Stain etching characteristics of silicon(001) surfaces in aqueous HF K2 Cr2 O7 solutions

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 154, Issue 10, 2007, Pages

  Hoshino, Daisuke ^a   Adachi, Sadao ^a  

^a GUNMA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CRYSTALLINE MATERIALS; ETCHING; HYDROGEN INORGANIC COMPOUNDS; PHOTOLUMINESCENCE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SOLUTIONS;

REDOX POTENTIAL; SOLID PHASE CHEMICAL SPECIES; STAIN ETCHING;

SILICON;

EID: 34548215796     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2767852     Document Type: Article

References (46)

1. A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. J. Calcott, J. Appl. Phys., 82, 909 (1997).
2. S. Ossicini, L. Pavesi, and F. Priolo, Light Emitting Silicon for Microphotonics, Springer, Berlin (2003).
3. J. Sarathy, S. Shih, K. Jung, C. Tsai, K.-H. Li, D.-L. Kwong, J. C. Campbell, S.-L. Yan, and A. J. Bard, Appl. Phys. Lett., 60, 1532 (1992).
4. K. S. Nahm, Y. H. Seo, and H. J. Lee, J. Appl. Phys., 81, 2418 (1997).
5. Y. H. Seo, M. H. Yun, K. S. Nahm, and K. B. Lee, J. Vac. Sci. Technol. B, 11, 70 (1993).
6. N. Gabouze, S. Belhousse, and R. Outemzabet, Acta Phys. Slov., 53, 207 (2003).
7. S. Shih, K. H. Jung, T. Y. Hsieh, J. Sarathy, J. C. Campbell, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett., 60, 1863 (1992).
8. J. L. Coffer, S. C. Lilley, R. A. Martin, and L. A. Files-Sesler, J. Appl. Phys., 74, 2094 (1993).
9. M. T. Kelly, J. K. M. Chun, and A. B. Bocarsly, Appl. Phys. Lett., 64, 1693 (1994).
10. . Kalem and M. Rosenbauer, Appl. Phys. Lett., 67, 2551 (1995).
11. M. J. Winton, S. D. Russell, J. A. Wolk, and R. Gronsky, Appl. Phys. Lett., 69, 4026 (1996).
12. M. Nahidi and K. W. Kolasinski, J. Electrochem. Soc., 153, C19 (2006).
13. V. Petrova-Koch, T. Muschik, A. Kux, B. K. Meyer, and F. Koch, Appl. Phys. Lett., 61, 943 (1992).
14. T. Maruyama and S. Ohtani, Appl. Phys. Lett., 65, 1346 (1994).
15. B. R. Mehta, M. K. Sahay, L. K. Malhotra, D. K. Avasthi, and R. K. Soni, Thin Solid Films, 289, 95 (1996).
16. D. W. Cooke, R. E. Muenchausen, B. L. Bennett, L. G. Jacobsohn, and M. Nastasi, J. Appl. Phys., 96, 197 (2004).
17. C. Peng, L. Tsybeskov, and P. M. Fauchet, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 283, 121 (1993).
18. M. B. Robinson, A. C. Dillon, and S. M. George, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 283, 191 (1993).
19. S. Tomioka, T. Miyazaki, and S. Adachi, Unpublished.
20. Y. K. Xu and S. Adachi, Unpublished.
21. F. Koch, Microelectron. Eng., 28, 237 (1995).
22. See, for example, P. W. Leu, B. Shan, and K. Cho, Phys. Rev. B, 73, 195320 (2006).
23. S. Adachi, H. Mori, and S. Ozaki, Phys. Rev. B, 66, 153201 (2002).
24. D. T. Pierce and W. E. Spicer, Phys. Rev. B, 5, 3017 (1972).
25. S. Adachi, Phys. Rev. B, 43, 12316 (1991).
26. M. Rosenbauer, S. Finkbeiner, E. Bustarret, J. Weber, and M. Stutzmann, Phys. Rev. B, 51, 10539 (1995).
27. M. Ben-Chorin, B. Averboukh, D. Kovalev, G. Polisski, and F. Koch, Phys. Rev. Lett., 77, 763 (1996).
28. G. Polisski, H. Heckier, D. Kovalev, M. Schwartzkopff, and F. Koch, Appl. Phys. Lett., 73, 1107 (1998).
29. T. Toyama, Y. Kotani, A. Shimode, and H. Okamoto, Appl. Phys. Lett., 74, 3323 (1999).
30. S. Saito, D. Hisamoto, H. Shimizu, H. Hamamura, R. Tsuchiya, Y. Matsui, T. Mine, T. Arai, N. Sugii, K. Torii, S. Kimura, and T. Onai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 45, L679 (2006).
31. K. Tomioka and S. Adachi, J. Appl. Phys., 98, 073511 (2005).
32. E. Hartmann, P. O. Hahn, and R. J. Behm, J. Appl. Phys., 69, 4273 (1991).
33. N. Tomita and S. Adachi, J. Electrochem. Soc., 149, G245 (2002).
34. K. Uchida, K. Tomioka, and S. Adachi, J. Appl. Phys., 100, 014301 (2006).
35. Y. K. Xu and S. Adachi, J. Phys. D, 39, 4572 (2006).
36. R. J. Collins and H. Y. Fan, Phys. Rev., 93, 674 (1954).
37. Z. Jichang, W. Jiangen, M. Bilan, Z. Jingbing, and Q. Fenyuan, Infrared Phys., 33, 381 (1992).
38. D. B. Mawhinney, J. A. Glass, Jr., and J. T. Yates, Jr., J. Phys. Chem. B, 101, 1202 (1997).
39. M. Sadddoun, B. Bessais, N. Mliki, M. Ferid, H. Ezzaouia, and R. Bennaceur, Appl. Surf. Sci., 210, 240 (2003).
40. D. J. Riley, in Semiconductor Micromachining: Vol. 1 Fundamental Electrochemistry and Physics, S. A. Campbell, and, H. J. Lewerenz, Editors, p. 277, Wiley, Chichester (1998).
41. S. Adachi and T. Kubota, Electrochem. Solid-State Lett., 10, H-39 (2007).
42. S. Adachi, Properties of Group-IV, III-V and II-VI Semiconductors, Wiley, Chichester (2005).
43. F. Lohmann, Z. Naturforsch. A, 22A, 843 (1967).
44. H. Seidel, L. Csepregi, A. Heuberger, and H. Baumgärtel, J. Electrochem. Soc., 137, 3612 (1990).
45. R. Memming, in Comprehensive Treatise of Electrochemistry, B. E. Conway, J. O'M. Bockris, E. Yeager, S. U. M. Khan, and, R. E. White, Editors, Vol. 7, p. 529, Plenum, New York (1983).
46. P. Vansek, in CRC Handbook of Chemistry and Physics, D. R. Lide, Editor, p. 8, CRC, Boca Raton, FL (2001).