Mesophase semiconductors in field effect transistors

Journal of Materials Chemistry

Volumn 17, Issue 40, 2007, Pages 4223-4229

  Shimizu, Yo ^a   Oikawa, Kazuma ^b   Nakayama, Ken Ichi ^c,e   Guillon, Daniel ^d,f  

^a NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^b KANTO CHEMICAL CO INC   (Japan)

^c YAMAGATA UNIVERSITY   (Japan)

^d INSTITUT DE PHYSIQUE ET CHIMIE DES MATÉRIAUX DE STRASBOURG   (France)

^e JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

^f CNRS   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

3D-PLASTIC MESOPHASES; CALAMITIC LIQUID CRYSTALS; DEFECT-FREE DOMAINS;

LIQUID CRYSTALS; SEMICONDUCTOR MATERIALS; SOLUBILITY;

FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 35348893435     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b705534j     Document Type: Article

References (53)

1. M. O'Neill and S. M. Kelly, Adv. Mater., 2003, 15, 1135.
2. H. lino and J, Hanna, Opto-Etectron. Rev., 2005, 13, 295.
3. Handbook of Liquid Crystals, vol. 2, ed. D. Demus, J. Goodby, G. W. Gray, H.-W. Spiess and V. Vill, Wiley-VCH, Weinheim, 1998.
4. A. J, J, M. van Breemen, P. T. Herwig, C. H. Chlon, J. Sweelssen, H. F. M. Schoo, S. Setayesh, W. M. Hardeman, C. W. M. Bastiaansen, D. J. Broer, A. R. PopaMerticaru and S. C. J. Meskers, J. Am. Chem. Soc., 2006, 128, 2336.
5. D. Adam, D. Haarer, F. Closs, T. Frey, D. Funhoff, K. Siemensmeyer, P. Shuhmacher and H. Ringsdorf, Phys. Rev. Lett., 1993, 97, 1366.
6. D. Adam, P. Schuhmacher, J. Simmerer, L. Häussling, K. Siemensmeyer, K. H. Etzbaeh, H. Ringsdorf and D. Haarer, Nature, 1994, 371, 141.
7. H. Bässler, Phys. Status Solidi B, 1993, 175, 15.
8. M. Funahashi and J. Hanna, Phys. Rev. Lett., 1997, 78, 2184.
9. M. Funahashi and J. Hanna, Adv. Mater., 2005, 17, 594.
10. M. Funahashi and J. Hanna, Appl. Phys. Lett., 1998, 73, 3733.
11. K. Okamoto, S. Nakajima, A. Itaya and S. Kusabayashi, Bull. Chem. Soc. Jpn., 1983, 56, 3545.
12. K. Okamoto, S. Nakajima, M. Ueda, A. Itaya and S. Kusabayashi, Bull. Chem. Soc. Jpn., 1983, 56, 3830.
13. H, Iino, Y. Takayashiki, J. Hanna, R. J. Bushby and D. Haarer, Appl. Phys. Lett., 2005, 87, 192105.
14. A. M. van de Craats, J. M. Warman, A. Fechtenkötter, J. D. Brand, M. A. Harbison and K. Müllen, Adv. Mater., 1999, 11, 1469.
15. S. Aramaki, Y. Sakai and N. Ono, Appl. Phys. Lett., 2004, 84, 2085.
16. H. Iino, J. Hanna, R. J. Bushby, B. Movaghar, B. J. Whitaker and M. J. Cook, Appl. Phys. Lett., 2005, 87, 132102.
17. K. Ban, K. Nishizawa, K. Ohta, A. M. van de Craats, J, M. Warman, I. Yamamoto and H. Shirai, J. Mater. Chem., 2001, 11, 321.
18. W. Pisula, A. Menon, M. Stepputat, I. Lieberwirth, U. Kolb, A. Tracz, H. Sirringhaus, T. Pakula and K. Müllen, Adv. Mater., 2005, 17, 684.
19. I. O. Shklyarevskiy, P. Jonkheijm, N. Stutzmann, D. Wasserberg, H. J. Wondergem, P. C. M. Christianen, A. P. H. J. Schenning, D. M. de Leeuw, Z. Tomovic, J. Wu, K. Müllen and J. C. Maan, J. Am. Chem. Soc., 2005, 127, 16233.
20. J. M. Warman and A. M. van de Craats, Mol. Cryst. Liq. Cryst., 2003, 396, 41.
21. A. M. van de Craats, N. Stutzmann, O. Bunk, M. M. Nielsen, M. D. Watson, K. Müllen, H. D. Chanzy, H. Sirringhaus and R. H. Friend, Adv. Mater., 2003, 15, 495.
22. S. Cherian, C. Donley, D. Mathine, L. LaRussa, W. Xia and N. Armstrong, J. Appl. Phys., 2004, 96, 5638.
23. Y. Wu, P. Liu, B. S. Ong, T. Srikumar, N. Zhao, G. Botton and S. Zhu, Appl. Phys. Lett., 2005, 86, 142102.
24. M. Mushrush, A. Facchetti, M. Lefenfeld, H. E. Katz and T. J. Marks, J. Am. Chem, Soc., 2003, 125, 9414.
25. A. Facchetti, Y. Deng, A. Wang, Y. Koide, H. Sirringhaus, T. J. Marks and R. H. Friend, Angew. Chem., Int. Ed., 2000, 39, 4547.
26. L.-Y. Chen, W.-Y. Hung, Y.-T. Lin, C.-C. Wu, T.-C. Chao, T.-H. Hung and K.-T. Wong, Appl. Phys. Lett., 2005, 87, 112103.
27. T. Yasuda, K. Fujita, T. Tsutsui, Y. Geng, S. W. Culligan and S. H. Chen, Chem. Mater., 2005, 17, 264.
28. M. Heeney, C. Bailey, M. Giles, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, W. Zhang and I. McCulloch, Macromolecules, 2004, 37, 5250.
29. Y. Mi Kim, E. Lim, I.-N. Kang, B.-J. Jung, J. Lee, B. Won Koo, L.-M. Do and H.-K. Shim, Macromolecules, 2006, 39, 4081.
30. H. Sirringhaus, R. J. Willson, R. H. Friend, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, M. Grell and D. D. C. Bradley, Appl. Phys. Lett., 2000, 77, 406.
31. C. W. Struijk, A. B. Sieval, J. E. J. Dakhorst, M. van Dijk, P. Kimkes, R. B. M. Koehorst, H. Donker, T. J. Schaafsma, S. J. Picken, A. M. van de Craats, J. M. Warman, H. Zuilhof and E. J. R. Sudhölter, J. Am. Chem. Soc., 2000, 122, 11057.
32. Z. An, J. Yu, S. C. Jones, S. Barlow, S. Yoo, B. Domercq, P. Prins, L. D. A. Siebbeles, B. Kippelen and S. R. Marder, Adv. Mater., 2005, 17, 2580.
33. P. R. L. Malenfant, C. D. Dimitrakopoulos, J. D. Gelorme, L. L. Kosbar, T. O. Graham, A. Curioni and W. Andreoni, Appl. Phys. Lett., 2002, 80, 2517.
34. R. J. Chesterfield, J. C. McKeen, C. R. Newman, C. Daniel Frisbie, P. C. Ewbank, K. R. Mann, L. L. Miller and K. R. Mann, J. Appl. Phys., 2004, 95, 6396.
35. R. J. Chesterfield, J. C. McKeen, C. R. Newman, P. C. Ewbank, D. A. da Silva Filho, J.-L. Brédas, L. L. Miller, K. R. Mann and C. Daniel Frisbie, J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 19281.
36. J. L. Brédas, J. P. Calbert, D. A. da Silva Filho and J. Cornil, Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A., 2002, 99, 5804.
37. V. Lemaur, D. A. da Silva Filho, V. Coropceanu, M. Lehmann, Y. Geerts, J. Piris, M. G. Debije, A. M. van de Craats, K. Senthilkumar, L. D. A. Siebbeles, J. M. Warman, J.-L. Brédas and J. Cornil, J Am. Chem. Soc, 2004, 126, 3271.
38. S. Méry, D. Haristoy, J.-F. Nicoud, D. Guillon, H. Monobe and Y. Shimizu, J. Mater. Chem., 2002, 12, 37.
39. S. Méry, D. Haristoy, J.-F. Nicoud, D. Guillon, H. Monobe and Y. Shimizu, J. Mater. Chem., 2003, 13, 1622.
40. K. Oikawa, H. Monobe, J. Takahashi, K. Tsuchiya, B. Heinrich, D. Guillon and Y. Shimizu, Chem. Commun., 2005, 5337.
41. Y. Shimizu, K. Oikawa, B. Heinrich, D. Guillon, H. Monobe, T. Kimoto and K. Tsuchiya, The abstract of Japanese Liquid Crystal Conference, 2006.
42. S. E. Fritz, S. M. Martin, C. D. Frisbie, M. D. Ward and M. F. Toney, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4084.
43. J. Cornil, J. Ph. Culbert and J. L. Brédas, J. Am. Chem. Soc, 2001, 123, 1250.
44. K. Oikawa, H. Monobe, K. Nakayama, T. Kimoto, K. Tsuchiya, B. Heinrich, D. Guillon, Y. Shimizu and M. Yokoyama, Adv. Mater., 2007, 19, 1864.
45. I. McCulloch, M. Heeney, C. Bailey, K. Genevicius, I. MacDonald, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, R. Wagner, W. Zhang, M. L. Chabinyc, R. J. Kline, M. D. McGehee and M. F. Toney, Nat. Mater., 2006, 5, 328.
46. H. Meng, F. Sun, M. B. Goldfinger, G. D. Jaycox, Z. Li, W. J. Marshall and G. S. Blackman, J. Am. Chem. Soc, 2005, 127, 2406.
47. H. Meng, F. Sun, M. B. Goldfinger, F. Gao, D. J. Londono, W. J. Marshall, G. S. Blackman, K. D. Dobbs and D. E. Keys, J Am. Chem, Soc., 2006, 128, 9304.
48. P. Vlachos, S. M. Kelly, B. Mansoor and M. O'Neill, Chem. Commun., 2002, 874.
49. L McCulloch, W. Zhang, M. Heeney, C. Bailey, M. Giles, D. Graham, M. Shkunov, D. Sparrowe and S. Tierney, J. Mater. Chem., 2003, 13, 2436.
50. M. Inoue, H. Monobe, M. Ukon, V. F. Petrov, T. Watanabe, A. Kumano and Y. Shimizu, Opto-Electron. Rev., 2005, 13, 303.
51. A. Facchetti, M.-H. Yoon and T. J. Marks, Adv. Mater., 2005, 17, 1705.
52. J. Veres, S. Ogier, G. Lloyd and D. de Leeuw, Chem. Mater., 2004, 16, 4543.
53. Y. Wu, P. Liu, B. S. Ong, T. Srikumar, N. Zhao, G. Botton and S. Zhu, Appl. Phys. Lett., 2005, 86, 142102.