Magnesium aluminate thin films by atomic layer deposition from organometallic precursors and water

Thin Solid Films

Volumn 466, Issue 1-2, 2004, Pages 103-107

  Putkonen, Matti ^a   Nieminen, Minna ^a   Niinistö, Lauri ^a  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

Author keywords

Atomic layer deposition; Magnesium aluminate; Thin film

Indexed keywords

ANNEALING; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DEPOSITION; IMPURITIES; MAGNESIUM COMPOUNDS; ORGANOMETALLICS; STOICHIOMETRY; TEMPERATURE DISTRIBUTION; WATER; X RAY DIFFRACTION;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CRYSTALLINITY; FILM ROUGHNESS; MAGNESIUM ALUMINATE;

THIN FILMS;

EID: 4544379120     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.tsf.2004.02.078     Document Type: Article

References (45)

1. Mattogno G., Righini G., Montesperelli G., Traversa E. Appl. Surf. Sci. 70-71:1993;363.
2. Heaney J.B., Hass G., McFarland M. Appl. Opt. 20:1981;2335.
3. Ihara M., Arimoto Y., Jifuku M., Kimura T., Kodoma S., Yamawaki H., Yamaoka T. J. Electrochem. Soc. 129:1982;2569.
4. Boo J.-H., Lee S.-B., Ku S.-J., Koh W., Kim C., Yu K.-S., Kim Y. Appl. Surf. Sci. 169-170:2001;581.
5. Matsubara S., Shohata N., Mikami M. Jpn. J. Appl. Phys. (Suppl. 24-3):1985;10.
6. Rocheleau R.E., Zhang Z., Gilje J.W., Meese-Marktscheffel J.A. Chem. Mater. 6:1994;1615.
7. Stollberg D.W., Carter W.B., Hampikian J.M. Surf. Coat. Technol. 94-95:1997;137.
8. Veith M., Altherr A., Wolfanger H. Chem. Vapor Depos. 5:1999;87.
9. Molodyk A.A., Kaul A.R., Yu. Gorbenko O., Novojilov M.A., Korsakov I.E., Wahl G. J. Phys. IV. 9:1999;709.
10. Egami K., Mikami M., Tsuya H. Appl. Phys. Lett. 43:1983;757.
11. Koh W., Ku S.-J., Kim Y. Chem. Vapor Depos. 4:1998;192.
12. Gusmano G., Montesperelli G., Nunziante P., Traversa E., Mattogno G. Electrochim. Acta. 38:1993;2617.
13. Gusmano G., Montesperelli G., Traversa E. J. Am. Ceram. Soc. 76:1993;743.
14. Wu X.D., Inam A., Hedge M.S., Wilkens B., Chang C.C., Hwang D.M., Nazer L., Venkatesan T. Appl. Phys. Lett. 54:1989;754.
15. Hwang D.M., Ramesh R., Chen C.Y., Wu X.D., Inam A., Hedge M.S., Wilkens B., Chang C.C., Nazar L., Venkatesan T., Miura S., Matsubara S., Miyasaka Y., Shohata N. J. Appl. Phys. 68:1990;1772.
16. Suzuki M., Ami T. Mater. Sci. Eng. B. 41:1996;166.
17. Dalacu N., Kitai A.H., Sanders B.W., Huang R. Thin Solid Films. 209:1992;207.
18. Suntola T. Glocker D.A., Shah S.I. Handbook of Thin Film Process Technology. 1995;B1 5, 1-17 Institute of Physics, Bristol.
19. Niinistö L. Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 3:1998;147.
20. Leskelä M., Ritala M. J. Phys. IV. 9:1999;Pr8-Pr837.
21. Ritala M., Leskelä M. Nalwa H.S. Handbook of Thin Film Materials. 1:2002;103-159 Academic Press, San Diego.
22. L. Niinistö, CAS 2000 Proceedings, International Semiconductor Conference, 23rd, Sinaia, Romania, Oct. 10-14, (2000).
23. Huang R., Kitai A.H. J. Electron. Mater. 22:1993;215.
24. Putkonen M., Johansson L.-S, Rauhala E., Niinistö L. J. Mater. Chem. 9:1999;2449.
25. Putkonen M., Sajavaara T., Niinistö L. J. Mater. Chem. 10:2000;1857.
26. Hatanpää T., Ihanus J., Kansikas J., Mutikainen I., Ritala M., Leskelä M. Chem. Mater. 11:1999;1846.
27. Huang R., Kitai A.H. Appl. Phys. Lett. 61:1992;1450.
28. Huang R., Kitai A.H. J. Mater. Sci. Lett. 12:1993;1444.
29. Ott A.W., Klaus J.W., Johnson J.M., George S.M. Thin Solid Films. 292:1997;135.
30. Drozd V.E., Baraban A.P., Nikiforova I.O. Appl. Surf. Sci. 82-83:1994;583.
31. Kim Y., Lee S.M., Park C.S., Lee S.I., Lee M.Y. Appl. Phys. Lett. 71:1997;3604.
32. Hiltunen L., Kattelus H., Leskelä M., Mäkelä M., Niinistö L., Nykänen E., Soininen P., Tiitta M. Mater. Chem. Phys. 28:1991;379.
33. Stringfellow G.B. Organometallic Vapor-Phase Epitaxy: Theory and Practice. 1989;49 Academic Press, New York.
34. Ylilammi M., Ranta-Aho T. Thin Solid Films. 232:1993;56.
35. UniQuant Version 2 User Manual, Omega Data Systems, Veldhoven, Netherlands, 1994.
36. Matero R., Rahtu A., Ritala M., Leskelä M., Sajavaara T. Thin Solid Films. 368:2000;1.
37. Putkonen M., Sajavaara T., Niinistö J., Johansson L.-S., Niinistö L. J. Mater. Chem. 12:2002;442.
38. Vehkamäki M., Hänninen T., Ritala M., Leskelä M., Sajavaara T., Rauhala E., Keinonen J. Chem. Vapor Depos. 7:2001;75.
39. Vehkamäki M., Hatanpää T., Hänninen T., Ritala M., Leskelä M. Electrochem. Solid-State Lett. 2:1999;504.
40. Nieminen M., Sajavaara T., Rauhala E., Putkonen M., Niinistö L. J. Mater. Chem. 11:2001;2340.
41. Haukka S., Lakomaa E.-L., Root A. J. Phys. Chem. 97:1993;5085.
42. Kosola A., Putkonen M., Johansson L.-S., Niinistö L. Appl. Surf. Sci. 211:2003;102.
43. Putkonen M., Sajavaara T., Niinistö J., Johansson L.-S., Niinistö L. J. Mater. Chem. 12:2002;442.
44. Schuisky M., Kukli K., Ritala M., Hårsta A., Leskelä M. Chem. Vapor Depos. 6:2000;139.
45. Chapman B.N. J. Vac. Sci. Technol. 11:1974;106.