FTIR study of the oxidation of porous silicon

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 101, Issue 7, 1997, Pages 1202-1206

  Mawhinney, Douglas B ^a   Glass Jr , John A ^a   Yates Jr , John T ^a  

^a UNIVERSITY OF PITTSBURGH   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL BONDS; DISSOCIATION; ELECTROCHEMISTRY; ETCHING; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; HYDROGEN; OXIDATION; SURFACE PHENOMENA; THERMAL EFFECTS;

DANGLING BOND SITES;

POROUS SILICON;

EID: 0031075604     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp963322r     Document Type: Article

References (40)

1. Ibach, H.; Horn, K.; Dorn, R.; Lüth, H. Surf. Sci. 1973, 38, 433.
2. Engel, T. Surf. Sci. Rep. 1993, 18, 91.
3. Schaefer, J. A.; Frankel, D.; Stucki, F.; Göpel, W.; Lapeyre, G. J. Surf. Sci. 1984, 139, L209.
4. Zazzera, L.; Evans, J. F. J. Vac. Sci. Technol. A 1993, 11, 934.
5. Niwano, M.; Kageyama, J.; Kinashi, K.; Miyamoto, N.; Honma, K. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 465.
6. Xie, Y.-H.; Wilson, W. L.; Ross, F. M.; Mucha, J. A.; Fitzgerald, E. A.; Macaulay, J. M.; Harris, T. D. J. Appl. Phys. 1992, 71, 2403.
7. Iyer, S. S.; Xie, Y.-H. Science 1993, 260, 40.
8. Canham, L. MRS Bull. 1993 (July), 22.
9. Prokes, S. M. J. Mater. Res. 1996, 11, 305.
10. Hamilton, B. Semicond. Sci. Technol. 1995, 10, 1187.
11. Canham, L. T. Appl. Phys. Lett. 1990, 57, 1046.
12. Brus, L. J. Phys. Chem. 1994, 98, 3575.
13. Wang, S.-Y.; Shen, W.-Z.; Shen, X.-C.; Zhu, L.; Ren, Z.-M.; Li, Y.-F.; Liu, K.-F. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 783.
14. Bsiesy, A.; Hory, M. A.; Gaspard, F.; Herino, R.; Ligeon, M.; Muller, F.; Romestain, R.; Vial, J. C. Microelectron. Eng. 1995, 28, 233.
15. Tischler, M. A.; Collins, R. T.; Stathis, J. H.; Tsang, J. C. Appl. Phys. Lett. 1992, 60, 639.
16. Araki, M.; Koyama, H.; Koshida, N. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1996, 35, 1041.
17. Bomchil, G.; Herino, R.; Barla, K.; Pfister, J. C. J. Electrochem. Soc. 1983, 130, 1611.
18. Cheng, C. C.; Yates, Jr., J. T. Phys. Rev. B 1991, 43, 4041.
19. Lu, Z. H.; Griffiths, K.; Norton, P. R.; Sham, T. K. Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 1343.
20. Unagami, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1980, 19, 231.
21. Ogata, Y.; Niki, H.; Sakka, T.; Iwasaki, M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 1595.
22. Kato, Y.; Ito, T.; Hiraki, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1988, 27, L1406.
23. Gupta, P.; Dillon, A. C.; Bracker, A. S.; George, S. M. Surf. Sci. 1991, 245, 360.
24. Lucovsky, G. Solid State Commun. 1979, 29, 571.
25. Borghesi, A.; Guizzetti, G.; Sassella, A.; Bisi, O.; Pavesi, L. Solid State Commun. 1994, 89, 615.
26. Basu, P.; Ballinger, T. H.; Yates, Jr., J. T. Rev. Sci. Instrum. 1988, 59, 1321.
27. Glass, Jr., J. A.; Wovchko, E. A.; Yates, Jr., J. T. Surf. Sci. 1995, 338, 125.
28. Kern, W.; Puotinen, D. A. RCA Rev. 1970, 31, 187.
29. Glass, Jr., J. A.; Wovchko, E. A.; Yates, Jr., J. T. Surf. Sci. 1996, 348, 325.
30. Gupta, P.; Colvin, V. L.; George, S. M. Phys. Rev. B 1988, 37, 8234.
31. Morterra, C.; Low, M. J. D. Chem. Commun. 1968, 203.
32. Nakamura, M.; Mochizuki, Y.; Usami, K.; Itoh, Y.; Nozaki, T. Solid State Commun. 1984, 50, 1079.
33. Kaiser, W.; Keck, P. H.; Lange, C. F. Phys. Rev. 1956, 101, 1264.
34. Hrostowski, H. J.; Kaiser, R. H. Phys. Rev. 1957, 107, 966.
35. Morrow, B. A.; Cody, I. A. J. Phys. Chem. 1973, 77, 1465.
36. Hoffman, P.; Knözinger, E. Surf. Sci. 1987, 188, 181.
37. Wovchko, E. A.; Camp, J. C.; Glass, Jr., J. A.; Yates, Jr., J. T. Langmuir 1995, 11, 2592.
38. Her, R. K. The Chemistry of Silica; Wiley: New York, 1979.
39. Pimentel, G. C.; McClellan, A. L. The Hydrogen Bond; W.H. Freeman: San Francisco, 1960.
40. Zhou, X.-L.; Flores, C. R.; White, J. M. Appl. Surf. Sci. 1992, 62, 223.