High carrier mobility of organic field-effect transistors with a thiophene-naphthalene mesomorphic semiconductor

Advanced Materials

Volumn 19, Issue 14, 2007, Pages 1864-1868

  Oikawa, Kazuma ^a   Monobe, Hirosato ^c   Nakayama, Ken Ichi ^b   Kimoto, Takahisa ^a   Tsuchiya, Kazuhiko ^a   Heinrich, Benoît ^d   Guillon, Daniel ^d   Shimizu, Yo ^c   Yokoyama, Masaaki ^e  

^a KANTO CHEMICAL CO INC   (Japan)

^b YAMAGATA UNIVERSITY   (Japan)

^c NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^d INSTITUT DE PHYSIQUE ET CHIMIE DES MATÉRIAUX DE STRASBOURG   (France)

^e OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIFFERENTIAL SCANNING CALORIMETRY; LIQUID CRYSTALS; NAPHTHALENE; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; THIN FILM TRANSISTORS;

ENDOTHERMAL PEAKS; MESOGEN; MESOMORPHIC SEMICONDUCTORS;

FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 34547473504     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200602608     Document Type: Article

References (25)

1. M. Funahashi, Recent Res. Develop. Appl. Phys. 2003, 6, 839.
2. H. Iino, J. Hanna, Optoelectron. Rev. 2005, 13, 295.
3. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik, W. Weber, J. Appl. Phys. 2002, 92, 5259.
4. W.-Y. Chou, C.-W. Kuo, H.-L. Cheng, Y.-R. Chen, F.-Y. Yang, D.-Y. Shu, C.-C. Liao, F.-C. Tang, Jpn. J. Appl. Phys. 2006, 45, 7922.
5. C.-B. Park, K.-D. Jung, S. H. Jin, B.-G. Park, J. D. Lee, J. Info. Disp. 2005, 6, 16.
6. H. Sirringhaus, R. H. Friend, C. Wang, J. Leuninger, K. Müllen, Adv. Mater. 1998, 9, 2095.
7. J. G. Laquindanum, H. E. Katz, A. J. Lovinger, J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 664.
8. J. J. Morrison, M. M. Murray, X. C. Li, A. B. Holmes, S. C. Morratti, R. H. Friend, H. Sirringhaus, Synth. Met. 1999, 102, 987.
9. K. Takimiya, H. Ebata, K. Sakamoto, T. Izawa, T. Otsubo, Y. Kunugi, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12 604.
10. H. Tian, J. Shi, S. Dong, D. Yan, L. Wang, Y. Geng, F. Wang, Chem. Commun. 2006, 3498.
11. I. McCulloch, W. Zhang, M. Heeney, C Bailey, M. Giles, D. Graham, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, J. Mater. Chem. 2003, 13, 2436.
12. A. J. J. van Breemen, P. T. Herwig, C. H. T. Chlon, J. Sweelssen, H. F. M. Schoo, S. Setayesh, W. M. Hardeman, C. A. Martin, D. M. de Leeuw, J. J. P. Valeton, C. W. M. Bastiaansen, D. J. Broer, A. R. Popa-Merticaru, S. C. J. Meskers, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 2336.
13. A. M. Craats, N. Stutzmann, O. Bunk, M. M. Nielsen, M. Watson, K. Müllen, H. D. Chanzy, H. Sirringhaus, R. H. Friend, Adv. Mater. 2003, 15, 495.
14. I. McCulloch, M. Heeney, C. Bailey, K. Genevicius, I. MacDonald, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, R. Wagner, W. Zhang, M. L. Chabinyc, R. J. Kline, M. D. Mcgehee, M. F. Toney, Nat. Mater. 2006, 5, 328.
15. K. Oikawa, H. Monobe, J. Takahashi, K. Tsuchiya, B. Heinrich, D. Guillon. Y. Shimizu, Chem. Comm. 2005, 5337.
16. M. Funahashi, J. Hanna, Adv. Mater. 2005, 17, 594.
17. S. A. Ponomarenko, S. Kirchmeyer, A. Elschner, N. M. Alpatova, M. Halik, H. Klauk, U. Zschieschang, G. Schmid, Chem. Mater. 2006, 18, 579.
18. H. Meng, F. Sun, M. B. Goldfinger, G. D. Jaycox, Z. Li, W. J. Marshall, G. S. Blackman, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2406.
19. M. Halik, H. Klauk, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik, S. Ponomarenko, S. Kirchmeyer, W. Weber, J. Appl. Phys. 2003, 93, 2977.
20. F. Garnier, R. Hajlaoui, A. E. Kassmi, G. Horowitz, L. Laigre, W. Porzio, M. Armanini F. Provasoli, Chem. Mater. 1998, 10, 3334.
21. H. Yanagisawa, T. Tamaki, M. Nakamura, K. Kudo, Thin Solid Films 2004, 464, 398.
22. I. O. Shklyarevskiy, P. Jonkheijm, N. Stutzmann, D. Wasserberg, H. J. Wondergem, P. C. M. Christian, A. P. H. J. Schenning, D. M. de Lecuw, Z. Tomovic, J. Wu, K. Müllen, J. C. Maan, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 16 233.
23. T. Mori, H. Takeuchi, H. Fujikawa, J. Appl. Phys. 2005, 97, 66 102.
24. A. M. van de Craats, J. M. Warman, A. Fechtenkotter, J. D. Brand, M. A. Harbison, K. Mullen. Adv. Mater. 1999, 11, 1469.
25. J. Cornil, V. Lemaur, J.-P. Calbert, J.-L. Bredas, Adv. Mater. 2002, 14, 726.