Fabrication of double-length-scale patterns via lithography, block copolymer templating, and electrodeposition

Advanced Materials

Volumn 19, Issue 21, 2007, Pages 3584-3588

  Tseng, Yu Tsan ^b   Tseng, Wen Hsien ^a   Lin, Cheng Hsuan ^b   Ho, Rong Ming ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BLOCK COPOLYMERS; CARBON NANOTUBES; ELECTRODEPOSITION; LITHOGRAPHY; NICKEL COMPOUNDS; SELF ASSEMBLY;

ARRAY DENSITY; DOUBLE LENGTH-SCALE-PATTERN ARRAYS; ELECTROPLATING DEPOSITION; TWO-ELECTRODE FIELD-EMISSION DEVICES;

COMPOSITE MATERIALS;

EID: 36249022150     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200700042     Document Type: Article

References (35)

1. T. Thurn-Albrecht, X Schotter, G. A. Kästle, N. Emley, T. Shibauchi, L. Krusin-Elbaum, K. Guarini, C. T. Black, M. T. Tuominen, T. P. Russell, Science 2000, 290, 2126.
2. T. Thurn-Albrecht, R. Steiner, J. DeRouchey, C. M. Stafford, E. Huang, M. Bal, M. Tuominen, C. J. Hawker, T. P. Russell, Adv. Mater. 2000, 12, 787.
3. Q. Zhang, T. Xu, D. Butterfield, M. J. Misner, D. Y. Ryu, T. Emrick, T. P. Russell, Nano Lett. 2005, 5, 357.
4. K. Shin, K. A. Leach, J. T. Goldbach, D. H. Kim. J. Y. Jho, M. Tuominen, C. J. Hawker, T. P. Russell, Nano Lett. 2002, 2, 933.
5. D. H. Kim, Z. Sun, T. P. Russell, W. Knoll, J. S. Gutmann, Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 1160.
6. R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, J. E. van den Enk, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2000, 12, 98.
7. R. R. Li, P. D. Dapkus, M. E. Thompson, W. G. Jeong, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1689.
8. M. Park, P. M. Chokin, R. A. Register, D. H. Adamson, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 257.
9. J. Y. Cheng, C. A. Ross, V. Z.-H. Chan, E. L. Thomas, R. G. H. Lammertink, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2001, 13, 1174.
10. C. Park, J. Yoon, E. L. Thomas, Polymer 2003, 44, 6725.
11. I. W. Hamley, Nanotechology 2003, 14, R39.
12. I. W. Hamley, Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 1692.
13. M. Lazzari, M. Arturo López-Quintela, Adv. Mater. 2003, 15, 1583.
14. M. R. Bockstaller, R. A. Mickiewicz, E. L. Thomas, Adv. Mater. 2005, 17, 1331.
15. J. Y. Cheng, C. A. Ross, H. I. Smith, E. L. Thomas, Adv. Mater. 2006, 18, 2505.
16. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. Dai, Science 1999, 255, 512.
17. B. Q. Wei, R. Vajtai, Y. Jung, J. Ward, R. Zhang, G. Ramanath, P. M. Ajayan, Nature 2002, 416, 495.
18. J. G. Wen, Z. P. Huang, X H. Chen, S. X. Yang, Z. F. Ren, J. H. Wang, L. E. Calvet, J. Chen, J, F. Klemic, M. A. Reed, Z Mater. Rev. 2001, 16, 3246.
19. Y. Tu, Z. P. Huang, D. Z. Wang, J, G. Wen, Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 2002, 50, 4081.
20. E. W. Wong, M. J. Bronikowsky, M. E. Hoenk, R. S. Kowalczyk, B. D. Hunt, Chem. Mater. 2005, 17, 237.
21. L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L. Schlapbach, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2071.
22. J. S. Suh, W. S. Jeong, J. S. Lee, I. Han, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2392.
23. H. M. Manohara, M. J. Bronikowski, M. Hoenk, B. D. Hunt, P. H. Siegel, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 157.
24. Y. W. Su, C. S. Wu, C. C. Chen, C. D. Chen, Adv. Mater. 2003, 15, 49.
25. M. Terrones, N. Groben, X Olivares, J. P. Zhang, H. Terrones, K. Kordatos, W. K. Hsu, J. P. Hare, P. D. Townsend, K. Prasside, A. K. Cheetham, H. W. Kroto, D. R. M. Walton, Nature 1997, 555, 52.
26. R. C. Bailey, K. J. Stevenson, J. T. Hupp, Adv. Mater. 2000, 12, 1930.
27. S. Asakura, M. Hirota, A. Fuwa, J. Vac. Sci. Technol. A 2003, 21, 1152.
28. C. Park, J. Y. Cheng, M. J. Fasolka, A. M. Mayes, C. A. Ross, E. L. Thomas, Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 848.
29. M. J. Fasolka, D. J. Harris, A. M. Mayes, M. Yoon, S. G. J. Mochrie, Phys. Rev. Lett. 1997, 79, 3081.
30. R. M. Ho, Y. W. Chiang, C. C. Tsai, C. C. Lin, B. T. Ko, B. H. Huang, Z. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 2704.
31. R. M. Ho, W. H. Tseng, H. W. Fan, Y. W. Chiang, C. C. Lin, B. T. Ko, B. H. Huang, Polymer 2005, 46, 9362.
32. Y. Li, J. Liu, Y. Wang, Z. L. Wang, Chem. Mater. 2001, 13, 1008.
33. Y. Homma, T. Yamashita, P. Finnie, M. Tomita, T. Ogino, Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, L89.
34. Y. Cheng, O. Zhou, C. R. Physique 2003, 4, 1021.
35. Y. H. Wang, J. Lin, C. H. A. Huan, Thin Solid Films 2002, 405, 243.