Calculation of reactor chamber resistance of inductively coupled plasma source

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 2, 2007, Pages 522-527

  Kwon, Deuk Chul ^a   Yoon, Nam Sik ^a  

^a Chungbuk National University   (South Korea)

Author keywords

ICP; Stray resistance

Indexed keywords

EID: 34548363580     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.522     Document Type: Article

References (31)

1. N. S. Yoon, S. S. Kim, C. S. Chang and D. I. Choi, J. Korean Phys. Soc. 28, 172 (1995).
2. N. S. Yoon, S. S. Kim, C. S. Chang and D. I. Choi, Phys. Rev. E 54, 757 (1996).
3. S. S. Kim, C. S. Chang and N. S. Yoon, J. Korean Phys. Soc. 29, 678 (1996).
4. N. S. Yoon, S. M. Hwang and D. I. Choi, Phys. Rev. E 55, 7536 (1997).
5. N. S. Yoon, J. H. Han, S. M. Hwang and D. I. Choi, J. Korean Phys. Soc. 32, S196 (1997).
6. N. S. Yoon, K.-I. You and S. M. Hwang, Surf. Coat. Technol. 112, 34 (1999).
7. K.-I. You and N. S. Yoon, Phys. Rev. E 59, 7074 (1999).
8. S. S. Kim, C. S. Chang, N. S. Yoon and K. W. Hwang, Phys. Plasmas 6, 2926 (1999).
9. J. G. Yang, N. S. Yoon, B. C. Kim, J. H. Choi, G. S. Lee and S. M. Hwang, IEEE Trans. Plasma Sci. 27, 676 (1999).
10. J. I. Hong, S. H. Seo, S. S. Kim, G. H. Bai, N. S. Yoon and H. Y. Chang, Phys. Plasmas 3, 1017 (1999).
11. K.-I. You, N. S. Yoon and S. M. Hwang, Surf. Coat. Technol. 114, 60 (1999).
12. H. J. Kim, K. H. Han, N. S. Yoon and Y. S. Hwang, Thin Solid Films 341, 22 (1999).
13. S. S. Kim, H. Y. Chang, C. S. Chang and N. S. Yoon, Appl. Phys. Lett. 77, 492 (2000).
14. C. W. Chung, S. S. Kim, S. H. Seo, H. Y. Chang and N. S. Yoon, J. Appl. Phys. 88, 1181 (2000).
15. S. S. Kim, S. Hamaguchi, N. S. Yoon, C. S. Chang, Y. D. Lee and S. H. Ku, Phys. Plasmas 8, 1384 (2001).
16. H. H. Choe, N. S. Yoon, S. S. Kim and D. I. Choi, J. Computational Phys. 170, 550 (2001).
17. H. H. Choe and N. S. Yoon, J. Korean Phys. Soc. 42, S859 (2003).
18. N. S. Yoon, B. H. Park, J. H. Kim and Y. H. Shin, Thin Solid Films 435, 293 (2003).
19. S. B. Song and N. S. Yoon, Surf. Coat. Technol. 171, 183 (2003).
20. D. C. Kwon, N. S. Yoon, J. H. Kim, Y. H. Shin and K. H. Chung, J. Korean Phys. Soc. 47, 163 (2005).
21. D. C. Kwon, N. S. Yoon, J. H. Kim, Y. H. Shin and K. H. Chung, J. Korean Phys. Soc. 50, 40 (2007).
22. K.-I. You and N. S. Yoon, Phys. Rev. E 59, 7074 (1999).
23. N. S. Yoon, K.-I. You and S. M. Hwang, Surf. Coat. Technol. 112, 34 (1999).
24. M. M. Turner, Phys. Rev. Lett. 71, 1884 (1993).
25. R. B. Piejak, V. A. Godyak and B. M. Alexandrovich, Plasma Sources Sci. Technol. 3, 169 (1994).
26. J. D. Jackson, Classical Electrodynamics (Wiley, Miami, 2001), p. 356.
27. W. H. Hayt and J. A. Buck, Engineering Electromagnetics (McGraw-Hill, Singapore, 2001), p. 443.
28. L. E. Frenzel, RF Power for Industrial Applications (Prentice Hall, Ohio, 2003), p. 126.
29. O. Danielsson, U. Forsberg, A. Henry and E. Janzén, J. Crystal Growth 235, 352 (2002).
30. J. W. Lee, M. A. Seo, J. Y. Sohn, D. J. Park, Y. H. Ahn, D. S. Kim, S. C. Jeoung and Q.-H. Park, J. Korean Phys. Soc. 48, 103 (2006).
31. S. N. Ghosh, S. K. Dhungel, J. Yoo, M. Gowtham, J. Yi and D. Bora, J. Korean Phys. Soc. 48, 908 (2006).