Deep reactive ion etching of polyimide for microfluidic applications

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 3, 2007, Pages 984-988

  Nguyen, T N T ^a   Lee, N E ^a  

^a Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

Deep reactive ion etching (DRIE); Microfluidic channel; Polyimide; Reservoir

Indexed keywords

EID: 34948813054     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.984     Document Type: Article

References (23)

1. D. R. Reyes, D. Lossifidis, P. A. Auroux and A. Manz, Anal. Chem. 74, 2623 (2002).
2. P. A. Auroux, D. Lossifidis, D. R. Reyes and A. Manz, Anal. Chem. 74, 2637 (2002).
3. T. Vilkner, D. Janasek and A. Manz, Anal. Chem. 76, 3373 (2004).
4. D. M. Rawson, R. Bhatia, J. W. Dilleen and A. L. Atkinson, Biosensors and Bioelectronics 18, 667 (2003).
5. I. W. Rangelow, Vacuum 62, 279 (2001).
6. T. Ichiki, Y. Sugiyama, T. Ujiie and Y. Horiike, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 2188 (2003).
7. J. H. Park, N.-E. Lee, J. Lee, J. S. Park and H. D. Park, Microelectron. Eng. 82, 119 (2005).
8. J. H. Park, N.-E. Lee, J. Lee, J. S. Park and H. D. Park, J. Korean Phys. Soc. 47, S422 (2005).
9. D. A. Zeze, R. D. Rorrest, J. D. Carey, D. C Cox, I. D. Robertson, B. L. Weiss and S. R. P. Silva, J. Appl. Phys. 92, 7 (2002).
10. P. W. Leech, Vacuum 55, 191 (1999).
11. J. S. Rossier, C. Vollet, A. Carnal, G. Lagger, V. Gobry, H. H. Girault, P. Michel and F. Reymond, Lab. Chip 2, 145 (2002).
12. S. Metz, R. Holzer and P. Renaud, Lab. Chip 1, 29 (2001).
13. J. T. Mabeck and G. G. Malharas, Anal. Bioanal. Chem. 384, 343 (2006).
14. B. C. Giordano, J. Ferrance, S. Swedderg, A. F. R. Huhmer and J. P. Landers, Anal. Biochem. 291, 124 (2001).
15. M. Roberts, J. Rossier, P. Bercier and H. Girault, Anal. Chem. 69, 2035 (1997).
16. J.-S. Han, Z.-Y. Tan and M. Shikida, J. Micromech. Microeng. 14, 38 (2004).
17. G. Turban and M. Rapeaux, J. Electrochem. Soc. 130, 2231 (1983).
18. S. H. Kim, C. H. Lee and J. Ahn, J. Korean Phys. Soc. 40, 99 (2002).
19. I. Tepermeister and H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 790 (1991).
20. A. Furuya, F. Shimokawa, T. Matsuura and R. Sawada, J. Micromech. Microeng. 4, 67 (1994).
21. N. Agarwal, S. Ponoth, J. Plawsky and P. D. Persans, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1587 (2002).
22. J. W. Bae, C. H. Jeong, J. T. Lim, H. C. Lee, G. Y. Yeom and I. Adesida, J. Korean Phys. Soc. 50, 1130 (2007).
23. B. Kim, J. Kim, S. H. Lee, J. Park and B. T. Lee, J. Korean Phys. Soc. 47, 712 (2005).