999, 230 (2000).
10. Q. Lin, D. L. Goldfarb, M. Angelopoulos, S. R. Sriram, J. S. Moore, Proc. SPIE 4345, 78 (2001).
11. L. W. Flanagin, V. K. Singh, C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B. 17, 1371 (1999).
12. E. K. Lin, C. L. Soles, D. L. Goldfarb, B. C. Trinque, S. D Burns, R. L. Jones, J. L. Lenhart, M. Angelopoulos, C. G. Willson, S. K. Satija, W.-L. Wu, Science, 297, 372 (2002).
13. D. L. Goldfarb et al., in preparation (2002).
14. D. L. Goldfarb, M. Angelopoulos, E. K. Lin, R. L. Jones, C. L. Soles, J. L. Lenhart, W.-L. Wu, J. Vac. Sci. Technol. B. 19(6), 2699 (2001).
15. D. He, F. Cerrina, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3748 (1998)
16. G. M. Schmid, M. D. Smith, C. A. Mack, V. K. Singh, S. D. Burns, C. G. Willson, Proc. of the SPIE 4690, 381 (2002).
17. T. Yamaguchi, H. Namatsu, M. Nagase, K. Yamazaki, K. Kurihara, Appl. Phys. Lett. 71, 2388 (1997).
18. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto, S. Okazaki, Appl. Phys. Lett. 63, 764 (1993).