Mechanisms and energetics of hydride dissociation reactions on surfaces of plasma-deposited silicon thin films

Journal of Chemical Physics

Volumn 127, Issue 19, 2007, Pages

  Singh, Tejinder ^a   Valipa, Mayur S ^a   Mountziaris, T J ^a   Maroudas, Dimitrios ^a  

^a University of Massachusetts   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS SILICON; DENSITY FUNCTIONAL THEORY; DISSOCIATION; FILM GROWTH; MOLECULAR DYNAMICS; PLASMA DEPOSITION; REACTION KINETICS;

REACTION BARRIERS; SILICON HYDRIDE DISSOCIATION PROCESSES; SILICON SURFACES; SURFACE CHEMICAL COMPOSITION;

THIN FILMS;

EID: 36349002804     PISSN: 00219606     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2781393     Document Type: Article

References (34)

1. A. Shah, P. Torres, R. Tscharner, N. Wyrsch, and H. Keppner, Science 285, 692 (1999).
2. C. Beneking, B. Rech, J. Foelsch, and H. Wagner, Phys. Status Solidi B 194, 41 (1996).
3. R. A. Gottscho, M. E. Barone, and J. M. Cook, MRS Bull. 21, 38 (1996).
4. A. Gallagher, J. Appl. Phys. 63, 2406 (1988).
5. S. M. Gates, R. R. Kunz, and C. M. Greenlief, Surf. Sci. 207, 364 (1989).
6. S. M. Gates, C. M. Greenlief, and D. B. Beach, J. Chem. Phys. 93, 7493 (1990).
7. C. C. Cheng and J. T. Yates, Phys. Rev. B 43, 4041 (1991).
8. Y. Wang, M. J. Bronikowski, and R. J. Hamers, Surf. Sci. 311, 64 (1994).
9. D. C. Marra, E. A. Edelberg, R. L. Naone, and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3199 (1998).
10. D. C. Marra, W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, K. Kashefizadeh, and E. S. Aydil, Surf. Sci. 530, 1 (2003).
11. E. S. Aydil, D. Maroudas, D. C. Marra, W. M. M. Kessels, S. Agarwal, S. Ramalingam, S. Sriraman, M. C. M. van de Sanden, and A. Takano, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 664, A1.1 (2001).
12. Y. Toyoshima, K. Arai, A. Matsuda, and K. Tanaka, J. Non-Cryst. Solids 137-138, 765 (1991).
13. S. Yamasaki, U. K. Das, T. Umeda, J. Isoya, and K. Tanaka, J. Non-Cryst. Solids 266-269, 529 (2000).
14. T. Shimuzu, X. Xu, H. Kidoh, A. Morimoto, and M. Kumeda, J. Appl. Phys. 64, 5045 (1988).
15. W. M. M. Kessels, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2153 (2000).
16. J. P. Perdew, K. Burke, and M. Ernzerhof, Phys. Rev. Lett. 77, 3865 (1996).
17. M. C. Payne, M. P. Teter, D. C. Allan, T. A. Arias, and J. D. Joannopoulos, Rev. Mod. Phys. 64, 1045 (1992).
18. D. Vanderbilt, Phys. Rev. B 41, 7892 (1990).
19. G. Henkelman, B. P. Uberuaga, and H. Jónnson, J. Chem. Phys. 113, 9901 (2000).
20. T. Bakos, M. S. Valipa, and D. Maroudas, J. Chem. Phys. 122, 054703 (2005).
21. M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Surf. Sci. 572, L339 (2004).
22. D. Maroudas, Adv. Chem. Eng. 28, 251 (2001).
23. T. Ohira, O. Ukai, T. Adachi, Y. Takeuchi, and M. Murata, Phys. Rev. B 52, 8283 (1995).
24. T. Ohira, O. Ukai, M. Noda, Y. Takeuchi, M. Murata, and H. Yoshida, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 408, 445 (1996).
25. S. Ramalingam, D. Maroudas, and E. S. Aydil, J. Appl. Phys. 84, 3895 (1998).
26. S. Sriraman, S. Agarwal, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Nature (London) 418, 62 (2002).
27. S. Sriraman, M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2229426 100, 053514 (2006); M. S. Valipa, S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 100, 053515 (2006).
28. S. Sriraman, M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2229426 100, 053514 (2006); M. S. Valipa, S. Sriraman, E. S. Aydil, and D. Maroudas, J. Appl. Phys. 100, 053515 (2006).
29. M. S. Valipa, T. Bakos, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Phys. Rev. Lett. 95, 216102 (2005).
30. T. Bakos, M. S. Valipa, E. S. Aydil, and D. Maroudas, Chem. Phys. Lett. 414, 61 (2005).
31. M. S. Valipa, T. Bakos, and D. Maroudas, Phys. Rev. B 74, 205324 (2006).
32. Y.-S. Su and S. T. Pantelides, Phys. Rev. Lett. 88, 165503 (2002).
33. T. Bakos and D. Maroudas, IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 230 (2005).
34. B. Tuttle and J. B. Adams, Phys. Rev. B 57, 12859 (1998).