H2S modified atomic layer deposition process for photocatalytic TiO2 thin films

Journal of Materials Chemistry

Volumn 17, Issue 14, 2007, Pages 1361-1371

  Pore, Viljami ^a   Ritala, Mikko ^a   Leskelä, Markku ^a   Areva, Sami ^b   Järn, Mikael ^c   Järnström, Joakim ^c  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b UNIVERSITY OF TURKU   (Finland)

^c ÅBO AKADEMI UNIVERSITY   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CHEMICAL MODIFICATION; FILM GROWTH; HYDROGEN SULFIDE; PHOTOCATALYSTS; TITANIUM DIOXIDE; X RAY DIFFRACTION;

DEPOSITION PARAMETERS; PHOTOCATALYTIC ACTIVITY; SUPERHYDROPHILICITY; TICL4;

THIN FILMS;

EID: 33947710833     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b617307a     Document Type: Article

References (71)

1. A. Fujishima, K. Honda Nature, 1972, 238, 37.
2. D. F. Ollis Environ. Sci. Technol., 1985, 19, 480.
3. 2 Photocatalysis, Fundamentals and Applications, BKC Inc., Tokyo, 1999
4. K. Hashimoto, H. Irie, A. Fujishima Jpn. J. Appl. Phys., 2005, 44, 8269.
5. A. L. Linsebigler, G. Lu, J. T. Yates, Jr. Chem. Rev., 1995, 95, 735.
6. M. A. Fox, M. T. Dulay Chem. Rev., 1993, 93, 341.
7. M. R. Hoffmann, S. T. Martin, W. Choi, D. W. Bahnemann Chem. Rev., 1995, 95, 69.
8. A. Mills, S. Le Hunte J. Photochem. Photobiol., A, 1997, 108, 1.
9. D. M. Blake, Bibliography of Work on the Heterogeneous Photocatalytic Removal of Hazardous Compounds from Water and Air: Update Number 4 to October 2001, National Renewable Energy Laboratory, Colorado, 2001, http://www.osti.gov/bridge
10. I. Nakamura, N. Negishi, S. Kutsuna, T. Ihara, S. Sugihara, K. Takeuchi J. Mol. Catal. A: Chem., 2000, 161, 205.
11. X. Z. Li, F. B. Li, C. L. Yang, W. K. Ge J. Photochem. Photobiol., A, 2001, 141, 209.
12. Y. Bessekhouad, D. Robert, J. V. Weber J. Photochem. Photobiol., A, 2004, 163, 569.
13. H. Yamashita, Y. Ichihashi, M. Takeuchi, S. Kishiguchi, M. Anpo J. Synchrotron Radiat., 1999, 6, 451.
14. M. Anpo, M. Takeuchi, K. Ikeue, S. Dohshi Curr. Opin. Solid State Mater. Sci., 2002, 6, 381.
15. T. Umebayashi, T. Yamaki, H. Itoh, K. Asai J. Phys. Chem. Solids, 2002, 63, 1909.
16. R. Asahi, T. Morikawa, T. Ohwaki, K. Aoki, Y. Taga Science, 2001, 293, 269.
17. S. U. M. Khan, M. Al-Shahry, W. B. Ingler Science, 2002, 297, 2243.
18. T. Umebayashi, T. Yamaki, H. Itoh, K. Asai Appl. Phys. Lett., 2002, 81, 454.
19. S. Yin, Y. Aita, M. Komatsu, J. Wang, Q. Tang, T. Sato J. Mater. Chem., 2005, 15, 674.
20. C. Burda, Y. Lou, X. Chen, A. C. S. Samia, J. Stout, J. L. Gole Nano Lett., 2003, 3, 1049.
21. J. L. Gole, J. D. Stout, C. Burda, Y. Lou, X. Chen J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 1230.
22. T. Sano, N. Negishi, K. Koike, K. Takeuchi, S. Matsuzawa J. Mater. Chem., 2004, 14, 380.
23. O. Diwald, T. L. Thompson, E. G. Goralski, S. D. Walck, J. T. Yates, Jr. J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 52.
24. M. Mrowetz, W. Balcerski, A. J. Colussi, M. R. Hoffmann J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 17269.
25. H. M. Yates, M. G. Nolan, D. W. Sheel, M. E. Pemble J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 179, 213.
26. V. Pore, M. Heikkilä, M. Ritala, M. Leskelä, S. Areva J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 177, 68.
27. R.-J. Guo, M.-H. Wang, T.-L. Tso, T.-P. Perng Int. J. Hydrogen Energy, 1995, 20, 561.
28. K. S. C. Babu, O. N. Srivastava Cryst. Res. Technol., 1988, 23, 555.
29. T. Umebayashi, T. Yamaki, S. Tanaka, K. Asai Chem. Lett., 2003, 32, 330.
30. K. Takeshita, A. Yamakata, T. Ishibashi, H. Onishi, K. Nishijima, T. Ohno J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 177, 269.
31. T. Ohno, T. Mitsui, M. Matsumura Chem. Lett., 2003, 32, 364.
32. T. Ohno, M. Akiyoshi, T. Umebayashi, K. Asai, T. Mitsui, M. Matsumura Appl. Catal., A, 2004, 265, 115.
33. T. Tachikawa, S. Tojo, K. Kawai, M. Endo, M. Fujitsuka, T. Ohno, K. Nishijima, Z. Miyamoto, T. Majima J. Phys. Chem. B, 2004, 108, 19299.
34. R. Bacsa, J. Kiwi, T. Ohno, P. Albers, V. Nadtochenko J. Phys. Chem. B, 2005, 109, 5994.
35. K. Demeestre, J. Dewulf, T. Ohno, P. H. Salgado, H. Van Langenhove Appl. Catal., B, 2005, 61, 154.
36. J. C. Yu, W. Ho, J. Yu, H. Yip, P. K. Wong, J. Zhao Environ. Sci. Technol., 2005, 39, 1175.
37. K. M. Reddy, B. Baruwati, M. Jayalakshmi, M. M. Rao, S. V. Manorama J. Solid State Chem., 2005, 178, 3352.
38. S. Yin, K. Ihara, Y. Aita, M. Komatsu, T. Sato J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 179, 105.
39. T. Ohno, T. Tsubota, M. Toyofuku, R. Inaba Catal. Lett., 2004, 98, 255.
40. H. Liu, L. Gao Chem. Lett., 2004, 33, 730.
41. Q. Zhang, J. Wang, S. Yin, T. Sato, F. Saito J. Am. Ceram. Soc., 2004, 87, 1161.
42. T. Umebayashi, T. Yamaki, S. Yamamoto, A. Miyashita, S. Tanaka, T. Sumita, K. Asai J. Appl. Phys., 2003, 93, 5156.
43. S. Yamamoto, A. Takeyama, M. Yoshikawa Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B, 2006, 242, 377.
44. S.-Z. Chu, S. Inoue, K. Wada, D. Li, J. Suzuki Langmuir, 2005, 21, 8035.
45. M. Leskelä, M. Ritala Thin Solid Films, 2002, 409, 138.
46. M. Ritala, and M. Leskelä, in Handbook of Thin Film Materials, ed. H.S. Nalwa, Academic Press, New York, 2002, vol. 1, pp. 103-159
47. M. Lindblad, S. Haukka, A. Kytökivi, E.-L. Lakomaa, A. Rautiainen, T. Suntola Appl. Surf. Sci., 1997, 121-122, 286.
48. M. Kemell, V. Pore, M. Ritala, M. Leskelä, M. Lindén J. Am. Chem. Soc., 2005, 127, 14178.
49. T. Suntola Thin Solid Films, 1992, 216, 84.
50. R. Matero, A. Rahtu, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara Thin Solid Films, 2000, 368, 1.
51. M. Ylilammi, T. Ranta-aho Thin Solid Films, 1993, 232, 56.
52. R. Swanepoel J. Phys. E: Sci. Instrum., 1983, 16, 1214.
53. Y. Paz, Z. Luo, L. Rabenberg, A. Heller J. Mater. Res., 1995, 10, 2842.
54. P. Sawunyama, L. Jiang, A. Fujishima, K. Hashimoto J. Phys. Chem. B, 1997, 101, 11000.
55. V. Pore, M. Ritala, M. Leskelä Chem. Vap. Deposition, in press
56. International Centre for Diffraction Data (ICDD), Card 21-1272
57. International Centre for Diffraction Data (ICDD), Card 21-1276
58. International Centre for Diffraction Data (ICDD), Card 29-1360
59. J. Aarik, A. Aidla, V. Sammelselg, H. Siimon, T. Uustare J. Cryst. Growth, 1996, 169, 496.
60. NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database, Version 3.4, http://srdata.nist.gov/xps
61. G. Hyett, M. Green, I. P. Parkin J. Am. Chem. Soc., 2006, 128, 12147.
62. V. Pore, A. Rahtu, M. Leskelä, M. Ritala, T. Sajavaara, J. Keinonen Chem. Vap. Deposition, 2004, 10, 143.
63. S. Ruppi, A. Larsson Thin Solid Films, 2001, 388, 50.
64. M. Fink, J. Laimer, H. Störi, C. Mitterer Surf. Coat. Technol., 2005, 200, 360.
65. G. Colón, M. C. Hidalgo, J. A. Navío Appl. Catal., B, 2003, 45, 39.
66. X. Bokhimi, A. Morales, E. Ortíz, T. López, R. Gómez, J. Navarrette J. Sol-Gel Sci. Technol., 2004, 29, 31.
67. E. Barraud, F. Bosc, D. Edwards, N. Keller, V. Keller J. Catal., 2005, 235, 318.
68. G. Colón, M. C. Hidalgo, G. Munuera, I. Ferino, M. G. Cutrufello, J. A. Navío Appl. Catal., B, 2006, 63, 45.
69. F. Jiang, Z. Zheng, Z. Xu, S. Zheng, Z. Guo, L. Chen J. Hazard. Mater., 2006, 134, 94.
70. Y.-H. Xu, L.-Y. Wang, Q. Zhang, S.-J. Zheng, X.-J. Li, C. Huang Mater. Chem. Phys., 2005, 92, 470.
71. A. Mills, J. Wang J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 182, 181.