-
1
-
-
36449006681
-
-
M. Kitamura, M. Nishioka, J. Oshinowo, and Y. Arakawa, Appl. Phys. Lett. 66, 3663 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 3663
-
-
Kitamura, M.1
Nishioka, M.2
Oshinowo, J.3
Arakawa, Y.4
-
2
-
-
36449003117
-
-
D. S. L. Mui, D. Leonard, L. A. Coldren, and P. M. Petroff, Appl. Phys. Lett. 66, 1620 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 1620
-
-
Mui D. S., L.1
Leonard, D.2
Coldren L., A.3
Petroff P., M.4
-
4
-
-
0000494852
-
-
W. Seifert, N. Carlsson, A. Petersson, L.-E. Wernersson, and L. Samuelson, Appl. Phys. Lett. 68, 1684 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 1684
-
-
Seifert, W.1
Carlsson, N.2
Petersson, A.3
Wernersson, L.-E.4
Samuelson, L.5
-
5
-
-
23044522764
-
-
H. Lee, J. A. Johnson, J. S. Speck, and P. M. Petroff, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 2193 (2000).
-
(2000)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.18
, pp. 2193
-
-
Lee, H.1
Johnson J., A.2
Speck J., S.3
Petroff P., M.4
-
6
-
-
79955993622
-
-
T. Mano, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 81, 1705 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1705
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Hamhuis G., J.3
Eijkemans T., J.4
Wolter J., H.5
-
7
-
-
18644384552
-
-
T. Mano, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 92, 4043 (2002).
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.92
, pp. 4043
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Hamhuis G., J.3
Eijkemans T., J.4
Wolter J., H.5
-
8
-
-
0942300863
-
-
T. Mano, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 95, 109 (2004).
-
(2004)
J. Appl. Phys.
, vol.95
, pp. 109
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Hamhuis G., J.3
Eijkemans T., J.4
Wolter J., H.5
-
9
-
-
0842290100
-
-
Q. Gong, R. Nötzel, P. J. van Veldhoven, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 84, 275 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.84
, pp. 275
-
-
Gong, Q.1
Nötzel, R.2
Van Veldhoven P., J.3
Eijkemans T., J.4
Wolter J., H.5
-
10
-
-
22944489896
-
-
S. Anantathanasarn, R. Nötzel, P. J. van Veldhoven, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 98, 013503 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 013503
-
-
Anantathanasarn, S.1
Nötzel, R.2
Van Veldhoven P., J.3
Eijkemans T., J.4
Wolter J., H.5
-
11
-
-
31544467841
-
-
T. Mano, R. Nötzel, Q. Gong, T. van Lippen, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 44, 6829 (2005).
-
(2005)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.44
, pp. 6829
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Gong, Q.3
Van Lippen, T.4
Hamhuis G., J.5
Eijkemans T., J.6
Wolter J., H.7
-
12
-
-
33846298874
-
-
Y. I. Mazur, B. L. Liang, Z. M. Wang, G. G. Tarasov, D. Guzun, and G. J. Salamo, J. Appl. Phys. 101, 014301 (2007).
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 014301
-
-
Mazur Y., I.1
Liang B., L.2
Wang Z., M.3
Tarasov G., G.4
Guzun, D.5
Salamo G., J.6
-
13
-
-
5444230424
-
-
V. A. Shchukin, N. N. Ledentsov, P. S. Kop'ev, and D. Bimberg, Phys. Rev. Lett. 75, 2968 (1995).
-
(1995)
Phys. Rev. Lett.
, vol.75
, pp. 2968
-
-
Shchukin V., A.1
Ledentsov N., N.2
Kop'ev P., S.3
Bimberg, D.4
-
15
-
-
19944432394
-
-
T. Mano, R. Nötzel, D. Zhou, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 97, 014304 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.97
, pp. 014304
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Zhou, D.3
Hamhuis G., J.4
Eijkemans T., J.5
Wolter J., H.6
-
16
-
-
0005834097
-
-
Q. Xie, A. Madhukar, P. Chen, and N. P. Kobayashi, Phys. Rev. Lett. 75, 2542 (1995).
-
(1995)
Phys. Rev. Lett.
, vol.75
, pp. 2542
-
-
Xie, Q.1
Madhukar, A.2
Chen, P.3
Kobayashi N., P.4
-
19
-
-
34249891049
-
-
N. Sritirawisarn, F. W. M. van Otten, T. J. Eijkemans, and R. Nötzel, J. Cryst. Growth 305, 63 (2007).
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.305
, pp. 63
-
-
Sritirawisarn, N.1
Van Otten F. W., M.2
Eijkemans T., J.3
Nötzel, R.4
|